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聚酰亚胺薄膜的电场直流电导率依赖性
1 简介 隔离器是一种电子设备，它向控制器传输数字信号，同时还提供电流隔离，为用户界面和低压电路提供安全的电压水平。它们具有广泛的应用，包括工业、汽车、消费和医疗电子产品，每种产品都需要特定的最低隔离水平。隔离的基本形式是由光耦合、电容耦合和磁耦合提供的 [1]。隔离器必须通过多项监管标准才能投放市场。这些标准包括可靠性测试，如耐压和浪涌电压以及高压耐久性 (HVE)。耐压和浪涌电压是相对较快的持续时间测试，但 HVE 可能需要几个月到几年才能完成 [2]。本研究基于对磁耦合隔离器中使用的材料的隔离能力的评估。为了更好地管理隔离器的可靠性测试，最好事先优化组件材料。在这项工作中，我们讨论了加工效应对隔离器中使用的各种材料的影响，并
去角质六角形的薄膜的润湿特性...
六角硼硝酸盐是一种具有出色特性的2D材料，例如较大的带隙，高热和化学稳定性，透明度以及高氧化和耐腐蚀性。这些特性使H-BN成为用于开发晚期涂料的合适候选者。然而，对于其他纳米材料，调整和控制H-BN的性质是将其应用于多个领域的基本关键。此处，当超声液化在不同溶剂（例如异丙醇（IPA），二恶英（DX），N-甲基吡咯酮（NMP）（NMP）和Dimethyl formamide（DMF）的不同溶剂中，H-BN的润湿性能被超声清液剥落。通过测量沉积在二氧化硅上的H-BN薄膜的水接触角（WCA）来确定不同H-BN材料的润湿特性。对于每个样品，观察到不同的接触角，不同的WCA值是通过仅通过在去角质过程中改变溶剂而获得的薄膜表面的结构和粗糙度的差异来解释的。这些表面特性通过视频和透射电子显微镜（TEM）以及原子力显微镜（AFM）表征。
热和离子处理对纳米级薄膜的影响...
本研究采用渐进式划痕试验研究了采用直流磁控溅射制备的 Ni(25 nm)/Cu(25 nm)/Cr(25 nm) 三层薄膜的微摩擦学特性。研究并比较了四种不同类型的薄膜：沉积态薄膜、低能 Ar + 离子辐照后的薄膜、在真空中 450 °С 退火 15 分钟的薄膜以及离子辐照后真空退火的薄膜。划痕试验辅以结构 (XRD) 和化学 (AES) 实验研究。结果表明，在所有研究的薄膜中，离子辐照后退火的样品表现出最好的微摩擦学和耐磨特性。辐照后退火的样品表现出最高的抗划痕性、光滑的划痕形状、最低的峰值切向力值以及没有侧裂纹和薄膜分层。本文讨论了这种行为的可能原因。
肉桂酸酯聚噻吩薄膜的电子束光刻
依靠双光子过程来实现高分辨率，因此需要在写入焦点处具有高激光强度。因此，DLW 需要材料具有高光学透明度。这排除了大多数有机半导体的 DLW，因为它们由于电荷传输 p 电子系统而固有地带有颜色。相反，电子束光刻 (EBL) 的高分辨率为光处理的微型设备提供了机会。当用电子照射时，有机薄膜会交联并发生局部溶解度的变化。9,10 Persson 等人用 EBL 构造聚（3-辛基噻吩），并用氯化铁 (III) 掺杂所得结构。11 Hikmet 等人图案化聚（对苯乙烯基）衍生物 (PPV) 用于多色有机发光二极管 (OLED)。9 在
MOF薄膜的可逆和不可逆的激光干扰模式
摘要：薄膜上和晶体内部的激光干扰图案是今天创建用于光学数据处理所需模式的功能强大的工具。在这里，我们分别通过水解吸和热分解过程在金属有机框架（MOF）薄膜上表现出可逆和不可逆的激光干扰。已经实现了不可逆的干扰模式，其带有高达5 µm的条带的不可逆转的干扰模式已经实现，并且使用共焦拉曼和反射光谱以及原子力显微镜表征了其形态。我们透露，将干扰最大值之间的距离从10.5降低到MOF的5 µm记录，使不可逆模式的表面粗糙度增加了10倍。另一方面，可逆的激光模式提供了可变光学对比度的完全无损的效果。获得的实验结果为使用MOF晶体作为光敏材料的模板图中所需模式的模板图中的光敏材料开放了前景。
背靠背的教程：薄膜的X射线衍射
