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World File Search System表面处理
表面处理和耦合剂在异质结的双层复合材料
摘要：在汽车，航空航天和电子行业等行业中对轻质和耐用材料的需求不断增长，促使异性结构双层复合材料的发展，将金属的结构完整性与聚合物的多功能性结合在一起。本研究介绍了不锈钢（SUS）和聚酰胺66（PA66）之间的临界界面，重点是表面处理和各种硅烷偶联剂在增强异径sus/pa66双层复合材料的粘附强度方面的关键作用。通过系统的表面修饰（通过扫描电子显微镜，原子力显微镜和接触角分析显示），该研究评估了增加表面积，粗糙度和SUS能量的影响。X射线光电子光谱评估证实了特定硅烷偶联剂的战略选择。尽管某些偶联剂几乎没有影响力学，但值得注意的是，氨基丙基三氧基硅烷（A1S）和3-甘油同基氧甲基三甲氧基硅烷（ES）显着增强了杂气结的机械性能。这些进步归因于金属 - 聚合物界面处的界面相互作用。这项研究强调了靶向表面处理的重要性，以及明智的耦合剂在优化金属 - 聚合物复合材料的界面粘附和整体性能方面的明智选择，为材料的制造提供了有价值的见解，在减轻重量和增强耐用性的情况下，材料的制造是最重要的。
Si 表面处理对 CoSi2 形成和团聚的影响
在微电子领域，尽管钴硅化物 CoSi 2 在小尺寸内成核困难，但对于采用 65 nm 技术设计的一些特定器件，基于 CoSi 2 的触点仍然很有趣。因此，为了促进 65 nm 技术中 CoSi 2 的形成，可以干扰 RTA1 期间发生的 CoSi 的形成。为此，在 Co 沉积之前对 Si 基板的表面处理可能会影响钴硅化物相的形成。在这项工作中，在 Co 和 TiN 层沉积之前，在 Si(100) 晶片上应用了不同的表面处理（SiCoNi、HF，然后是 SC1 和仅 HF）以及几种软溅射蚀刻 (SSE) 工艺。根据表面处理的不同，通过 XRD 和/或 EBSD 观察到的 Co 硅化物相（包括 CoSi 2 ）的形成温度和/或晶体取向是不同的。四点探针测量还表明，CoSi 2 团聚与表面处理方案有很大关系。这些结果突出了表面处理对 Co 硅化物形成和团聚的影响，以及其对于将 CoSi 2 膜集成到 65 nm CMOS 技术中的重要性。
研究Piranha溶液表面处理对聚甲基丙烯酸酯
丙烯酸义齿上衬里成分的分离很常见。因此，改善衬里和丙烯酸义齿之间的粘附至关重要。Piranha溶液用于治疗丙烯酸以增强键合强度。这项研究评估了Piranha溶液（过氧化氢H 2 O 2和硫酸H 2 SO 4的组合）对增强丙烯酸树脂和基于有机硅齿的软衬里的粘附强度的影响。八十种聚甲基丙烯酸酯（PMMA）样品的表面粗糙度（n = 20），剪切键强度（n = 20对），润湿性（n = 20）和硬度测试（n = 20）。样品被随机分为W组（无处理）和P组（使用Piranha溶液处理）。随后是有机硅软内衬。介绍仪，通用测试设备，光接触角和岸D持续时间设备分别用于分析表面粗糙度，剪切键强度，润湿性和硬度样本，然后研究故障机制。t检验用于分析数据。在P组（表面粗糙度，剪切键强度和润湿性）值（P≤0.05）中观察到显着变化。比对照组（W组）（W组）（P组）的Piranha溶液治疗组（P组）显示出更高的表面粗糙度，剪切键强度和润湿性，并且两组之间硬度值的变化不显着。这项研究的发现表明，使用Piranha溶液可以是增强PMMA表面特性的非常成功的方法，从而增强了有机硅软衬里的键合能力。
金属表面处理 - 2000 年指南和目录
