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World File Search System薄膜的
适合光电应用的共掺杂 CdS 纳米结构薄膜的综合研究
a 诺拉宾特阿卜杜拉赫曼公主大学科学学院物理系，邮政信箱 84428，利雅得 11671，沙特阿拉伯 b 卡玛维尔巴劳帕蒂尔学院 Rayat Shikshan Sanstha 物理系，瓦希，新孟买，400703，马哈拉施特拉邦，印度 c 哈立德国王大学科学学院物理系先进功能材料与光电子实验室（AFMOL），沙特阿拉伯阿卜哈 61413 哈立德国王大学先进材料科学研究中心（RCAMS），沙特阿拉伯阿卜哈 61413，邮政信箱 9004 e 阿斯旺大学科学学院物理系，埃及 f 吉赞大学科学学院物理系，邮政信箱。 114，吉赞，45142，沙特阿拉伯 g 昌迪加尔大学化学系和大学研究与发展中心，莫哈里 - 140413，旁遮普，印度 h 佛罗里达理工大学环境工程系纳米生物技术实验室，莱克兰，佛罗里达州 33805，美国 i 石油和能源研究大学工程学院，德拉敦，248007，印度
P2.2：MBE的Lacoo3薄膜的外延生长。P2.2：MBE的Lacoo3薄膜的外延生长。
Giorgos Boras, Haotian Zeng, Raghavendra Juluri, Stephen Church, Huiwen Deng, Hui Jia, Anton Velychko, Chong Chen, Ziyue Yin, Mingchu Tang, David Mowbray, Patrick Parkinson, Ana M. Sanchez, Huiyun Liu Department of Electronic and Electrical Engineering, University College London, WC1 E7J，英国物理系，沃里克大学，考文垂CV4 7AL，英国物理与天文学系和曼彻斯特大学光子科学研究所，M13 9PL，英国物理与天文学系，谢菲尔德大学，英国S3 7RH，英国S3 7rh，英国王国
通过原子/分子层沉积研究对苯二甲酸铜金属有机骨架薄膜的气相合成
无溶剂合成和加工金属有机骨架 (MOF) 对于将这些材料应用于应用技术至关重要。MOF 薄膜的气相合成特别适合此类应用，但与传统的基于溶液的方法相比具有挑战性。因此，推进和扩大 MOF 薄膜的气相合成势在必行。结晶对苯二甲酸铜 MOF 薄膜通过原子和分子层沉积 (ALD/MLD) 在不同种类的基底上以气相生长。从先驱工作扩展而来，首次清楚地证明了 3D 相的形成，并揭示了该工艺对多种基底的适应性。在 ALD/MLD 工艺的早期阶段观察到定向膜生长，导致表面上取向的 MOF 晶体，当随着 ALD/MLD 循环次数的增加而进行各向同性生长时。值得注意的是，这项研究主要展示了使用具有晶格匹配拓扑的 DMOF-1 单晶作为起始表面，在气相中实现异质外延生长。这种方法为在气相中开发 MOF 超晶格材料提供了一种有吸引力的途径。
软基底如何通过裂纹前端下沉影响薄膜的屈曲脱层
随着可拉伸器件的发展，在软基底上具有刚性薄膜的工程部件越来越多。我们提出分析在双轴压缩应力状态下软基底上薄膜的屈曲脱层。该问题已通过欧拉柱屈曲分析进行了研究。本文介绍了在软基底上进行的实验，结果表明在某些情况下，“墨西哥帽”形状更能近似地表示屈曲形状。使用通过内聚相互作用粘合到弹性介质的非线性板的模型来描述脱层过程。结果表明，“墨西哥帽”形状改变了软基底的裂纹扩展行为。由 AIP Publishing 出版。[ http://dx.doi.org/10.1063/1.4979614 ]
Ge1-Sn薄膜的热电功率因数
HAL 是一个多学科开放存取档案库，用于存放和传播科学研究文献，无论这些文献是否已出版。这些文献可能来自法国或国外的教学和研究机构，也可能来自公共或私人研究中心。
PVDF基复合薄膜的旋涂及微图案化优化
1 过程与材料科学实验室（LSPM-CNRS UPR-3407），巴黎北索邦大学（USPN），93430 Villetaneuse，法国； anhnn@hus.edu.vn （信息来源）； thanhhuyen.vltn@gmail.com（HTTN）； valerie.bockelee@lspm.cnrs.fr （VB）; frederic.schoenstein@univ-paris13.fr (FS) 2 越南科学技术院材料科学研究所，越南河内 Cau Giay 区 3 激光物理实验室（LPL-CNRS UMR-7538），巴黎北索邦大学（USPN），93430 Villetaneuse，法国； jeanne.solar d@univ-paris13.fr 4 Jean Lamour 研究所，UMR 7198 CNRS - 洛林大学 Artem 校区，54000 Nancy，法国 5 R&I 二氧化硅合成工程师，SOLVAY，92400 Courbevoie，法国； ch.benosman@gmail.com 6 巴塞罗那材料科学研究所（ICMAB-CSIC），UAB校区，08193 Bellaterra，西班牙； agomez@icmab.es（AG）; msimon@icmab.es (MS-S.)； anaesther@icmab.es (AEC) 7 PIMM、法国工艺学院、CNRS、Cnam、HESAM 大学，151 Boulevard de l'Hopital，75013 巴黎，法国； Sylvie.GIRAUL T@ensam.eu * 通信地址：silvana.mer cone@univ-paris13.fr
