在过去的几十年中,数字和模拟集成电路的集成密度和性能经历了一场惊人的革命。虽然创新的电路和系统设计可以解释这些性能提升的部分原因,但技术一直是主要驱动力。本课程将研究促成集成电路革命的基本微制造工艺技术,并研究新技术。目标是首先传授构建微型和纳米器件的方法和工艺的实际知识,然后教授将这些方法组合成可产生任意器件的工艺序列的方法。虽然本课程的重点是晶体管器件,但许多要教授的方法也适用于 MEMS 和其他微型器件。本课程专为对硅 VLSI 芯片制造的物理基础和实用方法或技术对器件和电路设计的影响感兴趣的学生而设计。30260133 电子学基础 3 学分 48 学时
>s lurncnt,I lnlroJut。:tion,剪切力和D�1h.l i ng剪切力和弯矩的微分方程,静定梁的剪切力和弯矩图。桁架:介绍,简单桁架和简单桁架的解决方案,截面法;接头法;如何确定构件是处于拉伸还是压缩状态;简单桁架;零力构件质心和惯性矩:介绍,平面,曲线,面积,体积和复合体的质心,平面面积的惯性矩,平行轴定理和垂直轴定理,复合体的惯性矩。运动学和动力学:线性运动、瞬时中心、达朗贝尔原理、刚体旋转、冲量和动量原理、功和能量原理。简单应力和应变:应力的定义、应力张量、轴向载荷构件的法向应力和剪应力、应力-应变关系、延性和脆性材料单轴载荷的应力-应变图、胡克定律、泊松比、剪应力、剪应变、刚度模量、弹性常数之间的关系。不同横截面构件的一维载荷、温度应力、应变能。
AD 设备 23.1 AD 设备 23.1 AD 为配备无线电的 ACFT 保留。AD 为配备无线电的 ACFT 保留。PCL 在 ATS SKED 之外,在前一天或最后工作日的 15:30 之前在 PPR AFIS 上。PCL 在 ATS HOR 之外,在前一天或最后工作日 15:30 之前在 PPR AFIS 上。进近时使用 PCL:3 次点击。PCL 使用方法:3 个交替笔画。激活闪光灯:点击 5 次。闪光灯激活:5次交替闪烁。熄灯:7 次点击。标记的消失:7 个交替的笔画。地址: 地址: - 电话: 02 54 20 17 17.- 电话:02 54 20 17 17.- PCL 3 次点击。- PCL 3 个交替笔画。— 仅限 HN。— 仅限 HN。前一天或最后一个工作日 15:30 之前 PPR AFIS。前一天或最后工作日 15:30 之前 PPR AFIS。可用数据:可用参数:风、仪器能见度、云量、T°、DP、QNH、QFE、其他。风、仪器能见度、云量、T°、DP、QNH、QFE、各种信息。
我在纽约州立大学奥斯威戈分校完成了生物化学学士学位,并参与了多个研究项目。其中一个项目是在 Peter D. Newell 博士的指导下研究宿主环境中醋酸杆菌和乳酸杆菌之间的相互作用。在另一个项目中,我在 Nin N. Dingra 博士的监督下专注于开发新型 CO 释放分子,这些分子可以在临床环境中以低毒性释放 CO。毕业后,我从事了两个不同的研究项目。首先,在 Kestutis Bendinskas 博士的帮助下,我测量了人类样本中的生物标志物,例如白细胞介素 6 (IL-6)、TNF Alpha、细胞间粘附分子 1 (sICAM-1) 和 C 反应蛋白 (CRP),以了解假期对压力水平的影响。此外,我还与 Webe Kadima 博士一起研究了刚果的一种树 Musanga cecropioides 对磷酸烯醇式丙酮酸羧激酶 (PEPCK) 的抑制作用,以开发一种对 2 型糖尿病副作用最小的植物疗法。
MD. FATIN ISHRAQUE 助理教授,孟加拉国帕布纳科技大学(PUST)电气、电子与通信工程(EECE)系,帕布纳 6600。邮箱:fatineeeruet@gmail.com;fatin@pust.ac.bd;现住址:孟加拉国帕布纳 Monsurabad R/A,GA 区,5 号路,174 号楼。永久地址:孟加拉国朗布尔,5400,朗布尔萨达尔,Khalifapara,17 号病房,651/006 号楼。手机:+8801712501856 Google Scholar 链接:https://scholar.google.com/citations?user=rhfdJuYAAAAJ&hl=en ORCID ID:0000-0003-0863-5169 LinkedIn ID:https://www.linkedin.com/in/fatineee ResearchGate 个人资料:https://www.researchgate.net/profile/Md- Ishraque Scopus 个人资料:https://www.scopus.com/authid/detail.uri?authorId=57215128649