[1] HP LTO-6 介质金属颗粒和钡铁氧体,2015 年 12 月 22 日存档于 Wayback Machine,惠普,2014 年 5 月。[2] Re,Mark(2015 年 8 月 25 日)。“关于硬盘面密度的技术讨论”。希捷。[3] Mallary,M.;Torabi,A.;Benakli,M。IEEE Trans. Magn. 2002,38,1719。[4] Erlich,Y.;Zielinski,D. Science 2017,355,950。[5] Church,G.;Gao,Y.;Kosuri,S. Science 2012,337,1628。3
内容 1. 简介 ................................................................................................................................................................................ 2 2. EMI 优化设计 ................................................................................................................................................................ 3 2.1. CA-IS2092A 概述 ...................................................................................................................................................... 3 2.2. 优化设计和布局 ...................................................................................................................................................... 4 2.2.1. 去耦电容放置 ............................................................................................................................................. 4 2.2.2. 初级侧和次级侧之间的 Y 电容放置 ............................................................................................................. 4 2.2.3. 铁氧体磁珠/共模电感/差模电感 ............................................................................................................. 5 2.2.4. 构建边缘保护 ............................................................................................................................................. 5 3. CA-IS2092A 低 EMI 参考设计 ............................................................................................................................. 6 3.1. PCB 设计指南 ................................................................................................................................................................ 6 3.2. CA-IS2092A 参考设计原理图 ................................................................................................................................ 8 3.3. 参考设计测试结果 ................................................................................................................................................ 9 4. 修订历史 ............................................................................................................................................................. 11 5. 重要声明 ............................................................................................................................................................. 11
