由于纳米移液器的内壁带负电,纳米移液器内部液体中的阳离子等离子形成离子层。当施加比接近时更高的电压时,离子层会向纳米移液器尖端移动。离子层的移动使纳米移液器中的液体移动(电渗流),并注入细胞中。
空气•带电颗粒/微生物的静电沉淀。因此,静电过滤器由两个单独的部分构建:•电离部分•收集/沉淀部分。在第一阶段粒子和微生物中'(即细菌,孢子,酵母)充电发生在电离部分,通过产生正阳性或负电晕放电的电极。在第二阶段中,在一组平行的电动电荷收集板上,在收集部分中发生了先前带电的颗粒和微生物的静电沉淀。这些板之间生成的电场捕获颗粒并将其捕获在收集板的表面上。与板的接触会导致任何微生物的立即破坏,并避免在细菌裂解时释放内毒素,就像机械过滤器所发生的那样。
电池按用于电极的材料类型进行分类。例如,汽车电池被称为铅电池,因为它们使用铅用于正电极和负电极。大多数家用电池(通常用于遥控器,摄像机和玩具)中的家用电池,使用碱,镍金属氢化物和镍镉。锂离子(锂离子)电池使用锂化合物作为负电极处正极和石墨的材料。锂离子电池可充电,设计可持续很长时间:锂离子电池可以执行500至10,000个循环的充电和放电。取决于充电的频率,电池在几个月之间(例如,由专业人士的工艺工人使用的电动工具)和20多年的时间(例如,存储应用程序)达到了生命的尽头。
CP和电荷存储模型。a,通过数值求解Poisson – Nernst – Planck和Navier -Stokes方程获得的纳米纤维内部离子的平均浓度和–200 mV。在模拟中使用的大量离子浓度为10 mM,离子特性为K +和Cl - 。孔的表面电荷为-10 mc M –2。b,CP因子是数值模拟预测的离子浓度的函数。c,d,传统电容器的示意图,其中电荷在空间中分开,并且在换压时可以放电。e,f,一个离子负电容器的示意图,其中电荷被共定位,但仍可以随电压变化而放电。Q与V曲线的负斜率是负电容的特征。信用:自然纳米技术(2025)。doi:10.1038/s41565-024-01829-5
图 4. 静电逆设计问题包括寻找反应周围带电残基或点电荷的最佳位置,以降低反应势垒。考虑围绕狄尔斯-阿尔德反应的分区球面,分区的每个斑块分配一个电荷密度(蓝色 - 带负电;红色 - 带正电),理论上可能的环境总数是无限的,因为任何一点的电荷都可以是任何实数值,并且分区可以无限精细。这产生了巨大的搜索空间。此外,由于静电环境的各种配置会产生类似的反应势垒,以及可能的解决方案完全改变反应途径,而这在蛋白质中不再可行,因此解决方案将不唯一。Hartke 和 Sokalski 试图通过使用机器学习或最小化给定反应的 𝐸 !"## 来确定最佳催化环境,从而减少这个搜索空间。
本研究通过 CV 和 IV 分析研究了新型 MIS 结构 TiN/Al 2 O 3 /P-Si 的电性能,采用 Silvaco TCAD 软件进行模拟。检查各种参数,包括频率、温度、氧化物厚度、表面条件和掺杂水平,揭示了它们对器件特性的影响。模拟结果与理论预期非常吻合,验证了模拟方法的有效性。发现温度变化会影响平带电压,可能是由于氧化物电荷密度和界面缺陷密度的变化,而在 77 K 至 300 K 的温度范围内观察到弱反转区。频率依赖性很明显,特别是在 1 GHz 时,对 CV 行为有显著影响。IV 分析揭示了不对称的温度激活,表明存在双传导机制。此外,更高的掺杂水平与负电压范围内的电流密度增加相关。对具有不同介电厚度的电容器的模拟漏电流表明行为不均匀,由于能带图不对称,从栅极注入电子导致与基板相比更高的电流密度。这强调了降低氧化物厚度对漏电流行为的影响。
