新型深紫外微型 LED 阵列推动无掩模光刻技术的发展
中国科学技术大学 (USTC) 孙海鼎教授领导的团队开发了一种垂直集成的微尺度发光二极管 (micro-LED) 阵列，然后首次将其应用于深紫外 (DUV) 无掩模光刻系统。他们的研究发表在《激光与光子学评论》上。
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