将抗菌特性掺入纺织品中是广泛追捧的方面,可以将银纳米颗粒(AGNP)用于此目的。在这项工作中,评估了将AGNP纳入棉布织物的策略。为此,提出了基于AGNPS和Kappa-Carragen(K-CA)复合材料的抗菌纺织品涂料。通过直接在K-CA溶液中加热银前体(AGNO 3)来获得一种用于纺织品烹饪的复合膜,以进行绿色合成和原位稳定AGNP。棉底物被添加到加热溶液中,以使其表面浸渍和冷却后的水凝胶膜形成。也已经测试了织物上AgNP的直接合成。结果表明,与受到直接AGNPS掺入的纺织品相比,K-CA/AGNPS复合涂层的应用可以达到织物表面上的银负荷的两倍以上。此外,水中的银释放试验表明,用K-CA/AGNP涂层的棉花达到了较高的Ag +水平。因此,使用琼脂扩散方法对金黄色葡萄球菌(SA)细菌进行接种试验表明,复合材料覆盖的材料导致抑制晕片明显更大。这表明将复合材料用作棉织物涂层改善了其针对SA的抗菌活性。关键字:抗菌织物; Kappa-Carragen;银纳米颗粒;棉布;纺织恢复。
摘要:在这里,我们报告了使用碱金属铝制凝胶膜的无氢,拓扑氧除外的技术的发展(a x alga,其中a = li,na,k)。这些汞合金提供了一个独特的可调系统,其中选择碱金属,其浓度和Al:GA组成改变了其还原性能。我们证明了这种方法在拓扑上从Lnnio 3(ln = la,nd)的大量和薄膜标本中去除氧的实用性,以形成镍lnnio 2(ln = la,nd)的无限层。例如,Na 0.25藻类在300°C下从LANIO 3提供120小时的散装lanio 2,而在265°C下,相同的汞合金持续48小时,可提供中级LA 2 Ni 2 O 5(LANIO 2.5)。时间和温度的其他变化以及碱金属(a)的选择及其在X藻类中的浓度(x),可以进一步探索拓扑还原性。与基于氢气或氢化物(例如Lih,nAh和cah 2)的标准技术相比,这些汞合金提供了降低潜力的优雅可调性,从而可以控制去除氧气的速率和程度,而无需氢插入的风险。■简介
1.引言在摩尔定律的驱动下,半个多世纪以来半导体产业一直致力于缩小特征尺寸。最近,13.5 纳米极紫外光刻 (EUVL) 技术已经应用于 5 纳米节点 HVM。由于目前 0.33 NA 的限制,EUVL 无法分辨小于 13 纳米线/线距的特征。与 EUVL 相比,定向自组装 (DSA) 表现出高达 5 纳米 L/S 的极精细分辨率,被视为亚 10 纳米甚至亚 5 纳米特征尺寸的潜在图案化技术[1-9]。最近,含金属 EUV 光刻胶已被开发用于提高超薄 EUV 光刻胶膜的抗蚀刻性[10,11]。最近,我们的研究小组报道了一系列具有氟化嵌段的 BCP,经过中等温度下 1 分钟的热退火后迅速形成亚 5 纳米域[12,13]。我们假设氟化侧链对超精细分辨率和图案化速度起着关键作用。然而,由于薄膜超薄,抗蚀刻性是 5 纳米以下 DSA 材料的主要问题。
我们报告了基于2-氰基甲基三甲氧基硅烷(CNETM)对介电和储能储存性能对脉冲功率应用的介电性和能量储存性能的残留离子在介电溶胶胶片中的影响。使用了从1.5到6.5的广泛pH催化cnetms sol-gel膜。在近中性pH下处理的溶胶 - 凝胶膜具有改进的介电和能量储能特性,包括11个微型模量,泄漏电流的降低阶,可提取的能量密度为32 j/cm 3,能量提取效率为80%,在685 v/µm时,与在ph/µm相比,ph/µm的能量提取效率为80%。这些改进归因于Sol-Gel膜中离子量减少,这被认为可以抑制可能触发现场驱动的散射和影响电离的移动电荷载体的有害影响,以及随后在高电压下造成灾难性电气故障。目前的工作表明,基于三功能的烷氧基硅烷对脉冲功率应用,工程剩余的荷兰膜中工程剩余载体的重要性。
