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技术（技术）
课程技术161。技术，工程和设计。4个学分。介绍课程，研究工程设计过程及其用于解决技术挑战的使用。该课程将涵盖技术，技术系统以及技术的历史，演变和特征，以及学习技术，科学和数学概念的学习活动。通常提供：秋季，春天。技术165。社会技术解决方案。4个学分。介绍课程，研究技术和社会的影响。本课程将涵盖与传热，作物生产，材料特性，结构力和节能相关的概念。在工程设计过程中工作的学生将研究社会问题，收集数据，提出设计思想并建立实用解决方案。通常提供：秋季，春天。技术199。特殊主题。1-4个学分。 在常规目录中未提供的课程提供了扩展学生学习的机会。 通常提供：满足需求。 可重复：最多12个学分。 技术299。 特殊主题。 1-4个学分。 在常规目录中未提供的课程提供了扩展学生学习的机会。 通常提供：满足需求。 可重复：最多12个学分。 技术300。 3D建模和设计。 3个学分。 该课程包括一个实验室组件。 通常提供：秋天。1-4个学分。在常规目录中未提供的课程提供了扩展学生学习的机会。通常提供：满足需求。可重复：最多12个学分。技术299。特殊主题。1-4个学分。 在常规目录中未提供的课程提供了扩展学生学习的机会。 通常提供：满足需求。 可重复：最多12个学分。 技术300。 3D建模和设计。 3个学分。 该课程包括一个实验室组件。 通常提供：秋天。1-4个学分。在常规目录中未提供的课程提供了扩展学生学习的机会。通常提供：满足需求。可重复：最多12个学分。技术300。3D建模和设计。3个学分。该课程包括一个实验室组件。通常提供：秋天。在工程设计和图纸的创建和可视化中，图形设计原理和3D参数建模的介绍。学生将能够说明来自设计思想的参数3D零件建模，组装，渲染和生产。
量子通信的物理层方面
摘要 — 量子通信系统以分布式量子计算、分布式量子传感和多种加密协议的形式支持独特的应用。这些通信系统的主要推动因素是能够以高速率和保真度传输未知量子态的高效基础设施。这一壮举需要一种新的通信系统设计方法，该方法可以有效利用可用的物理层资源，同时尊重量子信息的局限性和原理。尽管经典世界和量子世界之间存在根本差异，但仍存在通用通信概念，这些概念可能在量子通信系统中也很有用。在本综述中，重点介绍了物理层量子通信的独特方面，试图找出经典通信和量子通信之间的共同点和差异。更具体地说，我们首先概述了量子信道和在不同光传播介质上的用例，阐明了串扰和干扰的概念。随后，我们调查了量子源、探测器、信道和调制技术。更重要的是，我们讨论和分析了空间复用技术，例如相干控制、复用、分集和 MIMO。最后，我们确定了两种通信技术之间的协同作用以及对下一代量子通信系统发展至关重要的重大开放挑战。
使用有源电感和 1 /f 噪声消除的宽带低功耗 RF 至 BB 电流复用接收器，适用于 L 波段应用
摘要 本文提出了一种低功耗宽带射频到基带 (BB) 电流复用接收器 (CRR) 前端，它同时利用了 1/f 噪声消除 (NC) 技术和有源电感器 (AI)，工作频率为 1 GHz 至 1.7 GHz，适用于 L 波段应用，包括那些需要高调制带宽的应用。CRR 前端采用单电源，并与 BB 电路共享低噪声跨导放大器 (LNTA) 的偏置电流，以降低功耗。为了最大限度地减少下变频之前射频 (RF) 信号的损失，高阻抗 AI 电路将混频器输入与 CRR 输出节点隔离。1/f NC 电路可抑制泄漏到输出的 LNTA 低频噪声。带有 gm 增强的共栅极 LNTA 以及单端到差分 LC 平衡-不平衡转换器用于增强输入匹配、变频增益和噪声系数 (NF)。所提出的接收器采用 TSMC 130 nm CMOS 工艺制造，占用有效面积为 0.54mm 2 。输入匹配 (S 11 ) 在 1 GHz 至 1 . 7 GHz 范围内低于 − 10 dB。在本振 (LO) 频率为 1 . 3 GHz、中频 (IF) 为 10 MHz 和默认电流设置下，CRR 实现了 41 . 5 dB 的转换增益、6 . 5 dB 的双边带 (DSB) NF 和 − 28.2 dBm 的 IIP3，同时消耗 1.66 mA 电流，电源电压为 1 . 2 V。
众议院委员会国防科技重点实验室名单.xlsx
Defense S&T Key Laboratory of Complex Aviation Systems Simulation 复杂航空系统仿真国防科技重点实验室 PLA Air Force Equipment Research Academy [ 空军装备研究院 ] (possibly now simply known as PLA Air Force Research Academy) Defense S&T Key Laboratory of Space Chemical Power Technology 航天化学动力技术国防科技重点实验室 CASC 4th Academy Hubei Institute of Aerospace Chemical Technology [ 航天科技四院湖北航天化学技术研究所 ] aka CASC 42nd RI [42 所 ] Defense S&T Key Laboratory of Microwave Power Vacuum Devices 微波电真空器件国防科技重点实验室 University of Electronic Science and Technology of China [ 电子科技大学 ]
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博士学位（全职）机构xi'an jiaotong- ...
