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(b),6.000 nm(c),8.900 nm(d)和9.300 nm(e),其中颜色表示不同的局部晶体结构:蓝色-BCC,绿色-FCC,RED-HCP和White-Inninnown; (f)在1860 PS和d = 9.300 nm的纳米线内的应变分布,其中原子是通过其局部剪切应变颜色的。
在过去的几十年中,数字和模拟集成电路的集成密度和性能经历了一场惊人的革命。虽然创新的电路和系统设计可以解释这些性能提升的部分原因,但技术一直是主要驱动力。本课程将研究促成集成电路革命的基本微制造工艺技术,并研究新技术。目标是首先传授构建微型和纳米器件的方法和工艺的实际知识,然后教授将这些方法组合成可产生任意器件的工艺序列的方法。虽然本课程的重点是晶体管器件,但许多要教授的方法也适用于 MEMS 和其他微型器件。本课程专为对硅 VLSI 芯片制造的物理基础和实用方法或技术对器件和电路设计的影响感兴趣的学生而设计。30260133 电子学基础 3 学分 48 学时
图3:(A-B)基于Si Nanonet的两个可能的晶体管配置的方案:(a)多平行 - 通道FET(MPC-FET)和(b)nanonet-fet(nn-fet)。对于MPC-FET,电流可以直接流过SINW,直接桥接源和排水管,而对于NN-FET,电流必须通过涉及SINWS和SINW/SINW连接的渗透路径流动。对应于源量距离的通道长度(L C)从5 µm到100 µm不等,而通道宽度(W C)固定为200 µm。(c)用10 ml胶体SINW悬浮液详细阐述的典型Si纳米纳特的SEM图像,对应于0.23NWS.μm-2的密度。(d)处理后Si Nanonet磁场效应晶体管的SEM顶视图。200 µm x 200 µm正方形对应于源/排水接触板。
使它们适合于纳米素质,纳米传感,纳米电子等学科等。[5]。有许多类别的纳米线,根据其组成,结构和特性进行分组。•半导体纳米线:这些是使用硅,硝酸盐或氧化锌等半导体材料生产的,并在电子和光子学中广泛使用,用于半导体,太阳能电池,太阳能电池和光发射diodes(LEDS)等。[6]。•金属纳米线:这些由金,银或铜等金属元素组成,并用于导电电极/膜等应用中,作为化学过程的催化剂等。[7]。•氧化物纳米线:这些纳米线是使用金属氧化物(如二氧化钛或氧化铁)产生的,并用作传感器,催化剂和基于能量的储存电子[8]。•碳纳米管:具有类似于纳米线的特性的空心纳米结构。他们在电子,材料科学和生物医学工程中有应用[9]。•混合纳米线:这些由不同的
纳米线中的 GaAs 量子点是可扩展量子光子学最有希望的候选者之一。它们具有出色的光学特性,可以频率调谐到原子跃迁,并为制造多量子比特设备提供了强大的平台,有望释放量子点的全部技术潜力。相干共振激发对于几乎任何实际应用都是必要的,因为它允许按需生成单个和纠缠光子、光子簇状态和电子自旋操纵。然而,这种激发方案下的纳米线结构的发射从未被证实过。在这里,我们首次展示了通过共振双光子激发和共振荧光从 AlGaAs 纳米线中外延生长的 GaAs 量子点实现双激子 - 激子级联发射。我们还报告说,共振激发方案与带隙以上激发相结合,可用于清洁和增强纳米线量子点的发射。
基于纳米晶的超导电子产品的发展迄今已限制在很少的设备电路上,部分原因是缺乏标准和健壮的逻辑细胞。在这里,我们介绍并实验展示了一组基于纳米晶的构件的设计,这些块可以配置并组合以实现内存和逻辑功能。通过对硝化氮化物的单个超导层进行图案制造设备,并在液态氦气中测量各种操作点。测试显示10 4位错误率,高于6 20%的边距高达50 MHz,并且在平面外36 MT磁场的效果下运行的可能性,在10 MHz时为6 30%的边缘。此外,我们设计并测量了由两个存储单元制成的等效延迟流量,以显示组合多个构件以制造更大电路的情况。这些块可能构成了纳米晶逻辑电路和有限状态机器的开发,具有潜在的应用在超导纳米导体单光子探测器中的潜在应用。
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