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World File Search System透射率
材料化学 A - RSC 出版
最近，人们尝试将能量收集和存储结合起来，制成用于自供电系统的光伏储能模块 (PESM)。13-15然而，外部电路通常用作集成器件中 PV 和电荷存储部分之间的互连，这会导致平面互连导致表面积利用率低，并且与柔性基板上的卷对卷印刷不兼容。探索具有高机械灵活性和光学透明度的设备以满足未来无处不在的电子产品（包括可穿戴设备和交互系统）的需求是一项挑战。16,17该领域的最终目标是通过印刷或卷对卷制造在垂直方向上开发高效、灵活、透明且低成本的 PESM。 18,19 因此，低温下实现的全溶液处理柔性 PESM 非常适合实现升级，并且具有成本效益。光伏设备中常用的透明电极是氧化铟锡 (ITO)，它可以提供高透射率和低薄层电阻。然而，ITO 机械脆性大，
光子时间晶体缺陷
光子时间晶体（PTC）提供了一个全新的平台，该平台由于定期变化的电磁特性而显示出光波扩增。控制这种扩增的需求变得越来越重要，尤其是随着基于元表面的PTC实现的出现。这项工作引入了PTC中孤立的时间缺陷，以建立对扩增的新程度。我们发现，在存在缺陷的情况下，对于带盖的特定动量值（𝒌𝒌）的特定值伴随着对扩增量的显着影响，透射率和反射率接近统一。我们显示了时间缺陷对PTC周期强度指数增长的影响。效果主要取决于PTC的浮频频率，后者在𝒌𝒌时变为真实，从而产生四个脉冲，而不是两种作为间隙传播的结果。我们进一步证明，通过操纵缺陷的时间和介电特性，可以调节动量中的缺陷状态以为专业应用提供设计兴趣。
废水处理的UV消毒系统
摘要：紫外线消毒是具有成本效益且易于维护的分散区域。但是，为了确保其有效性，需要考虑一些参数。在这项研究中，进行了对科学文章的一般搜索，以确定这些参数对紫外线系统中微生物重新激活的影响。此外，将不同的搜索字符串专用于废水处理，紫外线系统和晚期氧化过程（AOPS）。发现为了保持低透射率，必须去除悬浮固体并降低水硬度。建议控制0-5 mV范围内的ZETA电位，以避免颗粒和细菌的聚集。确定适当的紫外线剂量对于减轻微生物的重新激活至关重要。最低剂量为40 mJ/cm 2可以有效消毒并降低重新激活的可能性。另外，保持至少0.5 mg/L的残留氯水平为重新激活提供了额外的障碍。根据每个单个单元的建议，优化UV系统的设计流速率也很重要。这些措施以及紫外消毒和化学或AOP S的组合可以有效地减少重新激活。
SU-8 2000 永久负性环氧光刻胶
SU-8 2000 是一种高对比度、环氧基光刻胶，专为微加工和其他微电子应用而设计，这些应用需要厚实、化学和热稳定的图像。SU-8 2000 是 SU-8 的改进配方，多年来已被 MEMS 生产商广泛使用。使用干燥速度更快、极性更强的溶剂系统可提高涂层质量并提高工艺产量。SU-8 2000 有 12 种标准粘度。单次涂覆工艺即可实现 0.5 至 >200 微米的薄膜厚度。薄膜的暴露部分和随后的热交联部分不溶于液体显影剂。SU-8 2000 具有出色的成像特性，能够产生非常高的纵横比结构。SU-8 2000 在 360 nm 以上具有非常高的光透射率，这使其非常适合在非常厚的薄膜中对近垂直侧壁进行成像。 SU-8 2000 最适合于在设备上成像、固化并保留的永久应用。
SU-8 2000 永久负性环氧光刻胶
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CVD 硫化锌® | Cleartran® VIS/IR 应用
