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World File Search System反射指数
光刻技术和机器的开发
ே[1]，可以通过缩短光源的波长，改善数值孔径Na并减少过程组合参数来实现光刻的分辨率比。duvl和euvl是光刻技术的两种主要类型。DUVL包括浸入式DUVL和干型DUVL。浸入式DUVL使用ARF作为其光源，其暴露波长为134nm。及其相应的Na为1.35。最先进的沉浸式DUVL可以在7NM技术模式下以及光刻方法的创新使用。将镜头和晶圆之间的空间浸入液体中。液体的反射指数大于1，因此激光的实际波长将大大减少。纯化的水是最常用的，反射指数为1.44。ASML生产了Twinscannxt：2000i在2018年，这是最新一代的Immersion Duvl。其光源的波长为193nm，它的分辨率比将其提高到38nm，并将线宽度降低到7〜5nm。它可用于产生300毫米晶圆。覆盖精度是两个光刻过程之间模式的注册准确性，该图案基于Pauta标准（3σ标准），并影响产品的产量，Twinscannxt：2000i的覆盖精度为1.9nm。它可以每小时生产275块晶圆。干型DUVL还使用ARF作为其照明源，波长仅限于193nm。，其Na为0.93。EUVL的波长仅为13.5nm，其Na为0.33。euvl在生产期间具有明显的优势，复杂性twinscannxt：1460k是最新一代的干duvl，在65nm技术模式下用于半导体市场的基本末端，可生产300毫米晶圆，具有205 WPH的生产率。euvl不需要多次曝光，它只能通过一次暴露才能实现精致的模式。
在集成光子平台上连续体中受对称保护的结合状态
摘要：连续体（BIC）中的结合状态在纳米光谱领域引起了很多关注，因为它们可以捕获光子而不会损失。最近，证明了在高RI平板结构上负载的低反射指数（RI）波导以支持BIC。但是，由于这些BIC的意外性质，需要严格控制结构参数。在这里，我们提出了一个新的结构，该结构由两个垂直耦合的波格式的波格式升压，该结构加载在高RI平板上。该结构支持对称性保护的BIC（SP-BIC），不需要严格控制几何参数。这样的SP-BIC还可以具有重分结构中的绝对高质量因素，可以利用其用于超翼带宽空间和光谱过滤器。我们的作品开辟了一种在实现纳米光子电路和设备的集成光子平台上利用BIC的新方法。
生态友好的方法来创建共振硅纳米粒子胶体
摘要：MIE共鸣纳米光子技术目前在各种实验室研究中使用的商业应用，从生物传感到量子光学元件，似乎都具有挑战性。基于胶体的制造方法的开发是面临问题的解决方案。在我们的研究中，我们研究了具有控制性润湿性的表面上的谐振Si纳米颗粒（NP）阵列的制造。首先，我们在水和随后的密度梯度分离中使用纳秒（NS）激光消融，以获得具有低多分散性指数的谐振球形晶体硅NP的胶体。然后，使用相同的工业NS激光器在钢基材上创建润湿梯度，以启动通过滴铸件沉积的NP的自组装。因此，我们使用单个商业NS激光器同时产生NP和亲水性润湿梯度。我们采用易于操作的尺寸分离技术，仅使用非有毒媒体。这项研究有助于通过生态友好的自组装技术基于共振的高反射指数纳米结构的各种光学设备的大规模制造。■简介
使用湍流通量测量表征大气光学湍流
通过大气传播的光传播沿传播路径的反射指数（称为光湍流）影响。在大气表面层中，这些波动主要是由于温度和湿度变化的湍流混合。为了提高对光学湍流的理解和预测，提出了塞文河上方大气表面层的表征。气象数据是从传感器阵列中收集的，其中包括位于马里兰州Annapolis的滨水区准备盆地（38.98n，76.46W）的两个声音动态计和一个红外气体分析仪（IRGASON）（IRGASON）。这些仪器的位置位于水线上最多8米的距离上，以分析边界层的预测。阵列安排以优化仪器灯芯上的气流。使用风速，温度，压力和其他参数等特征，可以使用几种不同的方法来计算温度，湿度和折射率的结构参数。这些结构参数是估计激光传播的湍流效应的主要手段。可以从领域数据，诸如hu虫山谷（HV5/7）等湍流漏洞的评估或可以验证恒定的浮标层缩放（Monin-Obukhov）。本文介绍了有关设置，校准，传感器套件的安装以及收集数据的早期发现的工作。