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新能源侧储能优化配置技术研究进展
收稿日期： 2022-02-28 ； 修 改稿日期： 2022-03-31 。 基金项目： 北京市科技计划项目（ Z201100004520016 ）。 第一作者： 李红霞（ 1996 —），女，硕士研究生，研究方向为储能优化
强于大市AI 端侧深度报告之AI 手机
智能手机是最适合承载端侧 AI 的载体， AI 手机可提供差异化的用户价 值与品牌价值。智能手机具有保有量大、使用便携、使用场景多、使用 时长久、应用生态系统强大等优势，可创造众多的 AI 使用场景，并加速 第三方 AI 应用成熟，我们认为智能手机将是生成式 AI 最佳的应用载体 之一。 AI 手机的定义具有三个典型特征：①能够在手机端侧运行大模型； ② SoC 中包含 NPU 算力；③达到一定参数要求的性能指标。 AI 手机可提 供差异化的用户价值与品牌价值。对用户而言， AI 手机将是自在交互、 智能随心、专属陪伴、安全可信的个人化助理，使用体验较目前阶段智 能手机大幅提升。对于手机厂商而言，可提供品牌形象与用户粘性。
对侧与同侧疫苗的增强...
对侧mRNA covid-19增强抗体的幅度，以改善COVID-19 Vac-scine免疫反应，Fazli等人。的研究检查了在相同或对侧臂中施用助力剂量的影响（9）（图1）。与最近的一些发现（10）相反，当前的研究报告说，在先前使用初次疫苗的人中，辉瑞技术NT162B2促进了抗体反应的高幅度。在第三次疫苗接种后大约五个月后，在最后一个时间点分析了这种差异最为明显。notably，该研究的重点是中和抗体反应，包括针对Omicron变体的反应（B.1.1.529），揭示了具有对侧增强的增强抗体。较高的抗体水平也与改善变异菌株的跨义中和化有关（11），面对不断发展的病毒威胁，解决了至关重要的关注点。该研究的强大方法论涵盖了大型和彻底的参与者入学和人口统计分析，可以增强其发现的可靠性。这项工作为疫苗的优化提供了宝贵的见解
对侧...
要保护加密实现免受侧通道漏洞的影响，开发人员必须采用恒定的时间编程实践。由于这些可能是错误的，因此已经提出了许多侧通道检测工具。尽管如此，此类漏洞仍在加密库中手动发现。虽然Jancar等人最近的一篇论文。表明，开发人员很少执行侧道通道检测，目前尚不清楚现有的检测工具是否首先会发现这些漏洞。为了回答这个问题，我们调查了文献，以建立34个侧通道检测框架的分类。我们提供的分类比较了多个标准，包括所使用的方法，分析的可扩展性或所考虑的威胁模型。然后，我们在选择了5种有前途的检测工具的选择上建立了代表性Cryp-Graphic操作的统一共同基准。此基准测试使我们能够更好地比较每个工具的功能及其分析的可扩展性。此外，我们还提供了最近发布的侧通道漏洞的分类。然后，我们在基准上测试每个漏洞子集以及它们出现的上下文的每个选定工具。我们发现，由于各种原因，现有的工具可能难以找到脆弱性，主要是缺乏对SIMD指示，隐性流和内部秘密生成的支持。根据我们的发现，我们为研究社区和密码图书馆开发人员开发了一系列建议，其目标是提高侧通道检测工具的有效性。
对侧...
要保护加密实现免受侧通道漏洞的影响，开发人员必须采用恒定的时间编程实践。由于这些可能是错误的，因此已经提出了许多侧通道检测工具。尽管如此，此类漏洞仍在加密库中手动发现。虽然Jancar等人最近的一篇论文。表明，开发人员很少执行侧道通道检测，目前尚不清楚现有的检测工具是否首先会发现这些漏洞。为了回答这个问题，我们调查了文献，以建立34个侧通道检测框架的分类。我们提供的分类比较了多个标准，包括所使用的方法，分析的可扩展性或所考虑的威胁模型。然后，我们在选择了5种有前途的检测工具的选择上建立了代表性Cryp-Graphic操作的统一共同基准。此基准测试使我们能够更好地比较每个工具的功能及其分析的可扩展性。此外，我们还提供了最近发布的侧通道漏洞的分类。然后，我们在基准上测试每个漏洞子集以及它们出现的上下文的每个选定工具。我们发现，由于各种原因，现有的工具可能难以找到脆弱性，主要是缺乏对SIMD指示，隐性流和内部秘密生成的支持。根据我们的发现，我们为研究社区和密码图书馆开发人员开发了一系列建议，其目标是提高侧通道检测工具的有效性。
细间距高纵横比FPC电镀工艺
方法图1示出了传统上用于制造FPC的减成法。在铜箔层上形成抗蚀层，在蚀刻过程中，铜箔层的未覆盖部分被溶解并去除。之后，去除抗蚀层，铜箔层的剩余部分成为线路。在蚀刻过程中，蚀刻不仅在铜箔层的厚度方向上进行，而且在横向（侧蚀）方向上进行，这使得在高密度布线中难以缩小线路间距。此外，由于使用厚铜箔，需要蚀刻大量的铜材料，这导致侧蚀的进展变化很大，因此线路宽度变化很大。此外，蚀刻开始的铜箔层的上部比下部蚀刻得更多，结果，线路横截面的顶部比底部更窄
