● 5 轴精密软件控制机械手,精度 2µm(X、Y、Z 轴) ● 样品最大尺寸:直径 32 mm,厚度 7 mm ● 样品加热/冷却温度范围:-100°C 至 800°C ● 磁透镜确保高效收集光电子 ● 光谱横向分辨率 15 µm,并行成像横向分辨率 1 µm ● 检测限 0.1 至 1 原子% ● 深度分辨率:2 至 8 nm ● 使用低能电子进行电荷中和,用于分析绝缘样品
最初,光电子能谱是使用原子灯作为单能 VUV 光子源进行的,但激光的出现大大提高了这种技术的分析能力。具体而言,将激光源聚焦到小点的能力使得能够分析发射电子相对于样品的角轨迹(即参考晶体材料中的晶格矢量)。这通常通过相对于电子能量分析仪逐步旋转样品台来完成。角分辨光电子能谱 (ARPES) 能够详细测量重要信息,例如费米面的形状,它是倒易晶胞矢量 (kx , ky ) 的函数。一些研究人员还采用一种称为莫特偏振仪的设备,主要测量电子的自旋。
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I. 引言 工业界、研究机构和学术界使用专门的辐照设备对微电子元件进行辐照试验,以研究单粒子效应 (SEE)。具体来说,散裂设备试图重现感兴趣的辐射环境,获得超过数百 MeV 的能量范围。只有大型加速器才能达到如此高的能量,因此全球范围内的可用性有限。在欧洲,用于微电子测试的两种散裂设备是啁啾辐照 (ChipIr) 和欧洲核子研究中心高能加速器混合场 (CHARM)。ChipIr 是英国卢瑟福·阿普尔顿实验室的光束线,它利用 ISIS 加速器的 800 MeV 质子在钨靶上的散裂来产生类似大气的中子束 [1]。 CHARM 是位于瑞士 CERN 的设施,它使用 PS 加速器的 24 GeV 质子作用于铜靶,产生高能强子混合场,主要为中子,但也包括质子、介子和 K 介子 [2]。根据辐射场的性质,ChipIr 主要用于地面或飞行高度测试,而 CHARM 则专用于加速器或太空应用。两者需要进行详细交叉校准的原因
先进的性能、更低的拥有成本、更高的易用性和紧凑的尺寸是现代实验室和生产设施的关键要求。新的生产技术使赛默飞世尔科技的工程师能够将所有这些优势融入 K-Alpha 的设计中。K-Alpha 专为多用户环境而设计。它是第一款提供全自动分析模式的 XPS 工具,从样品输入到报告生成。内置自动化意味着新用户只需经过最少的培训即可生成高质量的样品分析报告。微聚焦单色仪可最大限度地提高仪器的灵敏度和化学状态测定的精度。新能量分析仪和镜头的设计进一步提高了灵敏度。我们已采用先进的电荷补偿技术来处理绝缘样品。K-Alpha 是所有类型固体样品分析的理想仪器,包括无机、有机、生物、冶金、半导体和磁性。集成离子枪可产生质量卓越的成分深度剖面。样品传输和导航完全自动化。独特的 Reflex Optics 用于实时观察样品,与同轴和漫射样品照明相结合,可实现小面积 XPS 的精确设置。Thermo Scientific Avantage 是我们世界一流的 XPS 数据系统,可控制 K-Alpha 的所有功能。