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World File Search System表面处理
Si 表面处理对 CoSi2 形成和团聚的影响
在微电子领域，尽管钴硅化物 CoSi 2 在小尺寸内成核困难，但对于采用 65 nm 技术设计的一些特定器件，基于 CoSi 2 的触点仍然很有趣。因此，为了促进 65 nm 技术中 CoSi 2 的形成，可以干扰 RTA1 期间发生的 CoSi 的形成。为此，在 Co 沉积之前对 Si 基板的表面处理可能会影响钴硅化物相的形成。在这项工作中，在 Co 和 TiN 层沉积之前，在 Si(100) 晶片上应用了不同的表面处理（SiCoNi、HF，然后是 SC1 和仅 HF）以及几种软溅射蚀刻 (SSE) 工艺。根据表面处理的不同，通过 XRD 和/或 EBSD 观察到的 Co 硅化物相（包括 CoSi 2 ）的形成温度和/或晶体取向是不同的。四点探针测量还表明，CoSi 2 团聚与表面处理方案有很大关系。这些结果突出了表面处理对 Co 硅化物形成和团聚的影响，以及其对于将 CoSi 2 膜集成到 65 nm CMOS 技术中的重要性。
最佳可用技术（BAT）用于金属和塑料表面处理的参考文献
JRC141313塞维利亚：欧洲委员会，2025年©欧盟，2025年，欧盟委员会文件的重用政策由2011/833/eu于2011年12月12日在委员会文件的重新使用文件（OJ L 330，14.12.20112.2011，第39页）上实施。除非另有说明，否则该文档的重复使用将根据创意共享归因4.0国际（CC BY 4.0）许可（https://creativecommons.org/licenses/4.0/）授权。这意味着只要给出适当的信用并指示任何更改，就可以重复使用。必须直接从版权所有者那里寻求任何欧盟许可拥有的照片或其他材料的使用或复制。来源： - 在封面插图中从左开始：1。电铜，镍和镀铬钢金属产品的生产过程。从电化板浴的台面起重机抬起金属产品。agalvanic Line的片段 - ©nskyr2 -stock.adobe.com; 2。电镀 - ©Lakeview Images -Stock.adobe.com; 3。在洁净室操作精致的微芯片制造设备中的技术人员©Maksym -Stock.adobe.com; - 图4 2：门的消防水舱壁©Wolfram Willand-图4 3：分段门和通行门的舱壁©Wolfram Willand如何引用该报告：欧洲委员会：欧盟委员会：联合研究中心，修订后的金属和塑料（STM）BREF，SEVILE，SEVILLE，SEVILE，SEVILE，20255，2025，JRC，JRC的第一稿（D1）。
简单的表面处理 - 偶联 -
摘要：将有机半导体聚合物与生物学物质有效接口的物质特性对齐对于它们在生物电子设备中的使用至关重要。合成修饰和高级加工技术通常被用于促进细胞粘附和生长。在这项研究中，我们将UV-ozone（UVO）处理作为修改PDPP3T膜的简单替代方法。暴露于UVO会增加半导体表面的极性，如接触角和XPS分析所证实。在优化时间（t≥30s）下及以上的表面处理导致了施旺细胞的生长增强，其行为与标准组织培养塑料（TCP）相当。同时，长时间的暴露开始引起聚合物的光学特性的重大变化，逐渐闪入光漂白导致半导体行为的降低至30 s以上。使用电阻抗光谱测试了紫外线处理的PDPP3T的最佳生物结合特性，该技术在半导体聚合物对支持细胞生存力和增殖方面的有效性进行了使用。这项工作证明了更容易将共轭聚合物与生物环境整合在一起的潜力，从而扩大了探索在存在生物细胞中离子扩散与半导体电动性之间相互作用的机会。
研究Piranha溶液表面处理对聚甲基丙烯酸酯
