NIST 的 NanoFab 重新向大学、工业和研究机构敞开大门

在小人国的纳米制造世界中,数十亿个微观电路元件被雕刻或压印在指甲大小的硅芯片上,精度至关重要,并且必须获得最好的制造工具。自 2007 年起

来源:美国国家标准与技术研究院__纳米技术信息
光刻技术分步过程的图示。来源:维基百科公共资源
光刻技术分步过程的图示。来源:维基百科公共资源

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在纳米制造的微型世界中,数十亿个微观电路元件被雕刻或压印在指甲大小的硅片上,精度至关重要,使用最好的制造工具是必需的。

自 2007 年以来,来自学术界和工业界的科学家和工程师们利用位于马里兰州盖瑟斯堡的国家标准与技术研究所 (NIST) NanoFab 的先进工具,制造出计算机微芯片、微型激光器、沙粒大小的生物传感器以及模拟人类神经系统电活动的微型神经探针等设备。

尽管过去三年的疫情安全限制不允许 NIST 以外的研究人员在 NanoFab 工作,但许多人还是联系了 NIST 工厂为他们制造设备。 5 月 15 日,NanoFab 将重新迎接外部用户。 下面重点介绍的只是 NanoFab 提供的 100 多种精密工具中的一小部分;它们中的大多数都位于该工厂 1,800 平方米的洁净室内,该洁净室内有 12 个仪器舱。

纳米制造通常分为四类:光刻、蚀刻、沉积和纳米表征。“NIST NanoFab 提供了所有这些领域的完整工具集,”NanoFab 经理 Rob Ilic 说道。

光刻

光刻使用光束、离子或电子在硅晶片上创建图案。该过程涉及几个步骤。在制造复杂的纳米级图案之前,通常会在晶片上涂上一层柔软的薄层光敏或电子敏材料,称为抗蚀剂。

自动液体抗蚀剂涂布机 手动旋涂机 激光图案生成器 Heidelberg MLA150 Suss MicroTec MA6/BA6 步进机

图片来源:K. Dill/NIST

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