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World File Search System万湿
帕万·葛印卡博士
毫无疑问，在印度 2023 年取得的众多成就中，月船三号任务的成功是一个高潮。印度成为第一个在月球南极附近着陆的国家，也是第四个在月球上软着陆的国家。这一成功使印度的太空技术能力成为全球关注的焦点。尽管月船三号象征着渴望在全球太空领域崭露头角的新印度，但随着太空成为印度的朝阳行业，巨大的转变正在发生。印度空间研究组织 (ISRO) 继续成为创新的灯塔，但未来的游戏规则改变者将是通过该国私营部门的参与。过去一年，政府已经发布了一系列公告和举措，以加强私人太空生态系统。印度国家空间促进和授权中心 (IN-SPACe) 的成立激发了非政府实体 (NGE) 的热情，为参与印度空间经济创造了急需的支持系统。备受赞誉的《印度空间政策 2023》为结构化和充满活力的空间部门奠定了基础，鼓励私营部门参与一系列活动，包括制造火箭和卫星、发射火箭和卫星、运营和运营太空设施。
伊顿万斯大盘价值
资料来源：Eaton Vance、FactSet、eVestment Alliance 和 Russell Investment Company。数据按美元加权。投资组合概况可能会发生变化。投资组合的构成和特征基于综合指数中包含的单个代表性账户的总资产。之所以选择该账户，是因为它不受限制，并且公平地代表了经理的整体投资风格。不应假设所提及的任何证券曾经或将来都会盈利。此信息仅供说明之用，随时可能更改，不应被视为投资建议或买卖任何特定证券的建议。业绩回报反映综合指数的平均年回报率。少于 1 年的期间不按年计算。显示的综合结果是投资咨询/管理费的毛利和净额，其中包括绩效费（如适用），以美元报价，包括股息和收入的再投资。由于特定的投资准则和限制，每个投资组合可能有所不同。因此，个别结果会有所不同。请参阅后续页面上的 GIPS® 报告，了解重要的附加信息和披露。 GIPS® 是 CFA Institute 的注册商标。CFA Institute 不认可或推广该组织，也不保证本文内容的准确性或质量。过往表现无法预测或保证未来结果。无法直接投资指数。本文中的某些陈述反映了 Eaton Vance 及其人员的主观观点和意见。此类陈述无法独立核实，可能会发生变化。
万锦市经济发展与文化战略
协调经济发展与文化可以采取多种形式，包括扩大文化项目和服务以满足当前需求和未来人口增长、将文化机构和节日的推广与旅游业结合起来、支持艺术家成为企业家和小企业主、增加对创意产业的投资以及保护和诠释历史地标。视觉艺术、表演艺术、音乐和电影等艺术和创意产业可以产生经济活动并创造就业机会，同时促进推动技术和制造业等其他经济部门发展的创新。增长杠杆可以包括提供资金和资源来支持艺术家和企业家，以及创建空间和活动来展示他们的作品。
万斯空军基地环境承诺声明
弗拉基米尔空军基地致力于遵守高标准的环境质量、可持续发展原则，并提供一个保护员工和基地周围社区健康和安全的工作场所。弗拉基米尔空军基地将通过本承诺声明中表达的领导重点和管理来维持飞行训练联队培养熟练飞行员的使命。
离子表面活性剂介导的数字微流体电去湿
使用电信号 1 来操纵基板上的液滴的能力（称为数字微流体）用于光学 2,3 、生物医学 4,5 、热 6 和电子 7 应用，并已导致商业上可用的液体透镜 8 和诊断套件 9,10 。这种电驱动主要通过电润湿实现，液滴在施加电压的作用下被吸引到导电基板上并在导电基板上扩散。为确保强大而实用的驱动，基板上覆盖有介电层和疏水性面漆，用于介电上电润湿 (EWOD) 11-13 ；这会增加驱动电压（至约 100 伏），并可能因介电击穿 14 、带电 15 和生物污垢 16 而损害可靠性。在这里，我们展示了液滴操控，它使用电信号诱导液体脱湿而不是润湿亲水性导电基底，而无需添加层。在这种与电润湿现象相反的电润湿机制中，液体-基底相互作用不是由电场直接控制的，而是由场诱导的离子表面活性剂与基底的附着和分离控制的。我们表明，这种驱动机制可以在空气中使用掺杂硅晶片上的水执行数字微流体的所有基本流体操作，仅需±2.5伏的驱动电压、几微安的电流和离子表面活性剂临界胶束浓度的约0.015倍。该系统还可以处理常见的缓冲液和有机溶剂，有望成为一种简单可靠的微流体平台，适用于广泛的应用。由于疏水表面是液体吸引机制良好运作的必要条件，我们认识到亲水表面对于液体排斥机制来说是首选。由于大多数材料都是亲水性的，如果发现脱湿驱动有效，则可以像 EWOD 一样实现数字微流体，但不需要疏水涂层。虽然大多数电诱导脱湿现象对常见微流体无效，因为它们基于不可逆过程 17,18 或特殊条件 19 ，但涉及表面活性剂的研究表明可逆性是可能的。例如，已经使用氧化还原活性表面活性剂 20 证明了衍生化金电极上水膜的电引发脱湿。此外，有机液滴已在水性电解质 23 中的共轭聚合物电极上移动。最近，通过使用离子表面活性剂，润滑摩擦系数已在固体-液体-固体配置中切换 21 ，沸腾气泡成核已在液体-蒸汽-固体系统中得到调节 22 。然而，这些方法并没有导致微流体平台技术，这需要可逆、可重复、强大且易于应用于液体-流体-固体系统的电驱动 24 。事实上，我们无法在裸露的金属电极 21,22 或介电涂层电极上用含有离子表面活性剂的水滴获得有效驱动。相反，我们发现裸露的硅晶片可以有效地工作，因为它的天然氧化物具有足够的亲水性，可以轻松脱湿，但又足够薄
通过受贻贝启发的原型实现高效的湿粘附...
