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微电子革命仍在继续。技术创新层出不穷，半导体器件、集成电路和系统的性能成本比不断提高。尽管这可能很有趣，但过去三十年的微电子历史对行业几乎没有直接好处。这本名为《先进 CMOS 工艺技术》的 VLSI 电子系列丛书提供了微电子领域一个高度相关的领域的当前快照。由于文中讨论的原因，CMOS（互补金属氧化物半导体）技术在现在和未来的电子系统中起着主导作用。在为本专著选择合适的材料时，我们指定了两个选择标准。首先，我们寻找对 CMOS 工艺技术的现在和未来发展水平至关重要的主题。其次，由于篇幅和时间限制，我们关注其他论坛中涉及最少的问题。除了介绍性评论和 CMOS 器件和电路考虑因素的背景外，我们将主题列表缩小到金属化、隔离技术、可靠性和产量。读者不应推断被省略的领域（包括光刻和蚀刻技术）排名较低。相反，这些主题在（例如）本 VLSI 电子学系列的早期卷中已经得到大量明确的审查。最后，我们指出，我们的目标是尽可能清楚地报告我们选择交流的 CMOS 工艺技术问题的现状，从而为全球微电子行业做出贡献。此外，我们试图尽可能准确地预测未来的发展。这种贡献是暂时的。我们希望业界能够通过创新、发明和托马斯·爱迪生那样的辛勤努力超越这本专著的技术内容。事实上，我们将本书献给工程师、科学家和技术经理，他们将使我们提出的许多技术问题变得过时。
VLSI电子微结构科学
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