技术数据表类型:Pearlstick™ 5778 NT1 TPU 是一种聚酯型热塑性聚氨酯 (TPU)。特点:它特别适合分散视频、音频和数据存储应用中使用的钴铁氧体以及 Cr02 颜料。该产品在加速测试条件下具有出色的水解稳定性以及出色的颜料分散特性。由于其中等 Tg,它具有出色的附着力和更易于压延的高质量视频和音频配方。通过与其他更硬的分散树脂混合,可以配制出优质的录像带。它还用作聚合物分散剂来分散高表面积颜料。
使用十二烷基硫酸钠(SDS)和高纯度分析级硝酸盐,通过化学共沉淀法在控制温度下合成磁钴铁素纳米颗粒(NP)。合成的材料的特征是研究的X射线衍射(XRD),扫描电子显微镜(SEM)和傅立叶变换红外辐射(FTIR)技术。样品在850 0 c烧结5H。X射线衍射分析证实了用公式AB 2 O 4的单相立方尖晶石结构的形成。在四面体(A位点)和八面体(a-o,b-o)上的晶格常数,X射线密度,结晶石大小,位置半径(R a,r b),键长(A-O,B-O)上的四面体(A位点)和八面体(b site)在样品中计算出来。晶格常数和结晶石尺寸分别为8.361 A 0和27 nm。FTIR光谱在四面体和八面体部位分别在400 cm -1和800 cm -1的范围内显示了两个强吸收带。SEM研究表明,平均晶粒尺寸为0.25 µm,几乎是球形形状的微结构钴铁氧体纳米粒子。关键字:化学合成,纳米颗粒,结晶石大小,XRD,FT-IR,SEM。1。简介:铁磁性材料含有一种称为铁氧体的氧化铁。铁素体具有一个立方尖晶石相,具有通用式AB 2 O 4,其中A是二价金属离子,例如Ni,Zn,Mn,Mn,Cu,Ca,Ca,Co,Mg,Mg和B是Fe,Sm,sm,sm,gd,la,ce,等等的三价金属离子。该结构中氧离子的排列提供了四面体(a)和八面体(b)位点。许多阳离子优先占据了其中一个位置。居住在8个四面体和16个八面体位置的阳离子在铁氧体的独特特征中具有重要作用。由于现代社会不断增长的需求,铁矿的微波特性现在需求很高。钴铁矿是微波工业中最常使用的材料,因为它们的高化学稳定性,机械品质,低成本和易于制造。他们的一般化学公式(AB 2 O 4)具有逆尖晶石结构,其一半占据了四面体A位点的铁离子,其余的以及钴离子,分布在八面体B点上。钴
无线电物理学的研究工作旨在阐明光和微波电磁辐射与大气和地球表面相互作用的过程;开发用于激光遥感和大气监测的实验系统;土壤水分含量的微波遥感辐射测量;开发信号和信息处理的算法和技术;构建用于雷达和通信应用的微波单元和系统;研究光通信介质中的非线性过程。开发了具有微米尺寸的新型铁氧体器件,有可能实现更高的集成度。正在积极研究旋磁材料,以期达到更高的频率范围,尤其是用于无线通信的毫米波和保护免受强大的微波辐射。
稀土正铁氧体在稀土和铁离子的磁有序状态下表现出各种有趣的物理现象,例如自旋重新取向跃迁时的巨大声速异常和允许电控制磁性的磁感应铁电性 [1,2]。受挫磁体镝正铁氧体具有物理性质截然不同的竞争状态。在临界磁场之上,它会产生自发电极化并显示巨线性磁电效应 [3]。最近的中子衍射实验表明,在低外加场下,这种多铁磁电状态受到 Dy 和 Fe 自旋不公度顺序的抑制 [4- 6]。我将讨论不公度状态的性质,并表明 Dy 和 Fe 自旋之间的耦合使均匀状态不稳定,而不会在 Dy 自旋的反铁磁顺序中形成周期性的畴壁阵列。 Dy 畴壁之间的相互作用由通过 Fe 磁性子系统传播的磁振子介导,类似于介子交换产生的质子和中子之间的汤川相互作用 [7]。磁畴壁带电,不公度相和均匀相之间的竞争导致自旋态对外加电场和磁场的高度敏感性。[1] VD Buchel'nikov 等人,Physics--Uspekhi 39,547(1996 年)。[2] Y. Tokunaga 等人,Nature Mater。8,558(2009 年)。[3] Y. Tokunaga 等人,Phys. Rev. Lett. 101,097205(2008 年)。[4] C. Ritter 等人,J. Phys. Condens. Matter. 34,265801(2022 年)。 [5] B. Biswas 等,Phys. Rev. Mater. 6, 074401 (2022)。[6] S. Nikitin 等,即将出版。[7] S. Artyukhin 等,Nature Mater. 11, 694 (2012)。
摘要:本研究旨在通过采用X射线衍射(XRD),UV-VIS光谱,拉曼光谱和傅立叶光谱和傅立叶变换光谱(FTIR)技术来研究铜掺杂锌铁氧体(ZNFE 2 O 4:CU)的结构和光学特性。使用固态反应技术,创建了具有X = 0、0.25、0.5、0.75、1的样品的Cu X Zn 1-X Fe 2 O 4。X射线分析验证了所有浓度的单相立方尖晶石结构的产生。铜铁氧体的X射线衍射模式显示出具有Jahn Teller四方变形的纯尖晶石结构。根据Rietveld的改进,所有X浓度的Cuxzn 1 -XFE 2 O 4对应于通常的尖晶石结构。随着铜的浓度升高,晶体尺寸减小,除了Cu 0.5 Zn 0.5 fe 2 O 4,与所有铜相比,这一点很高。晶格参数和X射线密度变化。掺杂铜锌铁晶的带隙从1.825 eV增加到2.776EV。红外和拉曼光谱也证实了样品中的尖晶石相。使用反应的拉曼光谱来计算五种拉曼模式的位置以及强度变化。使用反价vol的拉曼峰推断出A和B位点中的阳离子排列。在拉曼光谱中,晶体结构比在室温下更可见。ft-ir分析验证了尖晶石结构,在630-540 cm -1和525-390 cm -1处揭示了对较高和较低频率的吸收带。铜掺杂有望影响锌铁锌的晶体学结构和光学行为,并有可能增强其在各种技术领域的应用。