这个博士学位项目是苏州（http://www.xjtlu.edu.cn）之间的一个合作研究项目（智能集成电路设计技术）。博士学位的学生可以在三年内获得学生的令人满意的进度。该奖项涵盖了三年的学费（目前相当于每年80,000元人民币）。此外，在苏州学院进行主要研究期间，将由智能综合电路设计技术研究所以每月5000 RMB的标准津贴为每月5000 RMB提供每月的生活津贴。项目描述：
即时发表经办代理: David Moreno (大卫穆锐农) Open Sky ...
业界精英调查其它要点（ 2024 年 7 月进行） - 74% 的受访者认为，曲线形状的 逆向 光刻技术（ curvilinear ILT ）对非 EUV 的 193i 前沿节点有 用 —— 其中 29% 的人强烈同意这一说法，而去年这一比例为 24% 。 - 55% 的受访者表示，前沿节点的一些关键层已经在使用 逆向 光刻技术（ ILT ），这一比例较去 年的 46% 和两年前的 35% 有所上升。 - 光罩制造中的软件基础设施仍然是生产曲线形状光罩的最大挑战。 - 对深度学习应用的预测有所延迟，今年有 54% 的受访者预测深度学习将在 2025 年之前成为 光罩制造过程中任何环节的竞争优势，而去年这一预测为 2024 年。 “ 我们期待在 SPIE 光罩技术会议期间度过激动人心的一周，届时 eBeam Initiative 将举办第 15 届年度光罩会议，展示半导体生态系统对这一合作论坛的持续支持， ”eBeam Initiative 的 的主办 管理公司 D2S 的首席执行官 藤村 (Aki Fujimura) 表示。 “ 现在是加入光罩行业的绝佳时机，近年 来该行业取得了强劲增长 —— 这证明了光罩社区内杰出人才的贡献，也彰显了该行业在推动半 导体创新方面的重要性。今年 eBeam Initiative 业界精英 调查的绝大多数参与者 —— 他们代表了 行业内顶尖的商业和技术专家 —— 都认为这一增长趋势将在 2024 年继续，这无疑是个好消息。 ” About The eBeam Initiative 关于 eBeam Initiative （电子束倡议团） eBeam Initiative 是一个致力于推广和倡导电子束技术在半导体制造全新应用的团体；为有关 电 子束技术的教育和促进活动 提供相应的论坛。 eBeam Initiative 的目标是增加电子束技术应用在 半导体制造各领域中的投资；降低电子束技术应用的障碍，能够使更多集成电路设计完成，并 且更快投进市场成为可能。会员公司 , 涵盖整个半导体生态系统，包括 : aBeam Technologies; Advantest; Alchip Technologies; AMD; AMTC; Applied Materials; Artwork Conversion; ASML; Averroes.ai; Cadence Design Systems; Canon; CEA-Leti; D 2 S; Dai Nippon Printing; EQUIcon Software GmbH Jena; ESOL; EUV Tech; Fractilia; Fraunhofer IPMS; FUJIFILM Corporation; Fujitsu Semiconductor Limited; GenISys GmbH; GlobalFoundries (GF); Grenon Consulting; Hitachi High-Tech Corporation; HJL Lithography; HOLON CO., LTD; HOYA Corporation; IBM; imec; IMS CHIPS; IMS Nanofabrication AG; JEOL; KIOXIA; KLA; Micron Technology; Multibeam Corporation; NCS; NuFlare Technology; Petersen Advanced Lithography; Photronics; QY Mask; Samsung Electronics; Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation (SMIC); Siemens EDA; STMicroelectronics; Synopsys; TASMIT; Tokyo Electron Ltd. (TEL); TOOL Corporation; Toppan Photomask Corporation; UBC Microelectronics; Vistec Electron Beam GmbH and ZEISS. eBeam Initiative 面向和欢迎所有电子工业的公司和协会加盟。细节请查看 www.ebeam.org .