从使用 248-193 nm (4.8-6.4 eV) 的深紫外 (DUV) 光刻技术转变为使用 13.5 nm (92 eV) 的极紫外 (EUV) 光刻技术,这意味着光与光刻胶薄膜相互作用的方式发生了根本性的变化。虽然 DUV 光通过共振激发选择性地激活光刻胶材料中的化学键,但 EUV 的高光子能量本质上会触发电离事件,但该过程仅具有较低的局部选择性。此外,初级光电离事件会导致光刻胶薄膜中发生复杂的辐射化学反应。为了设计适用于 20 nm 以下特征尺寸成像的强效 EUV 光刻胶材料,了解并最终控制用 EUV 辐射成像的光刻胶膜中的物理和化学过程至关重要。本文使用气相光电子光离子巧合 (PEPICO) 光谱研究了甲基丙烯酸叔丁酯 (TBMA) 的解离光电离,TBMA 是一种广泛用于化学放大光刻胶 (CAR) 聚合物的单体单元。通过只关注 EUV 光子与光刻胶相互作用的初始步骤,可以降低化学的复杂性,并获得如果没有这种孤立视角就无法获得的深刻基本见解。这些见解与进一步的补充实验相结合,是解密 EUV 光刻中的完整化学和物理过程的基本组成部分。
纳米技术定义 纳米技术是在原子、分子或超分子尺度上对材料进行操纵,尺寸范围为 1nm - 100nm,至少在其形状的一个维度上进行操纵。纳米化学是研究 1nm - 100nm 尺寸范围内材料中原子或分子的相互作用。 溶胶凝胶工艺 溶胶凝胶工艺是一种化学溶液沉积技术,可以描述为通过液体中分子前体的水解和缩聚反应形成氧化物网络。在此过程中,化合物溶解在液体中,以便以受控方式将其恢复为固体。溶胶是胶体颗粒或聚合物在溶剂中的稳定分散体。凝胶由三维连续网络组成,它包围着液相。在胶体凝胶中,网络由胶体颗粒聚集而成。溶胶凝胶化学基于烷基金属氧化物 M(OR) z 如 Si(OEt) 4 的水解和缩合,可描述如下 MOR + H 2 O MOH + ROH(水解) MOH + ROM MOM + ROH(缩合)溶胶凝胶过程可通过一系列不同的步骤来表征步骤 1:形成醇盐金属前体(溶胶)的不同稳定溶液步骤 2:由于缩聚形成金属氧化物或金属氢氧化物桥接网络而导致的凝胶化,这会增加溶液的粘度步骤 3:凝胶的老化,在此过程中缩聚反应持续直至凝胶转变为固体。步骤 4:干燥凝胶,将水和其他挥发性液体从凝胶网络中除去(干凝胶)步骤 5:脱水,通过在高达 800 o C 的温度下煅烧整块材料来实现(气凝胶)步骤 6:在高温下使凝胶致密化和分解,即 >800 o C。(凝胶膜)优点低温、廉价技术。避免共沉淀,可提取和生长前体混合物局限性控制颗粒的生长,生产速度非常慢。
致病性Ambrisentan可能会导致先天缺陷,并在怀孕中禁忌(请参阅禁忌症)。1。产品名称Ambrisentan 5&10 mg胶片涂层平板电脑2。QUALITATIVE AND QUANTITATIVE COMPOSITION Active Substance: Each 5 mg tablet contains 5 mg Ambrisentan Each 10 mg tablet contains 10 mg Ambrisentan Excipient with known effect: 5 mg film-coated tablets Each tablet contains approximately 70.72 mg of lactose (as monohydrate), approximately 0.105 mg of lecithin and approximately 0.04 mg of Allura red AC铝湖(E129)。10 mg薄膜涂层的片剂每片含有约141.44 mg的乳糖(如一水合物),约0.21 mg的卵磷脂和约0.35 mg的Allura Red AC铝湖(E129)。有关赋形剂的完整列表,请参见第6.1节。3。制药形式胶片涂层的片剂。5毫克薄膜涂层的片剂:浅粉,方形,6×6毫米宽的双胶膜涂层片。10 mg薄膜涂层的片剂:深粉红色,椭圆形,6.6×10毫米宽,双杆薄膜涂层的片剂。4。临床细节4.1治疗指示AMBRISENTAN在≥18岁的成年人中进行治疗:特发性肺动脉高压(IPAH),与结缔组织疾病(PAH-CTD)相关的肺动脉高压(PAH-CTD),患有III,III或III症状。4.2剂量和给药方法学/持续时间和给药频率应仅由PAH治疗中经验丰富的医生启动。Ambrisentan应每天以5 mg的剂量口服。可以通过将剂量增加到10 mg来获得额外的收益(请参阅第4.8和5.1节)。有限的数据表明,Ambrisentan的突然中断与PAH的反弹恶化无关。与环孢菌素A一起使用与环孢菌素A共同管理时,Ambrisentan的剂量应每天限制为5 mg(参见
