使用PALL的专有分子表面裁缝(MST)技术制造了Ultikleen G2 Excellar Erl滤波器介质。MST将非反馈特性授予PTFE膜,而无需在培养基表面添加化学层。膜内的超精细孔基质可显着改善颗粒的保留量,至15 nm。结果是一种可靠,可靠且化学清洁的过滤器,适合用于侵略性的高温清洁化学物质,包括Hot SPM,SC-1和SC-2等水性化学物质。
使用PALL的专有分子表面裁缝(MST)技术制造了Ultikleen G2 Excellar Erl滤波器介质。MST将非反馈特性授予PTFE膜,而无需在培养基表面添加化学层。膜内的超精细孔基质可显着改善颗粒的保留量,至15 nm。结果是一种可靠,可靠且化学清洁的过滤器,适合用于侵略性的高温清洁化学物质,包括Hot SPM,SC-1和SC-2等水性化学物质。