机构名称：
¥ 1.0
该弯曲磁体光束线自 1995 年 2 月开始运行，用于表征光学元件（镜子、光栅、多层、探测器等）能量范围为 50-1000 eV。虽然它主要用于 EUV 投影光刻的多层反射光学元件的精密反射测量，但它具有广泛的测量能力。光学元件由单色仪、反射计和重新聚焦镜组成，以在样品上提供一个小点。单色仪是一种非常紧凑、无入口狭缝、变线距平面光栅设计，其中机械刻划光栅在高放大倍数工作的球面镜的会聚光中运行。镜子的像差通过线间距变化进行校正，因此光谱分辨力 λ / ∆λ 受 ALS 光源尺寸限制，约为 7000。波长通过简单旋转具有固定出口狭缝的光栅进行扫描。反射计能够将样品定位在 10 µ m 以内，并将其角位置设置为 0.002 °。基于 LABVIEW™ 的软件为用户提供了方便的界面。反射计通过差动泵与光束线分开，可在半小时内抽空。辅助实验站可以安装在反射计后面。结果证明了光束线的性能和操作便利性。© 1996 美国物理学会。
先进光源的校准和标准光束线 6.3.2
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