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2024年10月30日 16:59

使用敏感阳离子光刻胶加速 3D 纳米制造

Accelerating 3D nanofabrication using a sensitive cationic photoresist

双光子激光直写光刻或 TPL 是一种用于创建纳米级结构的尖端技术。它的工作原理是利用称为光刻胶的特定材料，这些材料在暴露于光线下时会改变其化学性质。这些材料以独特的方式吸收激光，从而能够在暴露于激光束时进行精确控制。