第16个短期课程（亲自）薄膜的涂料和干燥
08:30注册和入住09:00欢迎和小组介绍博士博士。 W. Schabel / Dr.-ing。 P. Scharfer (KIT-TFT) 10:00 Rheology of coating fluids Prof. Dr. Norbert Willenbacher (KIT-MVM) 11:00 Coffee break 11:25 About coating, printing & fluids characterization Prof. Gilbert Gugler (iPrint, CH) 12:45 Lunch break 13:45 Coating & ink preparation for hydrogen applications Dr.-Ing. Benjamin Schmidt-Hansberg (BASF SE) 14:35 Premetered coating methods with highlights of slot and curtain coating - Part I Dr. Peter Schweizer (Schweizer Coating Consulting, CH) 15:20 Coffee break 15:45 Premetered coating methods with highlights of slot and curtain coating - Part II Dr. Peter Schweizer (Schweizer Coating Consulting, CH) 16:30 Fluid flow in H.博士博士涂层工具。 c。多。 franz durst（fau erlangen，em。）08:30注册和入住09:00欢迎和小组介绍博士博士。W. Schabel / Dr.-ing。P. Scharfer (KIT-TFT) 10:00 Rheology of coating fluids Prof. Dr. Norbert Willenbacher (KIT-MVM) 11:00 Coffee break 11:25 About coating, printing & fluids characterization Prof. Gilbert Gugler (iPrint, CH) 12:45 Lunch break 13:45 Coating & ink preparation for hydrogen applications Dr.-Ing.Benjamin Schmidt-Hansberg (BASF SE) 14:35 Premetered coating methods with highlights of slot and curtain coating - Part I Dr. Peter Schweizer (Schweizer Coating Consulting, CH) 15:20 Coffee break 15:45 Premetered coating methods with highlights of slot and curtain coating - Part II Dr. Peter Schweizer (Schweizer Coating Consulting, CH) 16:30 Fluid flow in H.博士博士涂层工具。 c。多。franz durst（fau erlangen，em。）
InAs 基底上 Ni3InAs 薄膜的结构和化学研究
HAL 是一个多学科开放存取档案库，用于存放和传播科学研究文献，无论这些文献是否已出版。这些文献可能来自法国或国外的教学和研究机构，也可能来自公共或私人研究中心。
磁控溅射生长的钒酸锶薄膜的结构、电学和光学特性
Axel Rouviller、Moussa Mezhoud、Alex Misiak、Meiling Zhang、Nicolas Chery 等人。磁控溅射生长的钒酸锶薄膜的结构、电学和光学特性。ACS Applied Electronic Materials，印刷中，6 (2)，第 1318-1329 页。�10.1021/acsaelm.3c01642�。�hal-04400444�
测试半 Heusler PdYBi 和 PtYBi (111) 外延薄膜的拓扑绝缘体行为
拓扑绝缘体是凝聚态物理学中很有前途的材料，因为它们具有特殊的自旋结构，可以产生非常高的自旋到电荷电流相互转换，这对于新兴的低能耗自旋电子学器件具有重要意义。本研究的目的是探索一类有前途的拓扑材料，这些材料具有高可调性等独特特性——半赫斯勒。我们专注于 PdYBi 和 PtYBi 薄膜的外延生长，这些薄膜是在一系列互连的 UHV 装置上生长和表征的，这使我们能够获得一整套原位表面表征，例如电子衍射、扫描隧道显微镜和角度分辨光电子能谱。使用标准 x 射线衍射和扫描透射电子显微镜进行非原位结构表征，用于控制薄膜中的晶体质量和化学有序性。进行了角分辨光电子能谱分析，结果显示布里渊区点附近存在线性状态。此外，我们使用设计了几何形状的片上器件进行热自旋传输测量，以控制热传播，以测试我们化合物的潜在相互转换效率，发现 PdYBi 和 PtYBi 在不同厚度下的自旋塞贝克系数值都大于铂。这一观察结果为使用半赫斯勒开发高效自旋相互转换材料开辟了道路。