Merul Finishing (ISSN 0026-0576) 由 Elsevier Science Inc. 按月出版，一月和五月有特别版（每年十四期），地址为纽约州纽约市美洲大道 655 号，邮编 10010。Metal Finishing 向美国合格的金属精加工商免费开放。对于供应商、顾问和其他与该领域相关的人员，每年的订阅费用（包括一本“金属精加工指南和目录”和“有机精加工指南和目录”）为美国 60.00 美元、加拿大和墨西哥 84.00 美元。价格包括邮费，如有变更，恕不另行通知。对于其他国家/地区或其他信息，请联系 Metal Finishing 客户服务部门，地址为 P.O. Box 141, Congers, N.Y. 10920-0141.。免费电话（针对美国客户）：1-800-765-75 14。美国境外。致电 914-267-3490。传真 914-267-3478。电子邮件：Metal@Camheywest.com。《金属表面处理》的单本（指南和目录除外）：美国境内 5.00 美元。期刊邮资在纽约和其他邮寄处支付。
3D 打印马氏体时效钢的表面处理和耐腐蚀性能
3D打印，又称增材制造（AM），自1987年以来得到了迅速发展。与传统制造方法相比，3D打印具有提高材料利用率、减少材料浪费等优势。马氏体时效钢具有良好的强度和韧性，且不损失延展性，已用于3D打印技术。选择性激光熔化（SLM）是3D打印方法之一，主要用于金属和合金粉末。本文将选择性激光熔化用于马氏体时效钢。3D打印马氏体时效钢是一种新材料，关于3D打印马氏体时效钢性能的研究仍在进行中。由于腐蚀成本高，耐腐蚀性是马氏体时效钢最重要的性能之一。因此，本论文将重点研究3D打印马氏体时效钢的腐蚀行为。本论文的目的是找到高耐腐蚀性的最佳热处理条件，并找到马氏体时效钢微观结构与腐蚀行为之间的关系。本文使用了几种具有不同热处理条件的马氏体时效钢样品。 SLM、SLM奥氏体化&淬火、SLM时效、常规奥氏体化&淬火、常规时效。此外，还制备了两种溶液，NaOH（pH=11.5）和Na2SO4（pH=6.5）。使用光学显微镜观察微观结构。SLM和常规样品的晶粒尺寸不同，不同热处理条件的样品的晶粒尺寸也不同。使用动电位极化法测量腐蚀行为。与常规样品相比，SLM样品的电流密度低得多，钝化电位和腐蚀速率相似。但由于缺乏进一步的实验，腐蚀行为之间的关系可能受到多种因素的综合影响。
空间应用的各种材料和表面处理的环境和氮气环境摩擦数据
摘要 为了设计在极端条件下（包括长期太空任务）可靠运行的运动机械部件，需要对候选材料、表面处理和干膜润滑剂进行多元摩擦学评估。在本研究中，使用球对平试验收集了线性往复或单向滑动摩擦数据。球是硬化的 440C 不锈钢（未涂层或溅射 MoS 2），平面是 440C 不锈钢、Nitronic 60 不锈钢或 Ti6Al4V 钛合金，并经过各种表面处理和/或干膜润滑剂。表面处理包括阳极氧化、氮化和电火花加工。干膜润滑剂包括 Microseal 200-1、溅射 MoS 2 和纳米复合涂层 i-Kote。数据包含测试期间施加的法向载荷、测得的摩擦力、计算的摩擦系数、球位置、环境温度和相对湿度。测试在 300 至 2000 MPa 的不同峰值赫兹接触压力条件下进行。表面处理和干膜涂层后在 150 °C 下真空烘烤的平面以及在惰性气体（氮气）环境中测试的样品的数据也可用。这些数据既可用于从根本上了解不同材料系统的摩擦学特性，也可用于设计适合特定应用、条件和工作周期的组件。
最佳可用技术（BAT）用于金属和塑料表面处理的参考文献