丙烯酸义齿上衬里成分的分离很常见。因此，改善衬里和丙烯酸义齿之间的粘附至关重要。Piranha溶液用于治疗丙烯酸以增强键合强度。这项研究评估了Piranha溶液（过氧化氢H 2 O 2和硫酸H 2 SO 4的组合）对增强丙烯酸树脂和基于有机硅齿的软衬里的粘附强度的影响。八十种聚甲基丙烯酸酯（PMMA）样品的表面粗糙度（n = 20），剪切键强度（n = 20对），润湿性（n = 20）和硬度测试（n = 20）。样品被随机分为W组（无处理）和P组（使用Piranha溶液处理）。随后是有机硅软内衬。介绍仪，通用测试设备，光接触角和岸D持续时间设备分别用于分析表面粗糙度，剪切键强度，润湿性和硬度样本，然后研究故障机制。t检验用于分析数据。在P组（表面粗糙度，剪切键强度和润湿性）值（P≤0.05）中观察到显着变化。比对照组（W组）（W组）（P组）的Piranha溶液治疗组（P组）显示出更高的表面粗糙度，剪切键强度和润湿性，并且两组之间硬度值的变化不显着。这项研究的发现表明，使用Piranha溶液可以是增强PMMA表面特性的非常成功的方法，从而增强了有机硅软衬里的键合能力。
轻质 PA6 复合材料的纤维表面处理
德国橡胶技术研究所。V.（德国橡胶技术研究所）德国汉诺威* 通讯作者。电子邮件：rungsima.y@tggs.kmutnb.ac.th DOI：10.14416/j.asep.2024.09.004 收到日期：2024 年 5 月 30 日；修订日期：2024 年 7 月 4 日；接受日期：2024 年 8 月 16 日；在线发表日期：2024 年 9 月 5 日 © 2024 曼谷北部国王科技大学。版权所有。摘要天然纤维增强复合材料 (NFRC) 因其环保、价格实惠和优异的机械性能而备受关注。然而，纤维和聚合物基质之间的界面结合不足往往会导致机械和热性能较差。已经开发出各种表面处理方法，包括碱、硅烷和等离子处理，通过改性纤维表面来解决这一问题。这些处理已被证明可以改善界面结合，从而提高天然纤维增强 PA6 复合材料 (NFRC-PA6) 的机械强度和热稳定性。在本研究中，我们应用了这些表面处理并通过机械和热测试评估了它们的影响。结果表明复合材料的性能有了显著改善，尽管优化处理参数和确保均匀性等挑战仍然存在。未来的研究应侧重于克服这些挑战并探索创新处理方法，以进一步推进 NFRC-PA6 复合材料的应用。 关键词：轻型运输、天然纤维增强复合材料 (NFRC)、聚酰胺 6、表面处理 1 简介 在未来几十年内，预计作为生产塑料的原材料的石油和天然气供应将减少，从而导致对可持续和环保企业的需求 [1]，[2]。天然材料，如纤维素纤维，被用作复合材料中的天然纤维增强材料，以部分替代石油基聚合物[3]。由于其成本低廉，
评估3D印刷材料的剪切键强度，用于使用不同的表面处理的永久修复体
摘要：高填充3D打印树脂的开发需要为牙齿间接修复体制定键合协议，以实现胶结后达到最佳粘结强度。这项研究评估了高填充物3D印刷材料的剪切键强度，用于通过各种表面处理的永久修复。Rodin雕塑1.0（50％锂填充剂）和2.0陶瓷纳米杂交（> 60％的氧化锆和二硫酸锂填充剂），并用Aelite Allite All-Purpose All-Purpose Body Body Remposite树脂作为对照。样品，固化后，并用氧化铝（25 µm）砂粉。使用光学特性计分析表面粗糙度。比较了两个键合协议。首先，用锂二硅酸盐硅烷（瓷底漆）或锆石底漆（Z-Prime Plus）处理组或未经粘合剂的未处理。梁形树脂水泥（Duolink Universal）标本被粘合并存储在37℃的水浴中。第二，另一组材料涂有粘合剂（全键通用），然后使用硅烷施用或未经处理。这些集合类似地与树脂水泥样品一起存储。剪切键测试在24小时后进行。 SEM图像是在剥离后拍摄的。单向方差分析和事后Duncan进行了统计分析。Rodin 1.0用硅烷或锆石底漆涂料表现出增加的粘合剂破坏，但使用粘合剂施用可显着提高键强度。在所有组中，除了没有粘合剂的Rodin 1.0以外，硅烷涂层增加了内聚力的失败率。Rodin 2.0表现出一致的粘结强度，无论粘合剂的应用如何，但随着粘合剂和填充涂层的凝聚力失败率增加。总而言之，可以使用硅烷涂层和粘合剂施用来实现高填充物3D打印材料的最佳剪切键强度。
表面处理和耦合剂在异质结的双层复合材料
