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World File Search System含氢
含储氢设备的综合能源系统全生命周期经济性评价
摘要：氢能储能作为一种零碳排放、多能联储、联合供应的新型储能方式，在综合能源系统中有着良好的发展前景。本文以含氢储能综合能源系统为基础，提出了电力市场和碳市场环境下含氢储能综合能源系统的运行机理。在此基础上，考虑货币时间价值，构建了含氢储能综合能源系统的全生命周期经济评价模型。应用该模型测算了某社区含氢储能综合能源系统全生命周期的投资效益。算例结果表明，含氢储能综合能源系统具有良好的经济效益。
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科学研究表明，某些人造化学物质在释放到大气中时会影响地球自然形成的平流层臭氧层。具体来说，已确定的几种可能影响臭氧层的化学物质是含氯、氟和碳 (CFC) 的制冷剂以及含氢、氯、氟和碳 (HCFC) 的制冷剂。并非所有含有这些化合物的制冷剂都对环境具有相同的潜在影响。特灵倡导负责任地处理所有制冷剂，包括 CFC 和 HCFC 的行业替代品，例如饱和或不饱和 HFC 和 HCFC。
Ru/CeO2 催化剂用于 NH3 合成的探索性研究...
可再生能源，但高密度储存氢气对于大规模氢气运输，特别是全球距离运输是可取的。氨是一种潜在的储氢材料，其含氢量为 17.6 wt%，在 1 MPa 和 25 °C 下可储存约 10.7 kg-H 2 /100 L1)。哈伯-博施工艺已用于合成氨超过 100 年2)。已经开发出许多潜在的重要技术来非常高效地生产氨。高效运行的重要要求之一是恒定的进料供应。这一要求对任何化学过程都是常见的。然而，来自可再生能源的氢气供应经常是变化的，因为由可再生能源（例如光伏或风能）产生的电力的输出
氨中超快伞状运动的激光诱导电子衍射
实时可视化分子转变需要一种具有 A ˚ ngstr om 空间和飞秒时间原子分辨率的结构检索方法。含氢分子的成像还需要一种对氢核原子位置敏感的成像方法，大多数方法对氢散射的灵敏度相对较低。激光诱导电子衍射 (LIED) 是一种桌面技术，可以以亚 A ˚ ngstr om 和飞秒时空分辨率以及对氢散射的相对高灵敏度对气相多原子分子的超快结构变化进行成像。在这里，我们对孤立氨分子 (NH 3 ) 在强场电离后的伞状运动进行了成像。中性氨分子电离后，氨阳离子 (NH 3 + ) 在约 8 飞秒内经历超快几何转变，从金字塔结构 ( U HNH = 107 ) 变为平面结构 ( U HNH = 120 )。利用 LIED，我们在电离后 7:8 9:8 飞秒内恢复了近平面 ( U HNH = 117 6 5 ) 场修饰 NH 3 + 分子结构。我们测量的场修饰 NH 3 + 结构与使用量子化学从头计算计算出的平衡场修饰结构高度一致。
帕劳共和国：2022-2050 年可再生能源路线图
图 S1：路线图概览：到 2050 年电力行业实现 100% 可再生能源.............................................................. 8 图 1：路线图方法流程图......................................................................................................................... 12 图 2：2019 年电力需求......................................................................................................................... 17 图 3：当前电力系统示意图......................................................................................................... 20 图 4：氢动力快艇原型......................................................................................................................... 26 图 5：路线图概览.................................................................................................................................... 31 图 6：帕劳路线图时间表......................................................................................................................... 31 图 7：平均每日调度：当前电力系统......................................................................................................... 33 图 8：最小 VRE 周：当前电力系统......................................................................................................... 33 图 9：最大 VRE 周：当前电力系统......................................................................................................... 34 图 10：平均每日调度：最佳系统......................................................................................................... 36 图 11：最小 VRE 周：最佳图 12：最大 VRE 周：最佳系统................................................................................................. 37 图 13：平均每日调度：100% 可再生能源 - 光伏和风能........................................................ 38 图 14：最小 VRE 周：100% 可再生能源，光伏加风能............................................................. 39 图 15：最大 VRE 周：100% 可再生能源，光伏加风能............................................................. 39 图 16：平均每日调度：100% 可再生能源 - 仅光伏......................................................................... 41 图 17：最小 VRE 周：100% 可再生能源 - 仅光伏......................................................................... 41 图 18：最大 VRE 周：100% 可再生能源 - 仅光伏......................................................................... 42 图 19：平均每日调度：100% 可再生能源（含氢能）............................................................. 