蚀变制图的主成分分析* - ASPRS
摘要：减少主成分分析 (PCA) 输入的图像波段数量可确保某些材料不会被映射，并增加其他材料被明确映射到其中一个主成分图像中的可能性。在干旱地形中，如果只有一个输入波段来自可见光谱，则四个 TM 波段的 PCA 将避免氧化铁，从而更可靠地检测含羟基矿物。如果仅使用其中一个 S m 波段，则用于氧化铁映射的 Pw\ 将避免羟基。然后可以创建一个简单的主成分彩色合成图像，其中羟基、羟基加氧化铁和氧化铁的异常浓度在红绿蓝 (RGB) 颜色空间中明亮地显示。该合成允许对蚀变类型和强度进行定性推断，可以广泛应用。
电化学腐蚀和点蚀 - 现场和实验室研究
两次研讨会。电偶腐蚀和点蚀，分别于 1974 年 10 月 22-23 日在密歇根州底特律举行的 1974 年材料工程大会上提出。研讨会由美国材料与试验协会金属腐蚀委员会 G-1 实验室腐蚀试验小组委员会 GO 1.05 和电偶腐蚀小组委员会 GO 1.07 赞助。通用汽车公司的 L. C. Rowe 担任研讨会主席，通用汽车公司的 W. D. France, Jr. 担任点蚀研讨会联合主席。在电偶腐蚀研讨会上，洛克希德导弹与航天公司的 J. F. Rynewicz 担任研讨会主席，德州仪器的 Robert Baboian 担任研讨会联合主席。
偏侧空间忽视的同侧知觉缺陷
感知是在大脑中形成图形-地面分割和以物体为中心的表征之后产生的。研究表明，注意力在忽视中起着关键作用，研究表明颞顶交界处受损的患者无法将注意力从同侧空间转移到对侧空间（Friedrich、Egly、Rafal & Beck，1998；Posner、Walker、Friedrich & Rafal，1984），即使对于出现在同侧半视野内的目标也是如此（Ladavas，1990；Ladavas、Del Pesce & Provinciali，1989）。与对侧注意力受损相比，对同侧空间的注意力实际上可能会增强（D'Erme、Robertson、Bartolomeo、Daniele & Gainotti，1992；Ladavas，1990；Ladavas、Petronio & Umilta，1990）。这可能是由于右半球受损后优势左半球的抑制作用减弱所致（Cohen、Romero、Servan-Schreiber & Farah，1994；Kinsbourne，1977、1993）。使用经颅磁刺激 (TMS) 暂时扰乱右顶叶皮质处理的研究也为这种半球竞争解释忽视提供了证据（Blankenburg et al.，2008；Seyal、Ro & Rafal，1995；Szczepanski & Kastner，2013）。或者，如果右半球负责注意空间的两个半部，而左半球只负责注意空间的右侧，那么右半球损伤更有可能导致忽视（Heilman & Valenstein，1979；Heilman & Van Den Abell，1979，1980）。此外，右半球损伤后，同侧半球也可能出现注意力缺陷（Vuilleumier & Rafal，2000），忽视还可能出现时间注意力缺陷（Husain、Shapiro、Martin & Kennard，1997）。这些关于忽视的半球不对称解释表明，感知处理可能在大脑损伤同一侧（同侧）的视觉空间中受到影响，这与该领域的普遍观点（同侧空间不受影响）相反。为了验证这一想法，在本研究中，我们使用元对比掩蔽范式评估了忽视患者对侧和同侧空间的空间和时间处理差异，其中短暂呈现的目标刺激在元对比掩蔽之前以不同的延迟呈现。在神经健康的受试者中，当目标刺激在周围元对比掩蔽之前约 30 毫秒的相同位置呈现时，目标刺激经常被错过，并且只感知到元对比掩蔽（Breitmeyer，1984；Breitmeyer & Ogmen，2000；Ogmen，Breitmeyer，& Melvin，2003）。有人假设这种掩蔽是由于视觉皮层中掩蔽的反馈处理中断了目标刺激的前馈处理（Enns，2004；Ro，Breitmeyer，Burton，Singhal，& Lane，2003）。重要的是，研究之前已经表明，正常受试者的元对比掩蔽的幅度和持续时间受到内源性注意力的影响（Boyer & Ro，2007；Ramachandran & Cobb，1995）。通过操纵这些目标和掩蔽刺激在空间中的位置和时间中呈现，我们评估了忽视如何影响两名忽视患者对侧和同侧半场的元对比掩蔽。为了进行比较，我们还在一组神经健康、年龄匹配的受试者中使用相同的范例测量了元对比掩蔽的空间和时间范围
NRC 员工介绍 – 高压泥浆烧蚀
第 1 节 - 技术描述、分阶段许可方法 第 2 节 - 授权用户：RSO、ARSO、RST、AU 第 3 节 - 放射性物质 - 许可内容 第 4 节 - 许可活动 第 5 节 - 辐射防护计划 第 6 节 - 剂量评估 第 7 节 - 财务保障 第 8 节 - 拟议许可条件