我们描述了如何将轴棱镜和透镜直接组合起来,为激光材料加工应用提供简单而有效的光束整形解决方案。我们产生了 1550 nm 的高角度伪贝塞尔微光束,这很难通过其他方法产生。结合飞秒脉冲的适当拉伸,我们可以获得半导体内部的优化条件,从而开发出高纵横比折射率写入方法。使用超快显微镜技术,我们用 200 fs 和 50 ps 脉冲表征了硅内部传递的局部强度和触发的电离动力学。虽然两种情况下产生的等离子体密度相似,但我们表明,重复的皮秒辐照会在激光束方向上自发地产生永久性的改变,从前表面损伤到辐照硅晶片的背面。与当今为电介质演示的直接微爆炸和微通道钻孔条件类似的条件仍然无法实现。尽管如此,这项工作证明了能量密度高于以前在半导体中实现的水平,并且是一种新颖的冲击写入模式,可以在硅中创建长宽比超过 ~700 的结构,而无需任何光束运动。沿观察到的微等离子体通道估计的电导率瞬态变化和测量的接近光速的电离前沿支持了在 GHz 重复率下光学可控的垂直电连接的设想。根据测量的超过 10 −2 的正折射率变化,通过冲击写入获得的永久性硅改性是光导结构。这些发现为电气和光学硅通孔的独特单片解决方案打开了大门,而硅通孔是 3D 芯片堆栈中垂直互连的关键元件。
我们描述了如何将轴棱镜和透镜直接组合起来,为激光材料加工应用提供简单而有效的光束整形解决方案。我们产生了 1550 nm 的高角度伪贝塞尔微光束,这很难通过其他方法产生。结合飞秒脉冲的适当拉伸,我们可以获得半导体内部的优化条件,从而开发出高纵横比折射率写入方法。使用超快显微镜技术,我们用 200 fs 和 50 ps 脉冲表征了硅内部传递的局部强度和触发的电离动力学。虽然两种情况下产生的等离子体密度相似,但我们表明,重复的皮秒辐照会在激光束方向上自发地产生永久性的改变,从前表面损伤到辐照硅晶片的背面。与当今为电介质演示的直接微爆炸和微通道钻孔条件类似的条件仍然无法实现。尽管如此,这项工作证明了能量密度高于以前在半导体中实现的水平,并且是一种新颖的冲击写入模式,可以在硅中创建长宽比超过 ~700 的结构,而无需任何光束运动。沿观察到的微等离子体通道估计的电导率瞬态变化和测量的接近光速的电离前沿支持了在 GHz 重复率下光学可控的垂直电连接的设想。根据测量的超过 10 −2 的正折射率变化,通过冲击写入获得的永久性硅改性是光导结构。这些发现为电气和光学硅通孔的独特单片解决方案打开了大门,而硅通孔是 3D 芯片堆栈中垂直互连的关键元件。
摘要简介:本研究旨在评估基于光生物调节 (PBM) 的颅脑红外激光刺激 (TILS) 对创伤性脑损伤 (TBI) 患者进行的安全性和可能的治疗效果。方法:11 名参与者经委员会认证的神经病学家进行全面神经系统检查和 MRI 评估后被诊断为 TBI,他们使用 Cytonsys CytonPro-5000 仪器(引导激光控制,聚焦波长为 1064 nm,最大输出功率为 10W,最大光功率密度为 500 mW/cm 2,有效面积直径为 4.5 cm 2)完成了 5 到 8 次 20 分钟的 TILS 疗程。每次 TILS 疗程中,参与者使用预先确定的患者特定坐标接受 250 mW/cm 2 连续激光波照射每个半球。结构成像用于对额叶皮质(Brodmann 区域 10)中的个体治疗目标进行神经导航。本研究的主要安全措施是发生不良事件 (AE) 或严重不良事件 (SAE)。主要疗效结果测量是参与者评定的干预后总体变化评分 (GRC)。次要结果测量包括干预前后进行的一系列神经心理学测试和情绪问卷。结果:参与本研究方案的所有患者均能耐受研究程序,未发生任何 AE 或 SAE。11 名参与者中有 9 名的 GRC 评分有临床显著改善 (≥ + 2)。神经心理学测试和情绪问卷结果也表明了积极的治疗效果。结论:本研究为 TILS 作为 TBI 患者非侵入性临床干预措施的安全性和潜在有效性提供了初步证据。关键词:创伤性脑损伤;经颅红外激光刺激;近红外光疗法;脑刺激。
摘要 强太赫兹 (THz) 电场和磁瞬变开辟了科学和应用的新视野。我们回顾了实现具有极端场强的亚周期 THz 脉冲最有希望的方法。在双色中红外和远红外超短激光脉冲的非线性传播过程中,会产生长而粗的等离子体串,其中强光电流会导致强烈的 THz 瞬变。相应的 THz 电场和磁场强度分别可能达到千兆伏每厘米和千特斯拉的水平。这些 THz 场的强度使极端非线性光学和相对论物理学成为可能。我们从光物质与中红外和远红外超短激光脉冲相互作用的微观物理过程、这些激光场非线性传播的理论和数值进展以及迄今为止最重要的实验演示开始,进行了全面的回顾。
b'在室温下,已证实 GaN 半导体中 1.5 \xce\xbc m 电信波长的稀土激光作用。我们已报道了在上述带隙激发下,通过金属有机化学气相沉积制备的 Er 掺杂 GaN 外延层产生的受激发射。使用可变条纹技术,已通过发射强度阈值行为作为泵浦强度、激发长度和光谱线宽变窄的函数的特征特征,证实了受激发射的观察。使用可变条纹设置,在 GaN:Er 外延层中已获得高达 75 cm 1 的光增益。GaN 半导体的近红外激光为光电器件的扩展功能和集成能力开辟了新的可能性。'
对远程发声器的要求在需要较细的网格网格的驱动下,以获取更多本地信息高分辨率(地理,海拔,垂直,辐射和频谱)成本效益,紧凑的仪器=>激光官方隔离式辐射计(LHR)