摘要:加法是数字计算机系统的基础。本文介绍了三种基于标准单元库元素的新型门级全加器设计:一种设计涉及 XNOR 和多路复用器门 (XNM),另一种设计利用 XNOR、AND、反相器、多路复用器和复合门 (XNAIMC),第三种设计结合了 XOR、AND 和复合门 (XAC)。已与许多其他现有的门级全加器实现进行了比较。基于对 32 位进位纹波加法器实现的广泛模拟;针对高速(低 V t )65nm STMicroelectronics CMOS 工艺的三个工艺、电压和温度 (PVT) 角,发现基于 XAC 的全加器与所有门级同类产品相比都具有延迟效率,甚至与库中可用的全加器单元相比也是如此。发现基于 XNM 的全加器具有面积效率,而基于 XNAIMC 的全加器在速度和面积方面与其他两种加法器相比略有折衷。I. 简介二进制全加器通常位于微处理器和数字信号处理器数据路径的关键路径中,因为它们是几乎所有算术运算的基础。它是用于许多基本运算(如乘法、除法和缓存或内存访问的地址计算)的核心模块,通常存在于算术逻辑单元和浮点单元中。因此,它们的速度优化对于高性能应用具有巨大的潜力。1 位全加器模块基本上由三个输入位(例如 a、b 和 cin)组成并产生两个输出(例如 sum 和 cout),其中' sum'指两个输入位'a'和'b'的总和,cin 是从前一级到这一级的进位输入。此阶段的溢出进位输出标记为“ cout ”。文献 [1] – [10] 中提出了许多用于全加器功能的高效全定制晶体管级解决方案,优化了速度、功率和面积等部分或所有设计指标。在本文中,我们的主要重点是使用标准单元库 [11] 中现成的现成组件实现高性能全加器功能。因此,我们的方法是半定制的,而不是全定制的。本文主要关注逻辑级全加器的新颖设计,并从性能和面积角度重点介绍了与许多其他现有门级解决方案的比较。从这项工作中得出的推论可用于进一步改进晶体管级的全加器设计。除此之外,本文还旨在提供教学价值的附加值。本文的其余部分组织如下。第 2 节介绍了 1 位二进制全加器的各种现有门级实现。第 3 节提到了三种新提出的全加器设计。第 4 节详细介绍了模拟机制和获得的结果。最后,我们在下一节中总结。
1. 吉林华微电子有限公司的产品销售方式为直销或代理销售,客户订货时请与我公司核实。 2. 我们强烈建议客户在购买我公司产品时仔细查看商标,如有任何问题,请随时与我们联系。 3. 电路设计时请不要超过器件的绝对最大额定值。 4. 吉林华微电子有限公司保留对本规格书进行更改的权利,如有更改,恕不另行通知。
这40〜150V SGT MOSFET非常适合汽车内部的应用。根据AEC-Q101质量标准对其长期可靠性进行了测试。JMSL0406AGQ及其双DIE变体JMSL0406AGDQ在车身控制模块(BCM)中很受欢迎,例如低功率DC电动机驾驶。r ds(on)降至13m,JMSH041AGQ适合中/高功率直流电动机的功率效率要求。典型的应用是:多路电动座椅,电源后挡板,集中式门锁,ESC(电子稳定控制)。在V ds_max = 100V处,并在低调的PDFN5x5-8L软件包中组装,JMSL1018AGQ非常适合在信息娱乐/ADAS单元的平板显示器显示中LED背光。相比之下,JMSL1020AGDQ同时在较大面板中同时驱动两个高亮度LED。
中国科学技术大学中国科学院量子信息重点实验室,合肥 230026,中华人民共和国 https://orcid.org/0000-0002-4569-7716
本文所包含的信息被认为是可靠的,但没有任何形式的陈述,担保或保证就其准确性,适用于特定申请或要获得的结果。这些信息通常基于实验室的小型设备,不一定表明最终产品性能或可重现性。提出的配方可能没有进行稳定性测试,仅应作为建议的起点。由于在处理这些材料时商业上使用的方法,条件和设备的变化,因此没有对产品适用于披露的申请的适用性。全尺度测试和最终产品性能是用户的责任。Lubrizol Advanced Materials,Inc。不承担任何责任,并且客户对除Lubrizol Advanced Materade,Inc。的直接控制外的任何用途或处理任何材料都承担所有风险和责任。卖方不对明示或暗示的担保,包括但不限于对特定目的的适销性和适合性的隐含保证。本文中没有任何包含在未经专利所有者许可的情况下练习任何专利发明的授权,也不应将其视为诱因。Lubrizol Advanced Materials,Inc。是Lubrizol Corporation的全资子公司。
如需更多信息或说明,请联系供应链办公室(电话:3224360/9992400/9987085)或发送电子邮件至 tenders@efl.com.fj
摘要:有能力以能量的方式处理数据,建议神经形态计算来克服传统的von Neumann计算系统的问题。神经形态计算由神经元和突触的两个关键特征组成,其中神经元整合了所有电荷,而突触则保留了这些电荷。在本文中,我们制造和分析了模仿单个基于Si的金属氧化物半导体fimect-eect-ectect晶体管(MOSFET)结构中神经元和突触的设备。我们制定和分析2 O 3/Si 3 N 4(A/N)和Al 2 O 3/HFO 2/Si 3 N 4/SiO 2(A/H/N/N/O)设备,以使A/N设备建议用作神经元设备,因为它可以用作快速电荷发射特征,而将其用作a/h/h/h/h/h/h/h/h/h/h/h/h/h/h/h/h/h/h/h/h/h/h/h/h/h/长期收费。我们建议通过在MOSFET中采用不同的栅极绝缘体堆栈结构来制造神经元和突触的可能性。关键字:神经形态计算,突触设备,神经元设备,场效应晶体管,保留,高κ,HFO 2,SI 3 N 4 4■简介
我们已尽力确保本出版物内容准确无误,但 Kingspan Limited 及其子公司不对任何错误或误导性信息负责。有关产品最终用途或应用或工作方法的建议或描述仅供参考,Kingspan Limited 及其子公司对此不承担任何责任。