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摘要：通常认为开放壳分子石墨烯片段的反应被认为是不希望的分解过程，因为它们导致诸如π-磁性等所需特征的丧失。氧化二聚二聚体表明，这些转化是通过在单个步骤中形成多个键和环制造复杂结构的合成结构的希望。在这里，我们探讨了使用Phena-lenyyl的这种“不希望”反应来构建应变并提供非平面多环芳烃的可行性。为此，我们设计并合成了一个双烯基单元通过双苯基骨架链接的Biradical系统。设计促进了分子内级联反应对螺旋扭曲的鞍形产物，其中一个反应中的关键转换（环锁和环形融合）在一个反应中。通过单晶X射线衍射分析证实了最终的绿吡就产物的负曲率，该植物诱导的曲率通过分辨率通过分辨率的映异构体验证，该螺旋扭转验证了螺旋扭曲，这些向映异构体显示圆形极化的发光和高构型稳定性。
应力膜直接图案化对马鞍形翘曲的应力分析与优化
摘要 随着三维集成电路（3D-IC）堆叠的增加，由于不对称马鞍形翘曲的增加，机械应力问题具有挑战性。通过在晶圆背面形成数十微米的沟槽或进行激光退火处理来减少不对称翘曲的各种方法已被提出，但它们的产量低或缺乏改进价值。在本文中，我们提出了一种通过在晶圆背面直接涂覆来降低取决于翘曲形状的机械应力的新方法。所提出的方法是通过使用喷墨打印对感光聚酰亚胺（PSPI）进行图案化以调整表面特性和台阶，然后沉积具有高压应力的四乙基硅酸酯（TEOS）薄膜来释放翘曲。利用ABAQUS有限元分析软件，测量了裸晶圆在工艺前后沿x轴和y轴方向的不对称弯曲变化。通过实验和仿真，在300mm晶圆上部分沉积10µm厚的TEOS膜时，x-y方向的倾斜度约为230µm。此外，利用该工艺，可以根据TEOS膜厚度和面积的变化来释放局部弯曲（翘曲）。这些结果为解决堆叠工艺引起的异常翘曲提供了有效的指导，可应用于先进封装中的3D集成。关键词 翘曲、马鞍形翘曲、NAND、3D NAND、背面图案化
由萘形成的 80 碳芳香鞍形结构...
Scholl 反应 1 是一种合成多环芳烃的有效方法，可在一步中形成多个碳 - 碳键。通过自由基阳离子机理 2 进行的 Scholl 反应对底物内电子密度的分布非常敏感，氧化芳族偶联发生在电子密度最高的位置。3 基于这一概念，我们最近证明，通过在底物中引入萘部分可以促进 Scholl 反应，从而产生高度弯曲的多环芳烃。4,5 在此，我们通过展示成功合成前所未有的芳香鞍形物（图 1 中的 1）来扩展这一策略的范围，这是通过在 Scholl 反应的底物中加入萘基来实现的。芳香鞍形物，也称为负弯曲多环芳烃，最近受到越来越多的关注 6,7，原因有两个。首先，它们代表碳黑石中的片段 8