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该实验的结果证明了Liteq 500工具在置换和旋转中检测,测量和纠正大偏移的能力,在与当前工业标准保持一致的同时,提供了亚微米的准确性。分析表明,可以通过优化对齐过程来实现吞吐量的重大改进。计划进行其他实验,以验证覆盖性能,并在Liteq 500上使用重建晶片进行叠加诊断的能力。初步估计表明,当覆盖要求不太严格时,可以实现更快的吞吐量。在未来的工作中,我们计划研究当前FO-WLP过程中所需的覆盖精度级别可实现的吞吐量。

对重建晶片的光刻处理的模具对齐

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