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突破性晶体让科学家用光“书写”纳米级图案
一组科学家发现了一种可以使用普通光重塑和编程的晶体，为构建光学技术开辟了一条新途径。 XPANCEO 新兴技术研究中心的研究人员与诺贝尔奖获得者 Konstantin Novoselov 教授（曼彻斯特大学和新加坡国立大学）合作，发现了 [...]
来源:SciTech日报一组科学家发现了一种可以使用普通光重塑和编程的晶体，为构建光学技术开辟了一条新途径。
XPANCEO 新兴技术研究中心的研究人员与诺贝尔奖获得者 Konstantin Novoselov 教授（曼彻斯特大学和新加坡国立大学）合作，发现了三硫化二砷 (As S)（一种结晶范德华半导体）中不寻常的光学行为。他们的工作表明，这种材料可以被光永久改变，甚至可以使用简单的连续波（CW）光在纳米尺度上成形。这种方法无需昂贵的洁净室光刻或先进的飞秒激光系统。
了解折射率和光折变性
这一发现背后的一个关键属性是折射率，它决定了材料弯曲或减慢光的程度。折射率较高的材料能够更好地引导光线通过光学系统。在某些情况下，光本身可以改变此属性。这种效应称为光折变，即暴露在光下会改变折射率。
即使在低强度紫外线下，结晶 As S 也能表现出这种效果。在研究中，该材料表现出非常大的光致折射率变化（高达 Δn ≈ 0.3）。这明显高于通常报道的众所周知的光折变材料（例如 BaTiO 或 LiNbO）的值。
直接用光写入光学函数
具有强光折变响应的材料允许利用光直接在材料内部创建光学功能。光可以定义材料如何与光信号相互作用，而不是依赖复杂的制造步骤。
纳米级图案和光学指纹
光驱动材料和未来光子学
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DOI：10.1073/pnas.2531552123
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