由降水所产生的在自然界中比比皆是,从热液通风口的烟囱到洞穴中的苏打水。 它们的形成受到预言发生的化学梯度的控制,定义了模板生长结构的表面。 我们报告了一种自组织的周期性模板,在铁 - 硫酸盐溶液中用电化学产生肾小管结构;铁氧化物沉淀在气泡表面,这些气泡在管缘上徘徊,然后脱离,然后留下一圈材料。 通过氨从气泡扩散到溶液中,酸 - 碱和氧化还原梯度自发产生,在管壁内组织径向构成分层,这是一种通过含有凝胶含量的摄氏4的氨基氧化物形成的复杂的液体氧化物模式在更大范围内研究的机制。 当壁内形成磁铁矿时,管可能会在外部磁场中弯曲。 在speleothem形成中与自由边缘问题的联系被强调。 产生管状结构的 t繁殖过程跨越了大量的尺度和机制。 在一个极端处是铁硫化物的烟囱,高于水热通风孔(1),在上升,酸性,酸性,热,富含矿物质的液体和较冷的海水周围的碱性,碱性,富含矿物质的液体和更冷的海水之间形成。 有毫米尺度的空心''botryoidal'(类似葡萄的)簇和硫化铁硫化铁的烟囱的化石证据(2)。 管状化石的“藻类结构”,可能是生物源,在带状铁的沉积层中发现(3)。 1)。在自然界中比比皆是,从热液通风口的烟囱到洞穴中的苏打水。它们的形成受到预言发生的化学梯度的控制,定义了模板生长结构的表面。我们报告了一种自组织的周期性模板,在铁 - 硫酸盐溶液中用电化学产生肾小管结构;铁氧化物沉淀在气泡表面,这些气泡在管缘上徘徊,然后脱离,然后留下一圈材料。通过氨从气泡扩散到溶液中,酸 - 碱和氧化还原梯度自发产生,在管壁内组织径向构成分层,这是一种通过含有凝胶含量的摄氏4的氨基氧化物形成的复杂的液体氧化物模式在更大范围内研究的机制。当壁内形成磁铁矿时,管可能会在外部磁场中弯曲。在speleothem形成中与自由边缘问题的联系被强调。t繁殖过程跨越了大量的尺度和机制。在一个极端处是铁硫化物的烟囱,高于水热通风孔(1),在上升,酸性,酸性,热,富含矿物质的液体和较冷的海水周围的碱性,碱性,富含矿物质的液体和更冷的海水之间形成。有毫米尺度的空心''botryoidal'(类似葡萄的)簇和硫化铁硫化铁的烟囱的化石证据(2)。管状化石的“藻类结构”,可能是生物源,在带状铁的沉积层中发现(3)。1)。生物源例子包括软体动物贝壳,部分形成,部分是由于通过地幔中的泵送机制维持的化学梯度(4)和某些细菌,以及某些细菌,该阴离子多糖鞘的鞘吸引并吸引金属阳离子,可以产生由生物体细胞体(5)产生的管状结构(5)。最近的工作还确定,从微生物中挤出的多糖链可以充当氧化铁氧化铁沉淀的模板(6),并且细菌细胞的细丝甚至可以用作合成矿化的模板(7)。石灰石洞穴中的Speleothem形成提供了另一种相关的检查。当水向下流动,并徘徊在吊坠下,溶解的二氧化碳量大,提高pH值,并在滴下碳酸钙沉淀。掉落的脱落留下了一块附着在生长管上的材料环;重复此过程会产生直接的“苏打水”或弯曲的‘helictites'(8)。在电气沉积中也证明了气泡上的降水膜形成(9)。最后,树状“硅酸盐花园”(10-12)生长在硅酸钠溶液中,含有金属离子盐,可能来自硅酸盐凝胶膜上的渗透胁迫,现在可以以非常控制的方式研究(13)。我们在这里描述了一个自组织的过程,该过程是根据气泡的模板作用而生长的(图在电化学细胞的阴极生产,这些气泡支持在气体溶液界面形成的沉淀膜。气泡的脱离留下了延伸试管的物质环,过程继续。从机械上讲,这是洞穴中苏打水的增长的相位版本。,气泡以一到几秒钟的间隔脱离,这些