摘要表面刻度聚合物(SIPS)是模仿抗体的分子识别能力但具有增强稳定性的仿生受体。传统的接触印记,用于sip fabripation是劳动力密集的,由于手动聚合物合成,可能会产生不一致的结果。为未来的SIP奠定基础,并用三维(3D)打印机印刷,我们的研究先驱者使用FormLabs清除3D打印树脂来创建针对细菌检测的SIP,从而消除了手册的综合步骤。我们使用大肠杆菌作为基准模板细菌生产SIP,分析其结构,并通过荧光显微镜评估其重新固定能力。为了测试交叉选择性,产生了五个其他细菌菌株的SIP,随后暴露于每种细菌菌株,突显了SIPS的特定属性针对其原始细菌模具。鉴于其3D打印适用性和材料的商业可用性,我们设想在复杂的表面上使用bacte-ria结合烙印,从而加强了生物技术,工业和环境单调的生物传感。
alpes,ltm,Grenoble F-38054,法国 * erwine.pargon@cea.fr,Univ。Grenoble Alpes,CNRS,LTM,17 Rue des Mardyrs,38054 Cedex 09法国Grenoble,法国摘要摘要本研究提出了通过在上衣的室内饮用量的策略,该策略通过与上衣相结合的室友eTch fat Chip Chore to Chore Choh toper fore the toper the toper fore the notch facking Koh weats face face face the the gan支柱。的确,KOH溶液中的gan蚀刻是一个各向异性过程,这意味着它允许在宏观尺度上出现稳定的面,而原子过程(例如踩踏)驱动湿蚀刻的基本机制在微观尺度上驱动湿蚀刻的基本机制。我们的研究强调了形状(圆形或六角形,与M平板或A平板对齐)的关键作用,以及硬面膜在确定所得的结晶刻面形成及其相关的粗糙度方面的粗糙度。此外,它强调了等离子体图案后的GAN支柱剖面(重入,直,锥形)的重要性,因为它们会强烈影响随后的湿蚀刻机制。最终,该文章证明,可以通过在等离子蚀刻后在略微倾斜的GAN曲线上使用室温湿KOH(44 wt%)来实现平滑的M型面,并结合使用六边形M的Masks。
1. 控制-显示关系................................................................................................................16 2. 刻度、指针位置和刻度编号替代方案...............................................................................26 3. 固定刻度方位角刻度盘.........................................................................................................................27 4. 形状和颜色编码示例.........................................................................................................................28 5. 圆形刻度盘显示的零位和指针移动.........................................................................................30 6. 对齐指针以便快速检查读数.........................................................................................................31 7. 弧形和直线刻度上的刻度标记、数字和指针的相对位置....................................................................................................32 8. 点阵字符和分段矩阵字符的选择....................................................................................................47 9. 数字光计数器阵列....................................................................................................................49 10. 鼓型计数器设计.........................................................................................................................52 11. 旋转旋钮分离.........................................................................................................................76 12. 钥匙锁安装标准.............................................................................................................
俯仰刻度以一系列刻度表示,每 5° 表示一个俯仰角,每 10° 刻度更宽且有数字。该装置可在 360° 以上的连续和无限俯仰范围内操作和使用。在俯仰角大于 ± 45° 时,一系列 V 形标记 (^) 将叠加在俯仰刻度上。这是为了让飞行员在处于异常俯仰姿态时快速参考地平线的方向(图 4)。V 形标记始终指向地平线。
海德汉编码器的核心是其测量标准,通常采用光栅形式,典型线宽为 0.25 µm 至 10 µm。这些精密刻度采用海德汉发明的工艺(例如 DIADUR 或 METALLUR)制造,是编码器功能和精度的决定性因素。刻度由间距确定的线和间隙组成,偏差很小,形成具有非常高边缘清晰度的结构。这些刻度可抵抗机械和化学影响,以及振动和冲击。所有测量标准都具有定义的热行为。
