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边缘粗糙度对磁隧道结电阻和开关电压的影响
摘要 — 我们使用非平衡格林函数形式研究了边缘粗糙度对磁隧道结电传输特性的影响。我们将边缘粗糙度建模为磁隧道结横截面轮廓的随机变化，其特征是相关函数的拉伸指数衰减。形状和尺寸的随机变化改变了横向能量模式轮廓，并导致磁隧道结的电阻和开关电压发生变化。我们发现，由于量子限制效应，随着磁隧道结尺寸缩小，变化会变得更大。提出了一种模型，通过将横截面几何形状近似为具有相同横截面积的圆来有效计算边缘粗糙度效应。可以通过将横截面积近似为椭圆来获得进一步的改进，其纵横比由对应于 2D 横截面的第一个横向特征值确定。这些结果将有助于可靠地设计具有超小磁隧道结的自旋转移力矩磁性随机存取存储器（STT-MRAM）。
表面纹理化和功能涂层的有效结合，适用于极低二次电子产额表面和粗糙非蒸散性吸气剂膜
电子诱导的电子发射通常用二次电子产额 (SEY) 来量化，有时也称为总电子产额 (TEY)。低 SEY 材料或表面旨在减少航天器和卫星的表面充电 [1,2] 以及减轻粒子加速器中电子云的形成。[3–7] 几十年来，为了满足不断发展的技术需求，人们在元素材料表面和化合物中 [7–17] 深入研究了二次电子产额的一次电子能量依赖性以及发射电子的动能分布。对于许多应用，低于 1 的 SEY 最大值足以避免撞击电子的级联倍增。然而，对于其他解决方案而言，进一步降低 SEY 可能会有所帮助，以抑制可能产生背景噪声或使测量信号恶化的反射、背散射和二次电子，例如在电子收集器中，用于测量超高真空 (UHV) 中的低电子电流或用于基于电离的压力计。[18,19]
使用优化阈值差异算法和粗糙集从磁共振图像中分割脑肿瘤
摘要 - 本研究提出了一种使用所提出的优化阈值差异 (OTD) 和粗糙集理论 (RST) 自动分割脑肿瘤的有效方法。使用所提出的两级分割算法确定肿瘤区域。第一级，即创建叠加图像，它是初始阶段分割的脑区所有像素的强度平均值。然后是第二级，其中根据指定的阈值在脑区和叠加图像之间应用阈值差异处理。使用灰度共生矩阵 (GLCM) 从分割图像中提取特征。为了提高性能，对提取的特征采用了 RST。使用 Figshare 开放数据集验证了完全自动化的方法。
摩擦学涂层的表面表征：磨损特性，厚度和粗糙度
我们的研究重点是改善钻石（例如碳（DLC）涂层）的摩擦力特性，该特性由新型PVD技术高功率脉冲磁铁溅射（HIPIMS）沉积，并在工具钢上呈阳性脉冲。这些涂层由于其非凡的特性而引起了行业的极大兴趣：出色的耐磨性，非常低的摩擦系数，出色的硬度或生物相容性。这些研究的目的是改善不同钢底物上DLC涂层的摩擦力特性，例如粘合剂或耐磨性。
定量打击乐诊断，用于评估冷喷涂和激光沉积材料的孔隙率和表面粗糙度
定量打击乐诊断（QPD）是最近使用PerientoMeter®仪器（Curmetrics LLC，Los Angeles，CA）形成的最近开发的非破坏性测试（NDT）方法。这种测试方式已用于检测和定量分析整体迁移率以及细节缺陷的存在，例如与牙齿[1]和牙科植入物相关的裂纹[2，3]。QPD的有效性也已被证明可以检测到层压板结构中的弱“亲吻”键[4，5]。QPD测试系统由一个探针组成，该探针包含一个被启用的力传感器，该探针被启用以敲击规格。在探针对试样的打击乐后，杆中的压电传感器记录了力时间数据。这种相对较低的撞击会在标本中产生最大应力，而这种应力是无损的。在标本的特征上，每种打击乐的实力时间验证是在杆与试样接触的0.2 E 0.4 ms上记录的。与打击乐探针相连的计算机中的软件确定了每次进行测量时测量的力与10个打击乐器的时间返回到杆的机械能[4 E 6]。图1显示了当前QPD测试系统的示意图。归一化能量返回（NER），即将机械能返回到杆撞击前的杆的动能，作为QPD测试结果，将其绘制在撞击前的杆的动能。返回的机械能被定义为将力平方除以测量该力的打击乐杆中传感器的动态刚度。ner和时间可用于确定损失系数，一个阻尼参数，显示结构中的总能量耗散以及正常拟合误差（NFE），该参数表明裂纹的存在和严重程度和其他缺陷缺陷[1 E 4，6 E 9]。NER的较低振幅可以表明由于严重的缺陷或结构中有较高数量的特定缺陷（例如孔隙率）而导致结构的能量更多。
