阿纳托利·扎夫多维耶夫 1, 安德烈·克拉帕图克 1, 蒂埃里·博丹 2, 埃里克·麦克唐纳 3, 达内什·莫汉 4, 若昂·奥利维拉 5, 亚历克斯·加伊沃隆斯基 1, 瓦列里·波兹尼亚科夫 1, 金亨燮 6, 弗朗索瓦·布里塞特 2, 马克西姆·霍赫洛夫 1, 马克·希顿 7, 马西莫·罗甘特 8, 米科拉·斯科里克 9, 德米特里·韦德尔 10, 罗曼·科津 1, 伊利亚·克洛奇科夫 1, 斯维亚托斯拉夫·莫特鲁尼奇 1
作为晶圆清洁过程,RCA(美国无线电公司)清洁主要使用。但是,RCA清洁存在诸如洗澡生活不稳定,重新吸附杂质和高温清洁等问题。在此,我们试图通过使用螯合剂(草酸)解决这些问题来提高硅晶片的纯度。通过参考Pourbaix图,可以鉴定出由清洁液和每个金属粉之间反应产生的化合物。所有金属在反应前均表现出10μm或更高的粒径分布,但反应后的粒径分布为500 nm。在适当的情况下,可以证实反应前后的金属显示出不同的吸光度。由于通过这种清洁溶液清洗了回收硅晶片表面的元素分析,因此证实除了SI以外,未检测到其他次级。关键字:回收硅晶片,晶圆清洁,金属杂质,金属复合物,螯合剂
化学计量体积LUH 2是一种顺磁金属,具有与简单金属相当的高电导率。在这里我们表明,通过磨削过程(即,由商业购买的LuH 2粉末制成的CP颗粒)在粒度或表面条件下修改晶粒尺寸或表面条件的敏感性变化,其较高金属粉仍然是金属的,但仍表现出数千倍的电阻性,而较高的电阻率则越来越多,而较高的电阻却增强了较高的势力,而又一次的势力又增强了空中的增强性,并且又增强了空中的增强性。对于这些CP样品,有趣的是,我们有时可以在高温下观察到突然的电阻率下降,这也显示出对磁场和电流的依赖。可变温度XRD,磁敏感性和比热的测量不包括观察到的电阻率下降的结构,磁性和超导转换的可能性。相反,由于氢化计量学的修饰或氧气/氮的污染,我们暂时将上述观察结果归因于晶体表面上的绝缘层的存在。金属晶粒通过绝缘表面的渗透可以解释电阻率的突然下降。因此,目前的结果要求谨慎地认为电阻率下降是超导性的,并使背景减法无效分析电阻率数据。