我们如何进入LCA,我们的目标是评估Aurubis Rod I Rheinrod的环境概况,并允许跟踪进度和进一步的改进。Aurubis从其自身的阴极以及第三方的原材料中生产其线条杆。Aurubis Rod I Rheinrod的LCA结果在很大程度上取决于上游铜阴极的环境特征。自2013年以来,铜阴极的碳足迹下降了40%,比所有铜冶炼厂和炼油厂的全球平均水平低60%。只有在达到雄心勃勃的环境标准的措施中进行的重大投资才能取得的改进。
EUV 光刻技术是解决先进技术节点关键尺寸的主流技术,目前处于 18nm 及以下的范围内 [1]。EUVL 首次应用于制造领域,利用的是化学放大光刻胶 (CAR) [2]。在 ArF 和 ArF 浸没式光刻中,CAR 的过滤(无论是在本体还是在使用点 (POU))已证明对减少微桥起着重要作用,主要是通过去除硬颗粒和凝胶 [3-6]。对于 ArFi,EUV 带来了新的挑战,不仅要达到所需的线条粗糙度、灵敏度和分辨率,还需要大幅减少线条塌陷、微桥和断线等缺陷。在这项研究中,它展示了利用新型 POU 过滤来调节微桥和实现卓越启动行为的能力,这两者对于实现大批量制造的 EUVL 都至关重要。在由 TEL CleanTrack LITHIUS Pro-Z 和 ASML NXE:3400B 组成的 imec EUV 集群上测试了不同的 POU 过滤器。通过测量冲洗溶剂体积与 19nm 大小的缺陷之间的函数关系来评估启动性能,结果表明可以快速达到稳定的基线。使用市售光刻胶进行的光刻实验旨在降低晶圆缺陷率,实验结果一致表明,在 16nm L/S 测试载体上,光刻胶显影后 (ADI) 和光刻胶蚀刻后 (AEI) 微桥显著减少。讨论了膜物理固有设计和新型清洁对 POU 设备的影响。关键词:EUV 光刻、微桥、POU 过滤
图形是在某些表面(例如墙壁、画布、电脑屏幕、纸张或石头)上进行的视觉呈现,用于品牌宣传、传达信息、说明或娱乐。例如照片、图画、线条艺术、图表、图解、排版、数字、符号、几何图案、地图、工程图或其他图像。图形通常结合文本、插图和颜色。图形设计可能仅包括刻意选择、创建或安排排版,如小册子、传单、海报、网站或书籍,而不包含任何其他元素。目标可能是清晰或有效的沟通,也可能寻求与其他文化元素的关联,或者仅仅是创造一种独特的风格。
图形是在某些表面(例如墙壁、画布、电脑屏幕、纸张或石头)上进行的视觉呈现,用于品牌宣传、传达信息、说明或娱乐。例如照片、图画、线条艺术、图表、图解、排版、数字、符号、几何图案、地图、工程图或其他图像。图形通常结合文本、插图和颜色。图形设计可能仅包括刻意选择、创建或安排排版,如小册子、传单、海报、网站或书籍,而不包含任何其他元素。目标可能是清晰或有效的沟通,也可能寻求与其他文化元素的关联,或者仅仅是创造一种独特的风格。
2 Kahneman(2011):“现在您已经测量了线条,您 - 您的系统2,有意识的是您称为'我 - 有一个新的信念:您知道行是平等的[…],但您仍然将底线视为更长的底线。您选择相信测量值,但您不能阻止系统1做事;尽管您知道它们是平等的,但您不能决定将线路视为平等。要抵制幻觉[…],您必须学会不信任鳍时对线条的印象。要实施该规则,您必须能够识别虚幻的模式并回忆您对此的了解。如果您可以做到这一点,那么您将永远不会被穆勒 - 莱er幻觉所欺骗。,但是您仍然会认为一行比另一行更长。”
平滑而自然的流动侧面轮廓具有光滑且空的流动,形成了独特的轿跑车状轮廓。整体侧视图是由生动而富有表现力的车身线条(如明显的双重腰线)以及低鼻孔的前罩,倾斜的A柱,圆形的屋顶,向下倾斜的快速背带以及略微上升的Ducktail Duckt Design设计的。从前引擎盖边缘延伸的水线线会产生前进的姿势,并在C柱后稍微举起。这还可以增强身体的整体流量并平衡窗户和身体之间的比例。肩线无缝连接
在 1997 年出版的第一期 FACTS 中,我们介绍了当时最新的钻头涂层 TINALOX®。十七年后,CemeCon 正在开发 HYPER-LOX® Plus——最新的钻头涂层,我们将在本期第 6 页和第 7 页向您介绍。与涂层的属性一致——光滑且普遍适用——我们还改进了 FACTS 的布局。我们希望通过使用明亮、有吸引力的颜色和清晰的线条来吸引人们对基本要素的关注:我们的优质涂层、高端技术和先进的应用。但是,那些想要提供优质产品的人也必须拥有优质的生产线。为此,CemeCon 已完全升级。您想知道如何升级吗?详细信息请参见第 18 页。