抛光纳米填充和纳米混合树脂复合材料的表面粗糙度和光泽度
背景/目的：关于新推出的纳米填充和纳米混合复合材料的可抛光性的文献有限。本研究旨在通过测量表面粗糙度和光泽度值来评估纳米填充和纳米混合复合材料的可抛光性，并探索体外抛光前后复合材料的表面质量。材料和方法：选择一种纳米填充树脂复合材料、两种纳米混合树脂复合材料和一种微混合树脂复合材料。所有样品均在赛璐珞基质条上进行光固化。然后测试表面粗糙度 (Ra) 和光泽度 (GU) 值作为阴性对照。用 600 粒度碳化硅纸将样品打毛 30 秒作为阳性对照，然后用 Sof-Lex 抛光盘系统进行抛光。用轮廓仪和小面积光泽度计测量每个步骤的平均 Ra 和 GU 值。通过扫描电子显微镜观察表面质量。结果：抛光表面的 Ra 值显著高于阴性对照且低于阳性对照（P < 0.05）。所有材料在抛光后的 Ra 值均无显著差异（P > 0.05）。抛光表面的 GU 值显著低于阴性对照且高于阳性对照（P < 0.05）。抛光后，微混合树脂复合材料的 GU 值低于纳米填充和纳米混合树脂复合材料组。SEM 图像显示表面纹理和不规则性与表面粗糙度和光泽度的结果相对应。结论：使用 Sof-Lex 盘系统抛光后，纳米填充、纳米混合和微混合复合材料之间的表面粗糙度没有显著差异。微混合复合材料的光泽度值低于纳米填充和纳米混合树脂复合材料。ª 2021 中华民国牙科科学协会。由 Elsevier BV 提供出版服务 本文为一篇根据 CC BY-NC-ND 许可协议 ( http://creativecommons. org/licenses/by-nc-nd/4.0/ ) 开放获取的文章。
Cu靶垫粗糙度和溶液流对生长模式的影响以及电气Cu膜中的空隙形成
摘要 - 研究了Cu靶垫粗糙度对来自两个不同CU浴的Electrols Cu的生长模式的影响，其浴A具有基于氰化物的基础，而Bath B Bath B Bath B Bath B Bath B Bath B Bath Bath Bate Bate Bate Bate Bate Base Base Base stobilizer System。两个浴室通常在PCB行业中使用。在BATH B的情况下，对于高于R A 5 300 nm高的平均目标垫粗糙度，观察到了两种生长模式。第一个模式是次级Cu下形态学的复制，而第二种模式则主要在底物晶体的暴露位点形成球形晶粒（Cu结节）。这些Cu结节通常具有与纳米类动物朝向其碱基的theefthed Electrolesscuthickness和Containa高密度相当的半径。相关的空隙形成似乎与弱盲菌中的CU/CU/CU互连相关。有趣的是，对于基于氰化物的浴A形成结节的趋势被广泛抑制，而基于氰化物的浴则是对目标垫粗糙度的nododule nodoul nodoul nodoup nodoup to y 5 1,000 nm。当研究溶液输送和交换时，很明显，较低的汇率会对电气cu的沉积产生负面影响，即使表现出的粗糙度值也可能表明，也可以预期具有不良结节和空隙的结果。
添加剂制造设计中的表面粗糙度考虑 - 文献评论
1介绍为响应0.8°C的全球变暖，在20世纪，海平面上升的速度大约增加了两倍。自卫星测量开始以来，海平面以每年3.4毫米的速度上升，比平均水平快80％。气候变化的政府间小组（IPCC）每年1.9毫米的模型投影（Rahmstorf，2010年）。这种情况背后的主要原因是温室气体的增长和导致的气候变化。这种海利升高正在在世界范围内寻求更多关注，因为许多国家尤其是岛屿地区遭受了很多影响。对于海岸或海上附近的土地，必须面临诸如更大的潮汐范围，特别是百年潮汐的问题，将导致定期洪水，以破坏非盐水栖息地。海水洪水的频率和幅度增加也有望在全球气候变化中更为普遍。海平面上升也将增加沿海侵蚀和盐水侵入。此外，海岸线撤退还将导致沿海的人为活性大量位移，这将导致进一步的内陆栖息地损失（Nerem等，2018）。在这种情况下，我们已经考虑了印度拉克沙德普（Lakshadweep）（UTL）的一个岛屿，名为Kavaratti。Lakshadweep（UTL）的联盟领土是印度的孤独环礁岛连锁店。Lakshadweep群岛涉及印度洋最广泛的珊瑚礁和环礁框架，就像地球上最大的环礁框架一样。除了持有巨大的有机品种并成为渔业库存的有利地点外，珊瑚礁还作为“针对海洋洪水和岛上暴风雨的“特征性保障组成部分”。