CVD Ceramics 的化学气相沉积 CVD 硫化锌 ® 是红外窗口、圆顶和光学元件的低成本替代品。硫化锌的断裂强度是硒化锌的两倍，而且硬度高，已成功用于许多需要机械抗恶劣环境的军事应用。Cleartran ® 是一种 CVD 硫化锌 ® 材料，通过后沉积热等静压工艺进行改性。该工艺从晶格中去除氢化锌，使晶体结构正常化并净化材料，所有这些都有助于在可见光至远红外范围（0.35 -14 微米）内实现单晶般的透射率。由于其在宽传输范围内的低吸收和散射以及高光学质量，它特别适合需要单个孔径用于多个波段光束路径的多光谱应用。 CVD Zinc Sulfide ® 和 Cleartran ® 具有化学惰性、不吸湿、高纯度、理论上致密且易于加工。可根据您的规格定制直径、矩形、CNC 异形毛坯、生成的镜片毛坯、棱镜和近净形圆顶。
CVD 硫化锌® | Cleartran® VIS/IR 应用
CVD Ceramics 的化学气相沉积 CVD 硫化锌 ® 是红外窗口、圆顶和光学元件的低成本替代品。硫化锌的断裂强度是硒化锌的两倍，而且硬度高，已成功用于许多需要机械抗恶劣环境的军事应用。Cleartran ® 是一种 CVD 硫化锌 ® 材料，通过后沉积热等静压工艺进行改性。该工艺从晶格中去除锌氢化物，使晶体结构正常化并净化材料，所有这些都有助于在可见光至远红外范围（0.35 -14 微米）内实现单晶般的透射率。由于其在宽传输范围内的吸收和散射率低，光学质量高，它特别适合需要单个孔径用于多个波段光束路径的多光谱应用。 CVD Zinc Sulfide ® 和 Cleartran ® 具有化学惰性、不吸湿、高纯度、理论上致密且易于加工。可根据您的规格定制直径、矩形、CNC 异形毛坯、生成的镜片毛坯、棱镜和近净形圆顶。
用于 3D 打印应用的聚碳酸酯-二氧化硅细丝的制造和特性
摘要 由于其坚固性、实现复杂几何形状的能力以及易于使用，3D 打印已成为工程领域值得关注的应用之一。聚碳酸酯由于其优异的机械和光学性能而成为受人关注的热塑性塑料。特别是当注入纳米二氧化硅时，聚碳酸酯成为具有增强性能的 3D 打印的潜在候选材料。注入 AEROSIL（纳米二氧化硅）的聚碳酸酯纳米复合长丝已以 0.5、1 和 3 wt％ 的各种填料负载熔融挤出，然后进行 3D 打印。长丝的热分析表明，长丝的热稳定性随着填料负载的增加而增加。拉伸试验表明，添加纳米二氧化硅增强了长丝和 3D 打印薄膜的机械性能。低浓度二氧化硅的添加表现出更高的紫外线透射率，因为二氧化硅限制了聚碳酸酯的流动性。尽管 3D 打印会导致块状材料中出现空隙，但低浓度（0.5 和 1 wt%）的二氧化硅可以改善机械和光学性能。这些改进有望应用于薄膜界面和汽车行业。
SU-8 2000 永久负性环氧光刻胶
SU-8 2000 是一种高对比度、环氧基光刻胶，专为微加工和其他微电子应用而设计，这些应用需要厚实、化学和热稳定的图像。SU-8 2000 是 SU-8 的改良配方，多年来已被 MEMS 生产商广泛使用。使用干燥速度更快、极性更强的溶剂系统可提高涂层质量并提高工艺产量。SU-8 2000 有 12 种标准粘度。单次涂覆工艺即可实现 0.5 至 >200 微米的薄膜厚度。薄膜的暴露部分和随后的热交联部分不溶于液体显影剂。SU-8 2000 具有出色的成像特性，能够产生非常高的纵横比结构。SU-8 2000 在 360 nm 以上具有非常高的光透射率，这使其非常适合在非常厚的薄膜中对近垂直侧壁进行成像。 SU-8 2000 最适合于在设备上成像、固化并保留的永久性应用。
有缺陷和无序材料中的热传输
随着热科学的最新进展，例如开发新的理论和实验技术，并发现了新的运输机制，这有助于重新审视振动热传导的基本原理，以制定更新的和知识的物理理解。模拟和建模方法的成熟度的越来越多，激发了利用这些技术来通过数字工程和多规模的电子热模型来快速改善和开发技术的愿望。考虑到这一愿景，这篇综述试图通过关注子领域之间通常未解决的关系来建立对热运输的整体理解，这对于多尺度建模方法至关重要。例如，我们概述了模式（计算）和光谱（分析）模型之间的关系。我们根据扰动方法和经典的基于透射率的模型将热边界电阻模型与热边界电阻模型相关联。我们讨论了晶格动力学与分子动力学方法之间的关系，以及最近出现的两通道传输框架，并连接了晶体样和无定形的热传导。在整个过程中，我们讨论了建模实验数据的最佳实践，并概述了这些模型如何指导材料级别和系统级设计。