摘要：在汽车，航空航天和电子行业等行业中对轻质和耐用材料的需求不断增长，促使异性结构双层复合材料的发展，将金属的结构完整性与聚合物的多功能性结合在一起。本研究介绍了不锈钢（SUS）和聚酰胺66（PA66）之间的临界界面，重点是表面处理和各种硅烷偶联剂在增强异径sus/pa66双层复合材料的粘附强度方面的关键作用。通过系统的表面修饰（通过扫描电子显微镜，原子力显微镜和接触角分析显示），该研究评估了增加表面积，粗糙度和SUS能量的影响。X射线光电子光谱评估证实了特定硅烷偶联剂的战略选择。尽管某些偶联剂几乎没有影响力学，但值得注意的是，氨基丙基三氧基硅烷（A1S）和3-甘油同基氧甲基三甲氧基硅烷（ES）显着增强了杂气结的机械性能。这些进步归因于金属 - 聚合物界面处的界面相互作用。这项研究强调了靶向表面处理的重要性，以及明智的耦合剂在优化金属 - 聚合物复合材料的界面粘附和整体性能方面的明智选择，为材料的制造提供了有价值的见解，在减轻重量和增强耐用性的情况下，材料的制造是最重要的。
牙齿植入物的干细胞表面处理
可以用来修复整个身体的损害，以作为再生药物。牙髓是一种结缔组织，包含在纸浆室内和根管中。它通过一个或多个顶端孔与牙周通信，并通过根部的侧配附件通道进行通信。[9,10]果肉由浸入以基本物质和纤维（尤其是I型I和III型胶原蛋白纤维）为特征的细胞间基质中的细胞组成。[11]有机基质约为25％，其余75％由水组成。随着年龄的增长，细胞群体的逐渐减少，胶原纤维的数值和体积增加，尤其是在2/3的根尖根中。区分了两种不同类型的干细胞：胚胎干细胞和成年干细胞。[12]受精后，干细胞变成全能：具有形态发生的能力。
使用Bcl3等离子体衍生的自由基对MOS2进行三维表面处理
ABSTRACT: The realization of next-generation gate-all-around field-effect transistors (FETs) using two-dimensional transition metal dichalcogenide (TMDC) semiconductors necessitates the exploration of a three-dimensional (3D) and damage-free surface treatment method to achieve uniform atomic layer-deposition (ALD) of a high-k dielectric film on the inert surface of a TMDC channel.这项研究开发了对MOS 2的BCl 3等离子体衍生的自由基处理，以使MOS 2表面功能化，以使超薄AL 2 O 3膜的随后ALD函数。微观结构验证证明，在平面MOS 2表面上大约2 nm厚2 O 3膜的覆盖范围，并使用从基板漂浮的悬浮的MOS 2通道确认了该技术对3D结构的适用性。密度功能理论计算由光学发射光谱和X射线光电子光谱测量值支撑，揭示了Bcl激进分子主要由BCL 3等离子体产生，并吸附在MOS 2上，并促进了Ultrathin Ald-Ald Ald-Ald 2 O 3膜的均匀成核。拉曼和单层MOS 2的光致发光测量以及底部门控的FET的电测量结果证实，由Bcl 3等离子体衍生的自由基治疗造成的可忽略不计。最后，证明了具有超薄ALD-Al 2 O 3（〜5 nm）栅极介电膜的顶部门控FET的成功操作，表明预处理的有效性。关键字：MOS 2，表面功能化，BCl 3等离子体，自由基，原子层沉积，高K介电
涂层和空间应用的表面处理
• Solar radiation (ultraviolet (UV), x-rays) • Charged particle radiation (electrons, protons) • Cosmic rays (energetic nuclei) • Temperature extremes & thermal cycling • Micrometeoroids & orbital debris (space particles) • Atomic oxygen (AO) (reactive oxygen atoms) • Planetary dust and wind • Reactive atmospheres