JRC141313塞维利亚：欧洲委员会，2025年©欧盟，2025年，欧盟委员会文件的重用政策由2011/833/eu于2011年12月12日在委员会文件的重新使用文件（OJ L 330，14.12.20112.2011，第39页）上实施。除非另有说明，否则该文档的重复使用将根据创意共享归因4.0国际（CC BY 4.0）许可（https://creativecommons.org/licenses/4.0/）授权。这意味着只要给出适当的信用并指示任何更改，就可以重复使用。必须直接从版权所有者那里寻求任何欧盟许可拥有的照片或其他材料的使用或复制。来源： - 在封面插图中从左开始：1。电铜，镍和镀铬钢金属产品的生产过程。从电化板浴的台面起重机抬起金属产品。agalvanic Line的片段 - ©nskyr2 -stock.adobe.com; 2。电镀 - ©Lakeview Images -Stock.adobe.com; 3。在洁净室操作精致的微芯片制造设备中的技术人员©Maksym -Stock.adobe.com; - 图4 2：门的消防水舱壁©Wolfram Willand-图4 3：分段门和通行门的舱壁©Wolfram Willand如何引用该报告：欧洲委员会：欧盟委员会：联合研究中心，修订后的金属和塑料（STM）BREF，SEVILE，SEVILLE，SEVILE，SEVILE，20255，2025，JRC，JRC的第一稿（D1）。
使用Bcl3等离子体衍生的自由基对MOS2进行三维表面处理
ABSTRACT: The realization of next-generation gate-all-around field-effect transistors (FETs) using two-dimensional transition metal dichalcogenide (TMDC) semiconductors necessitates the exploration of a three-dimensional (3D) and damage-free surface treatment method to achieve uniform atomic layer-deposition (ALD) of a high-k dielectric film on the inert surface of a TMDC channel.这项研究开发了对MOS 2的BCl 3等离子体衍生的自由基处理，以使MOS 2表面功能化，以使超薄AL 2 O 3膜的随后ALD函数。微观结构验证证明，在平面MOS 2表面上大约2 nm厚2 O 3膜的覆盖范围，并使用从基板漂浮的悬浮的MOS 2通道确认了该技术对3D结构的适用性。密度功能理论计算由光学发射光谱和X射线光电子光谱测量值支撑，揭示了Bcl激进分子主要由BCL 3等离子体产生，并吸附在MOS 2上，并促进了Ultrathin Ald-Ald Ald-Ald 2 O 3膜的均匀成核。拉曼和单层MOS 2的光致发光测量以及底部门控的FET的电测量结果证实，由Bcl 3等离子体衍生的自由基治疗造成的可忽略不计。最后，证明了具有超薄ALD-Al 2 O 3（〜5 nm）栅极介电膜的顶部门控FET的成功操作，表明预处理的有效性。关键字：MOS 2，表面功能化，BCl 3等离子体，自由基，原子层沉积，高K介电
采用混合熔覆工艺，实现高温下更耐磨损的表面处理
开发了一种新型混合熔覆工艺，通过结合直接能量沉积 (DED) 和超声纳米晶体表面改性 (UNSM) 来控制内层金属熔覆层的力学性能。混合工艺允许操纵熔覆层的内部和外部力学性能，以获得所需的表面和体积性能。为了验证该方法的有效性，对 Inconel-718 熔覆层在 200 和 400 C 高温下进行了耐磨性试验，并证实耐磨性分别提高到 25.4% 和 14.4%。这项工作分析了 DED 工艺中有无 UNSM 处理的耐磨特性。所提出的方法是改变熔覆层内部力学性能的一种有前途的方法，具有很高的可控性和可重复性。2022 作者。由 Elsevier Ltd. 出版。这是一篇根据 CC BY 许可协议 ( http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/ ) 开放获取的文章。