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博士克里希纳·基肖尔·穆加达
• 10 天 GIAN 课程，主题是科学和工程中的计算方法和并行处理，2017 年 12 月 20 日至 2017 年 12 月 30 日，NIT Warangal 机械工程系。 • 5 天 GIAN 课程，主题是焊接冶金学和有色合金的可焊性，2017 年 12 月 11 日至 2017 年 12 月 15 日，IIT Madras 冶金与材料科学工程系。 • 5 天 GIAN 课程，主题是不锈钢的焊接冶金学和可焊性，2017 年 12 月 11 日至 2017 年 12 月 15 日，IIT Madras 冶金与材料科学工程系。 • SERB 学校晶体纹理，2017 年 10 月 3 日至 2017 年 10 月 7 日，IIT Bombay 冶金工程与材料科学系。 • 材料特性 TEM 和 HRTEM 短期课程 (TEM/HRTEM- 2017)，2017 年 9 月 18 日至 22 日，IIT 坎普尔材料科学与工程系。 • NRC-M 材料纹理研讨会，2015 年 2 月 15 日至 19 日，IISC-班加罗尔材料系。
体超导铟对一维锌超导纳米线超导电性的抑制效应'
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即时发表经办代理: David Moreno (大卫穆锐农) Open Sky ...
业界精英调查其它要点（ 2024 年 7 月进行） - 74% 的受访者认为，曲线形状的 逆向 光刻技术（ curvilinear ILT ）对非 EUV 的 193i 前沿节点有 用 —— 其中 29% 的人强烈同意这一说法，而去年这一比例为 24% 。 - 55% 的受访者表示，前沿节点的一些关键层已经在使用 逆向 光刻技术（ ILT ），这一比例较去 年的 46% 和两年前的 35% 有所上升。 - 光罩制造中的软件基础设施仍然是生产曲线形状光罩的最大挑战。 - 对深度学习应用的预测有所延迟，今年有 54% 的受访者预测深度学习将在 2025 年之前成为 光罩制造过程中任何环节的竞争优势，而去年这一预测为 2024 年。 “ 我们期待在 SPIE 光罩技术会议期间度过激动人心的一周，届时 eBeam Initiative 将举办第 15 届年度光罩会议，展示半导体生态系统对这一合作论坛的持续支持， ”eBeam Initiative 的 的主办 管理公司 D2S 的首席执行官 藤村 (Aki Fujimura) 表示。 “ 现在是加入光罩行业的绝佳时机，近年 来该行业取得了强劲增长 —— 这证明了光罩社区内杰出人才的贡献，也彰显了该行业在推动半 导体创新方面的重要性。今年 eBeam Initiative 业界精英 调查的绝大多数参与者 —— 他们代表了 行业内顶尖的商业和技术专家 —— 都认为这一增长趋势将在 2024 年继续，这无疑是个好消息。 ” About The eBeam Initiative 关于 eBeam Initiative （电子束倡议团） eBeam Initiative 是一个致力于推广和倡导电子束技术在半导体制造全新应用的团体；为有关 电 子束技术的教育和促进活动 提供相应的论坛。 eBeam Initiative 的目标是增加电子束技术应用在 半导体制造各领域中的投资；降低电子束技术应用的障碍，能够使更多集成电路设计完成，并 且更快投进市场成为可能。会员公司 , 涵盖整个半导体生态系统，包括 : aBeam Technologies; Advantest; Alchip Technologies; AMD; AMTC; Applied Materials; Artwork Conversion; ASML; Averroes.ai; Cadence Design Systems; Canon; CEA-Leti; D 2 S; Dai Nippon Printing; EQUIcon Software GmbH Jena; ESOL; EUV Tech; Fractilia; Fraunhofer IPMS; FUJIFILM Corporation; Fujitsu Semiconductor Limited; GenISys GmbH; GlobalFoundries (GF); Grenon Consulting; Hitachi High-Tech Corporation; HJL Lithography; HOLON CO., LTD; HOYA Corporation; IBM; imec; IMS CHIPS; IMS Nanofabrication AG; JEOL; KIOXIA; KLA; Micron Technology; Multibeam Corporation; NCS; NuFlare Technology; Petersen Advanced Lithography; Photronics; QY Mask; Samsung Electronics; Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation (SMIC); Siemens EDA; STMicroelectronics; Synopsys; TASMIT; Tokyo Electron Ltd. (TEL); TOOL Corporation; Toppan Photomask Corporation; UBC Microelectronics; Vistec Electron Beam GmbH and ZEISS. eBeam Initiative 面向和欢迎所有电子工业的公司和协会加盟。细节请查看 www.ebeam.org .
蒙塔纳 - 消费者向导到网格相互作用 - 摩尔-PV- ...
感谢您对太阳能光伏（PV）技术的兴趣，并花时间阅读此出版物。信息是考虑太阳能光伏系统的消费者的主要资源和实用指南。该出版物集中在网格相互作用的太阳能光伏系统上，并具有三个主要部分，对于理解太阳能PV至关重要。他们是；捕获阳光，指导和转移产生的光伏电力，并在网格相互作用的框架内利用电力。该消费者指南不是技术手册，而是代表购买和安装安全且生产效率的PV系统所必需的因素，选项和决策步骤。
三维导电聚合物微纳电极在脑类器官研究中的应用与展望
在脑类器官中[58]。 （f）TPP制造光子晶体微纳米传感单元[59]。 （g）成像在脑类器官中[58]。（f）TPP制造光子晶体微纳米传感单元[59]。（g）成像
不同取向B2 结构FeAl 合金纳米线弯曲行为的分子动力学模拟*
（b），6.000 nm（c），8.900 nm（d）和9.300 nm（e），其中颜色表示不同的局部晶体结构：蓝色-BCC，绿色-FCC，RED-HCP和White-Inninnown； （f）在1860 PS和d = 9.300 nm的纳米线内的应变分布，其中原子是通过其局部剪切应变颜色的。
纳夫鲁佐夫 NI，埃尔穆罗多夫 BA
引言农业在我国经济中占有特殊地位，国家高度重视该行业的发展。畜牧业是农业的主要部门，其发展和效率的提高取决于多种因素，如增加牲畜数量、提高生产力、获得健康的幼崽、适当的维护以及预防各种传染性和侵入性疾病。牲畜传染病是牲畜的主要危险因素。大肠杆菌病在幼崽中尤为常见，会造成巨大的经济损失。根据 BF Bessarabov 和 ES Voronin（2007）的研究，大肠杆菌病在美国幼崽中的发病率为 13–50.8 %，加拿大为 11–29 %，荷兰为 6 %，法国为 58 %，英国为 4 %，澳大利亚为 6 %，以色列为 6–47 %。