抽象的X射线衍射（XRD）是表征电杂色材料薄膜的必不可少的工具。但是，对于初学者而言，由于操作模式和测量类型的数量以及对结果模式和扫描的解释，首先可能是一种艰巨的技术。在本教程文章中，我们为使用XRD进行首次测量的薄膜工程师/科学家提供了基础。我们简要介绍了该仪器的衍射原理和描述，详细介绍了相关的操作模式。接下来，我们引入了薄膜表征必不可少的五种测量值：2次扫描，放牧的含量扫描，摇摆曲线，极图和方位角扫描（或ϕ扫描）。提供了选择适当的光学元件，安装和对齐样品以及选择扫描条件的实用准则。最后，我们讨论了数据分析的一些基础知识，并就数据呈现提供了建议。本文的目的是最终降低研究人员进行有意义的XRD分析的障碍，并在基础上建立基础，发现现有文献更易于访问，从而实现了更高级的XRD调查。
材料表面改性：有机薄膜的电接枝
HAL 是一个多学科开放存取档案库，用于存放和传播科学研究文献，无论这些文献是否已出版。这些文献可能来自法国或国外的教学和研究机构，也可能来自公共或私人研究中心。
DNA 增加 PVDF 薄膜的 β 相含量
摘要 — 已证实脱氧核糖核酸 (DNA) 能与聚偏氟乙烯 (PVDF) 相互作用，从而在某些铸造条件下增加电活性 β 相含量和压电响应。虽然使用 DNA 作为自极化剂有可能消除压电 PVDF 薄膜中额外拉伸和极化步骤的需要，但 DNA 极化 PVDF 的机制尚不清楚，这阻碍了该过程的优化。在此，我们进行了一项研究，以筛选干燥温度、核酸添加剂的量、PVDF 的重量百分比、旋铸速度和 PVDF 的分子量对旋铸 PVDF-DNA 混合薄膜的影响。分别使用傅里叶变换红外光谱 (FTIR) 和压电计量化所得薄膜的相组成和压电响应。我们发现 DNA 对 PVDF 薄膜的 β 相含量有显著影响；然而，这种影响在低干燥温度下被掩盖了。虽然 DNA 促进了 PVDF 电活性 β 相的形成，但我们找不到 DNA 增强 PVDF 压电响应的证据。这些结果与之前的文献相矛盾，之前的文献报告称 DNA 使 PVDF 的偶极子对齐，从而使薄膜表现出显著的压电响应。总体而言，这项研究发现，在某些铸造条件下，核酸添加剂对 PVDF 薄膜相组成有重要影响。
使用 Fourier 分析研究 AlN 薄膜的结构...
本研究重点关注使用原子层沉积法 (ALD) 获得的 AlN 薄膜中氢杂质引起的结构缺陷。目前，关于 AlN 薄膜本体中氢的存在的研究严重不足。傅里叶变换红外光谱 (FTIR) 是少数几种可以检测轻元素键的方法之一，尤其是氢。众所周知，氢是通过 ALD 方法生长的 AlN 薄膜中常见的污染物，它可能与氮形成不同的键，例如氨基 (-NH2) 或酰亚胺 (-NH) 基团，这会损害所得薄膜的质量。这就是为什么研究氢现象以及寻找合适的方法来消除或至少减少氢的数量很重要。在这项工作中，使用不同的前体、基材和沉积参数制备了几个样品，并使用 FTIR 和其他技术（如 AFM、XPS 和 EDS）进行了表征，以提供 AlN 薄膜的地形、形态和化学成分的比较和全面分析。
聚合物薄膜的化学蒸气沉积（ICVD）
引发的化学蒸气沉积（ICVD）代表了一种用于生产聚合物薄膜的新技术，尤其是对于很难通过召开方式处理的材料，例如polytetrafluoroethelene（ptfe，ptfe，commorly com com com com com com com necly neteflon®）。在ICVD过程中，有机前体气体在热表面上热分解以产生单体自由基。这些自由基通过启动和传播步骤聚合，以在底物表面形成所需材料。我们证明了使用ICVD技术在各种底物上创建PTFE表面，从纳米级到宏观”。我们表明，在复杂的几何形状上，涂料可以使涂料变得超薄且高度奇异，从而为从医疗设备到纺织品的应用带来了重大好处。该过程对于大面积和移动的Web底物也非常可扩展，并且由于气体利用率的高效，经济性良好。可以将其扩展到其他材料系统，包括硅酮聚合物及其共聚物，以及结合其他功能，例如环氧基团。在许多商业应用中，包括内陆，医疗设备，纺织品和消费者光学器件都有很大的部署机会。我们将详细讨论沉积过程，以及GVD的商业化计划。