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化学工程博士在研究生毕业典礼上荣获 2025 年秋季 Rath 研究奖
屡获殊荣的研究通过原子级等离子蚀刻创新推动下一代计算机芯片的发展。
来源:佩恩公共政策研究所王雪，化学工程博士，2025 年秋季 Bhakta Rath 博士和 Sushama Rath 研究奖获得者。
这项荣誉是在 12 月 19 日举行的 2025 年年中研究生毕业典礼上颁发的，旨在表彰科罗拉多矿业学院的博士研究生，他们的论文展示了对社会影响的最大潜力。在典礼上，矿业学院向 12 月和 8 月的毕业生授予了 96 名博士学位和 301 名硕士学位。
Wang 的论文“理解半导体器件制造用硅基电介质的等离子蚀刻过程中的等离子表面相互作用”直接解决了与下一代计算机芯片制造相关的挑战 - 芯片预计具有小于 2 纳米或小于 10 个原子的特征。
“王学是半导体加工领域的后起之秀。他一直处于领先地位，做出的重大发现将为未来几代高精度亚纳米半导体器件制造（包括人工智能系统和超级计算机设备的制造）带来进步，”负责研究和技术转让的副总裁 Walter G. Copan 说道。 “在半导体制造中，等离子体蚀刻是一个关键过程，薛的实验对原子尺度的蚀刻机制有了深入的了解。薛进行了原位光学计量，建立了一种独特的基于科学的方法来推进该领域的发展。”
在研究过程中，王介绍了几种独特的实验室功能，包括将无水氟化氢气体输送到等离子体中的输送系统，以及在材料等离子体蚀刻过程中表征表面和气体化学特性的分析系统。目前，矿业大学的实验室是美国唯一具备这种能力的学术机构。王的博士生导师是化学与生物工程教授Sumit Agarwal。
拉斯奖决赛入围者是
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化学与生物工程
计算机科学