43 图 20：最小 VRE 周：100% 可再生能源（含氢能................................................................................ 44 图 21：VRE 周最大值：100% 可再生能源与氢能......................................................................... 44 图 22：日均调度量：100% 可再生能源与氢能和电动汽车......................................................... 46 图 23：VRE 周最小值：100% 可再生能源与氢能和电动汽车..................................................... 46 图 24：VRE 周最大值：100% 可再生能源，包括氢能和电动汽车....................................................... 47 图 25：平均每日调度：佩莱利乌岛最佳系统............................................................................... 52 图 26：每周 VRE 最小值：佩莱利乌岛最佳系统......................................................................................... 52 图 27：每周 VRE 最大值：佩莱利乌岛最佳系统......................................................................................... 53 图 28：平均每日调度：安加尔岛最佳系统......................................................................................... 56 图 29：每周 VRE 最小值：安加尔岛最佳系统......................................................................................... 57 图 30：每周 VRE 最大值：安加尔岛最佳系统......................................................................................... 57 图 31：平均每日调度：凯扬格尔最佳系统......................................................................................... 60 图 32：每周 VRE 最小值：凯扬格尔最佳系统......................................................................................... 61 图 33：每周 VRE 最大值：凯扬格尔最佳系统......................................................................................... 61
增材制造和传统制造的 304L 奥氏体不锈钢抗氢脆性能比较研究
奥氏体不锈钢 (ASS) 常用于敏感的氢气 (H) 存储、氢气基础设施以及运输应用，因为与铁素体钢相比，它们通常不太容易受到氢脆 (HE) 的影响。这是因为它们的扩散率较低，而氢的溶解度较高 [1-3]。氢脆描述了这样一种现象：材料的机械性能经常会突然发生灾难性的恶化（特别是在受到拉伸载荷时，由于拉伸延展性的丧失），这是由于酸性溶液中的环境氢和含氢气体 [4-8] 扩散到块体材料中造成的。与不易发生 HE 的热力学稳定 ASS（如 AISI 310S 型）相比，在仅含 8 – 10 wt% Ni 的亚稳态 ASS（如 AISI 304 型）中经常观察到严重的 HE，其中在变形过程中会形成应变诱导的 α ′马氏体 [9 – 11]。应变诱导的 α ′马氏体为 H 提供了快速扩散路径，导致 H 在微观结构的关键位置富集（如异质界面前方的微观机械高应力区域），从而导致 H 辅助开裂 [12, 13]。此外，由于凝固过程中的偏析或高冷却速度导致 δ 到 γ 的转变不完全，亚稳态 ASS 中可能会出现少量的 δ 铁素体。这可能会通过提供裂纹起始点来增加样品的 HE 敏感性 [14, 15]。
市场面部美白面霜中的氢醌含量的定性和定量分析Zaman Ruchiyat A，Nanda Raudhatil Jannah A*。
抽象的氢醌是面部美白奶油化妆品中危险成分之一，可能会引起皮肤刺激，皮肤发红和燃烧的感觉。这项研究的目的是确定在市场上出售的面部美白奶油化妆品中的羟基醌含量。本研究中使用的方法是使用彩色试剂测试和甲苯薄层色谱法（TLC）方法的定性测试：作为流动相（5：5）（5：5）和硅胶胶板作为固定相。定量分析使用541 nm波长的UV - Vis分光光度计方法。TLC测试中定性测试的结果表明，在样品A，B，D和E中，4个样品对羟基酮的测试阳性，RF值分别为0.44、0.5、0.52和0.5。定量测试的结果表明，有9个样品包含氢醌，样品含量范围为0.22 - 3.62 ppm，LOD值为0.637 ppm，LOQ为2.124 ppm。这项研究的结果表明，仍然有含有氢醌的化妆品，这些结果并未遵循调节Badan Pengawas obat obat dan Makanan（BPOM）号kh。00.01.43.2503 2009年，禁止使用这种氢醌成分用于面部美白霜，因为它可能危害健康。关键字：分析；氢喹酮; TLC;美白奶油
脉冲 HBr/O–2 等离子体中的硅蚀刻。II. 图案转移
由 HBr/O 2 组成的等离子体通常用于硅蚀刻工艺，如栅极蚀刻工艺或浅沟槽隔离蚀刻，由于人们对此类化学反应中的硅蚀刻相当了解，因此它成为研究等离子体脉冲对气相和等离子体-表面相互作用的影响的最佳选择。目标是了解连续等离子体和脉冲等离子体之间的根本区别，以及等离子体产生的变化如何影响最终的图案转移。在论文 I 中，我们展示了等离子体脉冲对离子通量和离子能量的强大影响。1 结果显示，占空比 (dc) 而不是脉冲频率对这些参数有显著影响。在本文中，我们重点研究等离子体脉冲对 HBr/O 2 等离子体中的蚀刻机制和图案转移的影响。先前的实验已经证明脉冲等离子体中等离子体引起的损伤有所减少，2 – 4 通常通过使用扫描电子显微镜 (SEM) 成像、椭圆偏振测量和 X 射线光电子能谱 (XPS) 对侧壁钝化层 (SPL) 进行形貌分析。许多作者已经研究了 HBr/O 2 等离子体对硅和 SiO 2 的蚀刻机理。5 – 13 下面总结了 Si 和 SiO 2 蚀刻的基本机理，其中考虑了原料气中极小比例的氧气。含溴、氢和（较少量）氧的离子撞击硅表面、分解、破坏键并形成富含卤素的非晶层，也称为反应蚀刻层 (REL)，其中含有 H、Br 和一些 O 原子。非晶层的厚度和成分会根据离子能量、压力和原料气流量而变化。由于氢原子比其他粒子小得多，它们可以更深地渗透到硅层中，然后硅原子可以因碰撞而解吸，或可以融入挥发性物质，如 SiBr 4。含氢分子如 SiH 2 Br 2 的挥发性更强，13 但硅蚀刻并不