Mettler H315 是一款单盘、双刀口、恒定负载天平,分辨率为 0.10 mg。按照前面描述的修改,对天平进行了线性度和光学刻度灵敏度以及零至最大负载时的重复性评估。光学刻度灵敏度和重复性证明令人满意。光学刻度有一个小的系统误差,在其 1 g 的全偏转中约为 0.5 mg。由于在实践中,比较称重是在天平的最大偏差为 20 mg 的情况下进行的,因此对于天平的用途而言,这个误差并不重要。
图1。点击编辑的概述和开发。a,单击编辑器的示意图(CE),它是由RNA程序编程的DNA nickase,DNA依赖性DNA聚合酶和ssDNA绑扎域组成的融合蛋白(例如,嗯,核酸内切酶; Huhe)与导向RNA(GRNA)配对。Click-DNA(clkDNA)模板是一种单链DNA寡核苷酸,它编码底漆结合位点(PBS),聚合酶模板(PT)和Huhe识别位点B,从709序列产生的系统生成树47序列47,描绘了Huains多样性的小型元素,该序列是47个序列。量表表示序列之间的分数相关性。c,与ssDNA分子共价磷酸酪氨酸加合物形成共价磷酸酪氨酸加合物的示意图,其中huhe结合了识别顺序以引发单点样共轭反应。d,逐步点击编辑机制,涉及:(1)DNA目标位点释放非目标链(NTS)3'基因组瓣,(2)NTS laps plap杂交与clkDNA PBS,(3)NTS-NTS-NTS-NTS-PBS连接与DNA依赖性DNA Polimentsion(4)nts-pbs intthers(3) clkDNA的编码PT,(5)新合成的3'和天然基因组5'襟翼之间的平衡,以及(6)5'-flap裂解,导致编辑结合。e,在HEK 293T细胞中的点击编辑转染的示意图,涉及CE质粒的共转染(Porcine Circovirus 2(PCV2)Huhe Huhe与NSPCAS9(H840A)融合,并从e.coli dna Polymerase I(DNA Polymerase I(DNA Polymerase I(DNA Polymerase I(DNA Polymerase I(DNA))中, clkDNA和一个(或两个)GRNA质粒(S)。ngrna)针对非编辑链的目标编辑效率。f,g,使用DNMT1 GRNA和带有PBS13-PT12的clkDNA插入或读取突变(Indels)的 f,g, f,g, f,g, f,g, f,g, f,g,使用PBS13-PT12编码A +3- 5 cag deletion(使用A +49 nick; Panel f)或rnf2 grna a +rnf2 grna a +rnf2 grna a +rnf2 gkdna A +3-5 clkDNA A +49-PT12替换(带有+5“ 2b”刻度;面板G)。 CE1,CE(PCV2-NSPCAS9(H840A)-ECKLENOW),带有一个GRNA,以指导非目标链刻度; CE1.N2,CE1带有额外的grna来指导刻痕(即f,g, f,g, f,g, f,g, f,g, f,g,使用PBS13-PT12编码A +3- 5 cag deletion(使用A +49 nick; Panel f)或rnf2 grna a +rnf2 grna a +rnf2 grna a +rnf2 gkdna A +3-5 clkDNA A +49-PT12替换(带有+5“ 2b”刻度;面板G)。 CE1,CE(PCV2-NSPCAS9(H840A)-ECKLENOW),带有一个GRNA,以指导非目标链刻度; CE1.N2,CE1带有额外的grna来指导刻痕(即f,g, f,g, f,g, f,g, f,g,使用PBS13-PT12编码A +3- 5 cag deletion(使用A +49 nick; Panel f)或rnf2 grna a +rnf2 grna a +rnf2 grna a +rnf2 gkdna A +3-5 clkDNA A +49-PT12替换(带有+5“ 2b”刻度;面板G)。 CE1,CE(PCV2-NSPCAS9(H840A)-ECKLENOW),带有一个GRNA,以指导非目标链刻度; CE1.N2,CE1带有额外的grna来指导刻痕(即f,g, f,g, f,g, f,g,使用PBS13-PT12编码A +3- 5 cag deletion(使用A +49 nick; Panel f)或rnf2 grna a +rnf2 grna a +rnf2 grna a +rnf2 gkdna A +3-5 clkDNA A +49-PT12替换(带有+5“ 2b”刻度;面板G)。 CE1,CE(PCV2-NSPCAS9(H840A)-ECKLENOW),带有一个GRNA,以指导非目标链刻度; CE1.N2,CE1带有额外的grna来指导刻痕(即f,g, f,g, f,g,使用PBS13-PT12编码A +3- 5 cag deletion(使用A +49 nick; Panel f)或rnf2 grna a +rnf2 grna a +rnf2 grna a +rnf2 gkdna A +3-5 clkDNA A +49-PT12替换(带有+5“ 2b”刻度;面板G)。 CE1,CE(PCV2-NSPCAS9(H840A)-ECKLENOW),带有一个GRNA,以指导非目标链刻度; CE1.N2,CE1带有额外的grna来指导刻痕(即f,g, f,g,使用PBS13-PT12编码A +3- 5 cag deletion(使用A +49 nick; Panel f)或rnf2 grna a +rnf2 grna a +rnf2 grna a +rnf2 gkdna A +3-5 clkDNA A +49-PT12替换(带有+5“ 2b”刻度;面板G)。 CE1,CE(PCV2-NSPCAS9(H840A)-ECKLENOW),带有一个GRNA,以指导非目标链刻度; CE1.N2,CE1带有额外的grna来指导刻痕(即f,g,使用PBS13-PT12编码A +3- 5 cag deletion(使用A +49 nick; Panel f)或rnf2 grna a +rnf2 grna a +rnf2 grna a +rnf2 gkdna A +3-5 clkDNA A +49-PT12替换(带有+5“ 2b”刻度;面板G)。CE1,CE(PCV2-NSPCAS9(H840A)-ECKLENOW),带有一个GRNA,以指导非目标链刻度; CE1.N2,CE1带有额外的grna来指导刻痕(即