铁电场效应晶体管 (FeFET) 因其良好的工作速度和耐用性而成为一种引人注目的非易失性存储器技术。然而,与读取相比,翻转极化需要更高的电压,这会影响写入单元的功耗。在这里,我们报告了一种具有低工作电压的 CMOS 兼容 FeFET 单元。我们设计了铁电 Hf 1-x Zr x O 2 (HZO) 薄膜来形成负电容 (NC) 栅极电介质,这会在少层二硫化钼 (MoS 2 ) FeFET 中产生逆时钟极化域的磁滞回线。不稳定的负电容器固有支持亚热电子摆幅率,因此能够在磁滞窗口远小于工作电压的一半的情况下切换铁电极化。 FeFET 的开/关电流比高达 10 7 以上,在最低编程 (P)/擦除 (E) 电压为 3 V 时,逆时针存储窗口 (MW) 为 0.1 V。还展示了强大的耐久性 (10 3 次循环) 和保留 (10 4 秒) 特性。我们的结果表明,HZO/MoS 2 铁电存储晶体管可以在尺寸和电压可扩展的非易失性存储器应用中实现新的机会。
为了比较不同尺寸系统中的涨落,应该使用强度量,即对系统体积不敏感的量。此类量通过除以测量分布的累积量 κ i(最高为四阶)得出,其中 i 是累积量的阶数。对于二阶、三阶和四阶累积量,强度量定义为:κ 2 /κ 1、κ 3 /κ 2 和 κ 4 /κ 2。图 1 显示了 150 / 158 A GeV / c 时净电荷三阶和四阶累积量比的系统尺寸依赖性。测量数据与 EPOS 1.99 模型 [4, 5] 的预测一致。对带负电和带正电强子的相同量对系统尺寸依赖性的更详细检查(图 2)表明系统尺寸依赖性非常不同。此外,EPOS 1.99 模型无法重现任何测量到的 h + 和 h − 量。这种不一致表明我们还没有完全理解涨落是如何产生的底层物理原理。因此,需要进行更详细的研究。在寻找 CP 时,一个可能的工具是质子间歇性,它应该遵循 CP 附近的幂律涨落。可以通过研究二阶阶乘矩 F 2 ( M ) 随胞元大小或等效地随中速质子 (px, py) 空间中胞元数量的缩放行为来检查(参见参考文献 [6, 7, 8])。对于实验数据,必须用混合事件减去非临界背景。减去后,二阶阶乘矩 Δ F 2 ( M ) 应该根据 M >> 1 的幂律缩放,得到临界
摘要 典型的直流放电由一端的负阴极和另一端的正阳极组成,两者之间由充满气体的间隙隔开,放置在一个长玻璃圆筒内。阴极和阳极之间需要几百伏的电压来维持放电。两个电极之间形成的放电类型取决于工作气体的压力、工作气体的性质、施加的电压和放电的几何形状。我们讨论了放电的电流-电压特性以及辉光放电区形成的独特结构。直流辉光放电出现在 0.5 – 300 Pa 压力下的放电电流范围从 μ A 到 mA。我们讨论了在直流辉光放电中观察到的各种现象,包括阴极区域、正柱和条纹。直流辉光放电由由于离子轰击而从阴极靶发射的二次电子维持。几十年来,直流辉光放电一直被用作溅射源。然后它通常以受阻异常辉光放电的形式运行,所需施加的电压在 2 – 5 kV 范围内。通常,阴极靶(要沉积的材料)连接到负电压电源(直流或射频),并且基底支架面向靶。相对较高的工作压力(2 至 4 Pa 范围内)、高施加电压以及需要导电靶,限制了直流辉光放电作为溅射源的应用。为了降低放电电压并扩大工作压力范围,通过在阴极靶后面添加永磁体来施加磁场,增加靶附近电子的寿命。这种布置称为磁控溅射放电。介绍了磁控溅射放电的各种配置及其应用。此外,还简要讨论了直流放电在化学分析中的应用、彭宁放电和空心阴极放电及其一些应用。