线是由贻贝足分泌的液态贻贝足蛋白 (Mfps) 产生的。这些 Mfps 由腺体通过注塑反应组装和制造。[3] 贻贝的足压在表面形成真空室，从而推动流体 Mfps 的输送。据信，局限于斑块中的 Mfps，例如 Mfp-2、Mfp-3、Mfp-4 和 Mfp-5，在暴露于盐水时会形成凝聚层。所有 Mfps 都含有翻译后氨基酸 DOPA，而 mfp-5 含有最大浓度的 DOPA 残基（30 mol%）并导致强粘附。 [4] 据报道，MFP 的凝聚以多种方式发生，例如由静电相互作用驱动的复杂凝聚，如 MFP-131 和 MFP-151 的聚离子中所揭示的那样，[5] 以及由静电和/或疏水力驱动的自凝聚，如 MFP-3S 中所揭示的那样。[6]
732-5758 - KRUSTEAZ 专业超湿黄色蛋糕粉
糖、强化漂白面粉（小麦粉、麦芽大麦粉、烟酸、还原铁、硝酸硫胺素、核黄素、叶酸）、棕榈油和大豆油、葡萄糖、少于 2% 的：硫酸铝、小苏打、食品改性淀粉、瓜尔胶、磷酸一钙、单甘油酯、天然和人工香料、聚山梨醇酯 60、丙二醇酯、红 40、盐、磷酸铝钠、大豆粉、大豆卵磷脂、黄原胶、黄 5。
半导体制造中使用的含 PFAS 湿化学品
在大多数湿法蚀刻、CMP、电镀和其他晶圆清洗操作中，晶圆上暴露于湿法化学处理步骤的区域是由光刻掩模操作定义的非常特殊的区域。因此，在评估湿法化学工艺的复杂性和挑战性时，必须考虑所制造集成电路特征的尺寸和几何复杂性。虽然半导体通常由直径一般为 200 毫米或 300 毫米、厚度约为 800 微米的晶体硅晶圆制成，但单个集成电路器件结构通常具有以纳米为单位的关键尺寸，因此属于分子尺度。器件特征（而非整个晶圆）的尺寸和材料复杂性对湿法化学处理提出了挑战。
高温存储期间铝和触觉湿电容器的降解
铝电解电容器（AEC）可用于较高的电容和电压范围，与触觉电解电容器（TEC）相比。然而，在使用温度加速的常规AEC操作或存储过程中电解质的蒸发不允许在空间电子中使用这些零件。相反，对于需要大价值电容器和高工作电压的系统，设计人员必须使用TEC库，这些TEC库实质上增加了电子模块的大小和重量。使用密封的AEC的开发可能对空间系统有益，只要确保必要的可靠性。在AEC存储期间泄漏电流的增加是众所周知的，并且通常通过电解质中氧化铝溶解来解释。但是，尚未讨论这种效果的其他可能机制。尽管密封的TEC已在太空系统中使用了多年，但缺乏有关存储对其特性的影响的信息，这是对铝电容器的比较。这项工作探讨了AC特性（电容，耗散因子和等效串联电阻）和DC特性（泄漏和吸收电流）在长期存储期间在长期存储期间（100°C，125°C，125°C和15000000000000000000000000000000000子）的AC特性（电容，耗散因子和等效串联电阻）和DC特性（泄漏和吸收电流）。表明，两种类型的电容器中的泄漏电流正在降解，但是在偏置应用程序后，这种降解是可逆的。降解机制，并提出了基于两种电容器常见的过程的解释。分析了与密封电容器中电解质蒸发和蒸发相关的问题。