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World File Search System预失真
通过数字实现 SFOL DME 脉冲整形高精度 DME 的预失真
摘要 — 拉伸前腿 (SFOL) 脉冲是一种高精度测距设备 (DME) 脉冲，旨在支持全球导航卫星系统中断期间飞机的替代定位和导航。为了方便使用 SFOL 脉冲，最好使用已经部署的传统 DME 来传输 SFOL 脉冲，而不是当前的高斯脉冲，只需通过软件更改即可。当尝试在传统 DME 中传输 SFOL 脉冲时，最大的挑战是传输单元中的脉冲整形电路和功率放大器引起的脉冲形状失真，使得原始 SFOL 脉冲形状不再保留。本信提出了一种基于逆向学习的 DME 数字预失真方法，并展示了基于商业传统 DME 的测试台成功传输的 SFOL 脉冲，该 DME 旨在传输高斯脉冲。
通过数字预失真对 SFOL DME 脉冲进行整形，实现高精度 DME
摘要 — 拉伸前腿 (SFOL) 脉冲是一种高精度测距设备 (DME) 脉冲，旨在支持全球导航卫星系统中断期间飞机的替代定位和导航。为了方便使用 SFOL 脉冲，最好使用已经部署的传统 DME 来传输 SFOL 脉冲，而不是当前的高斯脉冲，只需通过软件更改即可。当尝试在传统 DME 中传输 SFOL 脉冲时，最大的挑战是传输单元中的脉冲整形电路和功率放大器引起的脉冲形状失真，使得原始 SFOL 脉冲形状不再保留。本信提出了一种基于逆向学习的 DME 数字预失真方法，并展示了基于商业传统 DME 的测试台成功传输的 SFOL 脉冲，该 DME 旨在传输高斯脉冲。
集成接收器简化数字预失真的模拟部分 - 高频电子 2009 年 7 月
数字处理能力的飞速发展导致了对高性能模拟信号处理产品的需求增加。如今，蜂窝网络除了提供传统语音之外，还提供大量数据和视频，而且传输速率比以往任何时候都快。这导致了依赖复杂数字技术的新调制技术和新空中接口标准的出现。虽然数字技术使系统能够运行得更快、功耗更低、使用更小的封装尺寸并提高每一代系统的可靠性，但这些系统对系统的 RF 和模拟信号采集部分提出了新的要求。基站发射机的复杂调制和宽带宽导致功率放大器 (PA) 的波峰因数更高。为了满足更高波峰因数下更严格的要求，功率放大器通常尺寸过大，以便在线性区域内运行。如果不进行数字校正，PA 效率可能在 10% 左右，这意味着 20 W PA 需要 200 W 的能力。PA 是基站中最大的电力消耗者，因此是蜂窝服务提供商运营费用的重要因素。为了提高 PA 效率，数字技术用于峰值因数降低 (CFR) 和数字预失真 (DPD)。虽然放大器在饱和时效率最高，但它会变得高度非线性。复杂的数字调制需要 PA 具有极高的线性度，
开放DPD
摘要 — 随着通信容量的提高，用于数字预失真 (DPD) 以校正宽带功率放大器 (PA) 中非线性的深度神经网络 (DNN) 已变得突出。 然而，在快速 DPD 探索和客观 DPD 模型比较方面，开源和独立于测量设置的平台仍然存在空白。 本文介绍了一个用 PyTorch 编写的开源框架 OpenDPD ，以及用于 PA 建模和 DPD 学习的相关数据集。 我们引入了一个密集门控循环单元 (DGRU)-DPD，通过一种新颖的端到端学习架构进行训练，与模拟 PA 相比，它在具有非常规传输特性的新数字发射器 (DTX) 架构中的数字 PA (DPA) 上的表现优于以前的 DPD 模型。测量结果表明，我们的 DGRU-DPD 实现了 200 MHz OFDM 信号的 -44.69/-44.47 dBc 的 ACPR 和 -35.22 dB 的 EVM。OpenDPD 代码、数据集和文档可在 https://github.com/lab-emi/OpenDPD 上公开获取。索引术语 — 数字预失真、行为建模、深度神经网络、功率放大器、数字发射器
基于复阻抗轨迹的负载调制平衡放大器设计方法
摘要 本文介绍了一种负载调制平衡放大器 (LMBA) 的设计方法，重点是减轻 AMPM 失真。通过引入二次谐波控制作为设计自由度，可以选择复杂的负载轨迹来补偿设备中的 AMPM 非线性，而不会显著影响效率。数学推导伴随着基于闭式方程的设计程序，以仅基于负载牵引数据来制造 LMBA。通过对三种不同设计进行测量比较来验证该理论，这些设计在伪 RF 输入 Doherty 类 LMBA 配置中以 2.4 GHz 运行，具有 J 类、-B 类和 -J* 类主 PA。J 类原型的性能优于其他设计，在峰值输出功率和 6 dB 回退时分别具有 54% 和 49% 的漏极效率，并且在此功率范围内只有 4 度的 AM-PM。当使用 10 MHz、8.6 dB PAPR LTE 信号驱动时，无需数字预失真，即可实现 40.5% 的平均效率和优于 − 40.5 dBc 的 ACLR。
CTM-SRAF：基于连续传输掩模的约束感知亚分辨率辅助特征生成
引言在过去的几十年里，集成电路的特征尺寸按照摩尔定律不断缩小。光学光刻已进入低 k -1 区域[1]，[2]，所用光的波长仍为193 nm。因此，使用传统光刻工艺获得高图案保真度和掩模版可印刷性变得越来越具有挑战性。此外，印刷晶圆图像对光刻条件的微小变化变得高度敏感。为了缓解这些问题，对光学光刻中的分辨率增强技术 (RET) 的要求变得更加严格[3]，[4]。最广泛采用的 RET 之一是光学邻近校正 (OPC) [5]，[6]，[7]，[8]，[9]。传统OPC中，光刻掩模版针对主图案进行预失真处理，以补偿印刷晶圆图像的不良失真。然而，随着关键尺寸的缩小和目标图案的复杂化，仅使用OPC很难在足够的工艺窗口下获得令人满意的印刷图像。