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摘要：可编程光子集成电路（图片）是光学科学和工程中越来越重要的平台。但是，当前可编程图片主要是通过减法制造技术形成的，该技术限制了设备的重构性，并使原型制作成本昂贵且耗时。可重写的PIC架构可以避免这些缺点，其中图片在单个图片帆布上反复编写和删除。我们通过选择性激光撰写一层宽带间隙相变材料（PCM）SB 2 S 3，并使用低成本的台式设置来演示这种可重写的PIC平台。我们以高达300 nm的分辨率显示任意图案，并编写介电辅助波导，低光损耗为0.0172 db/μm。我们设想，使用这个廉价的台式平台可以在同一芯片上编写，测试和擦除数千个图片设计，而无需使用光刻/蚀刻工具或纳米制造工具，从而降低了制造成本并提高可访问性。关键字：可重写的光子集成电路，相变材料，低损失，激光写作
基于低...
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