在过去的几十年中,数字和模拟集成电路的集成密度和性能经历了一场惊人的革命。虽然创新的电路和系统设计可以解释这些性能提升的部分原因,但技术一直是主要驱动力。本课程将研究促成集成电路革命的基本微制造工艺技术,并研究新技术。目标是首先传授构建微型和纳米器件的方法和工艺的实际知识,然后教授将这些方法组合成可产生任意器件的工艺序列的方法。虽然本课程的重点是晶体管器件,但许多要教授的方法也适用于 MEMS 和其他微型器件。本课程专为对硅 VLSI 芯片制造的物理基础和实用方法或技术对器件和电路设计的影响感兴趣的学生而设计。30260133 电子学基础 3 学分 48 学时
1.设计和开发3D打印的握把,Damjan Pecioski,Albion Shaipi和Dejan Shishkovski(78)2。对不同形式的磨床和媒体的比较分析,包括球磨坊中的创新型,包括球磨坊中的创新型,米格雷纳·帕内瓦,米格纳·帕内瓦,彼得·帕内瓦和尼基米诺夫(Perter Paneva and Nikolay stoimery and Nikolay stoemers and 102)。通过虚拟原型,Todor Todorov,Georgi Todorov和Yavor Sofronov(171)的精确指标(171)4。使用低代数开发平台对过程驱动的应用程序进行案例研究:来自希腊公共部门的案例研究,Marios Konstantinos gialitakis,Nikias and Nikolaos and George and George and tsidege and tsegore and tsegore nousid and tsidege, (74)
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在脑类器官中[58]。 (f)TPP制造光子晶体微纳米传感单元[59]。 (g)成像在脑类器官中[58]。(f)TPP制造光子晶体微纳米传感单元[59]。(g)成像
(b),6.000 nm(c),8.900 nm(d)和9.300 nm(e),其中颜色表示不同的局部晶体结构:蓝色-BCC,绿色-FCC,RED-HCP和White-Inninnown; (f)在1860 PS和d = 9.300 nm的纳米线内的应变分布,其中原子是通过其局部剪切应变颜色的。
和在西瓦利克地区(印度)矿化区域中陆生放射性核素和重金属的污染风险评估。Chemosphere,254,126857。DOI:10.1016/j.chemosphere.2020.126857。(如果:8.8,Scopus/WOS),期刊等级:Q1(化学(其他),环境化学,环境工程,健康,毒理学和诱变,医学(杂项),污染,公共卫生,环境和职业健康),等级19/98,(环境化学)。研究文章[国家期刊]:
获得有意义读数的重要说明 ...... .. .. .. .. .. .. .. .. . .. . . . . . . . . . . . . . . . . . . .......4 测量血压 ............5 – 7 提示 ......。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。.......8 故障、原因及纠正 ..............9 维护和储存 ...。。。。。。。。。。。。。。。。.10 技术数据。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。.11 备件 .。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。.12 保修卡。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。.13 有关血压的一些有用信息。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。.15 – 16