Tough on Chemicals, Gentle on Gear
一种新的去污剂可以有效地中和化学战剂，而不会损害军事设备。新开发的合成聚合物酶可以为诸如汽车车辆和无人驾驶传感器之类的关节部队设备提供有效的刺激性化学战剂（CWA）deman剂的替代品。在军事设备被CWA污染后，战士必须迅速而彻底地对其进行彻底净化，以减少以任务为导向的保护姿势，保持战斗力并继续执行任务。当前的去污过程使用强烈反应性化学物质（例如苛性剂或漂白剂）在设备表面上中和并破坏CWA。尽管此过程有效地破坏了CWA，但苛刻的去污剂会损坏或腐蚀设备材料并影响任务性能。由于这种不利的后果，联合力量寻求对设备材料没有负面影响但具有有效中和广泛CWA的能力的去污染物。
干粉可以胜过乳液，成为战场上任何地方都可以使用的、储存稳定的化学去污剂。研究人员正在为联合部队开发新的即时皮肤去污原型设备，目标是减少后勤和操作限制，并降低成本。比定期发放的去污设备中的反应性皮肤去污乳液 (RSDL) 套件的成本要低。国防威胁降低局 (DTRA) 化学和生物技术部作为化学和生物防御计划联合科学技术办公室 (JSTO) 正在与美国作战能力发展司令部化学生物中心 (DEVCOM CBC) 合作，英国赫特福德郡大学和行业合作伙伴开发并测试了改进的低成本皮肤净化原型设备。
