5.1 射击场 ·· ... ❍ 本战略是国家安全的基本方针,为国家安全相关领域的政策提供指导方针。❍ 日本政府将在国家安全保障会议(NSC)的统筹下,通过强有力的政治领导,以全政府的方式,更加战略性、更有条理地实施国家安全政策。❍ 日本政府在实施其他领域的政策时,也将充分考虑国家安全,以便日本能够以本战略为基础,作为一个整体,顺利、充分地发挥外交能力、防卫能力等优势。❍ 本战略将指导未来十年的日本国家安全政策。通过具体政策的实施,NSC 将定期进行系统评估,并适时、适当地更新本战略。
石墨(光面)(外层) 0 至 0.3(外层) 0 至 0.3(外层) 0 至 0.3(外层) 0 至 0.3 NDS K 4816
3 圣保罗,巴西研究所(以下简称 IEB)MA-C-CPL1908,1937 年 4 月 7 日,卡斯特罗致德莫赖斯安德拉德。4 CEHIBRA,574,卡斯库多宫致卡斯特罗,1938 年 1 月 22 日。5 CEHIBRA,582,卡斯库多宫致卡斯特罗,1937 年 10 月 19 日。6 CEHIBRA,582,卡斯库多宫致卡斯特罗,1937 年 9 月 2 日。7 CEHIBRA,582,卡斯库多宫致卡斯特罗,1937 年 9 月 11 日。8 Bastide 的档案保存于圣保罗 IEB 和法国当代版本研究所,需要进一步研究。9 CEHIBRA,584,Bastide 至 Castro,1938 年 4 月 10 日。
将 DLW 制备的微结构应用于功能设备中,需要具有不同电学、光学、机械和化学特性的各种材料。自适应性材料(即其特性可以在制造后进行定制)是人们所迫切需要的,而可降解性则是人们所最需要的自适应特性之一。[7–9] 然而,DLW 过程中产生的交联聚合物结构(尤其是使用商用光刻胶时)是永久性的。降解此类材料通常需要苛刻的条件,例如经典 (甲基) 丙烯酸网络中酯键的高温水解或激光烧蚀。[7,8] 光刻胶配方中加入了各种化学功能,使印刷结构在特定刺激下破裂,例如化学试剂、[10–12] 酶、[13] 温度或光。[14] 其中,光是首选触发器,可对降解过程进行空间和时间控制。为了将光降解性引入微结构,必须在光刻胶的化学结构中整合一个光不稳定部分。设计光可降解 DLW 光刻胶的一个关键挑战是选择合适的、在写入过程中稳定的光不稳定基团。某些光化学反应,例如香豆素、蒽和肉桂酸酯等化学实体的可逆光二聚化可能适合这些目的,因为它们的二聚化/交联可以在 300 至 400 nm 的紫外线下诱导,而环消除可以在较短波长的紫外线(≤ 260 nm)照射下发生。[15] 然而,这种高能量的 UVA/UVB 照射对于许多应用来说可能过于剧烈,特别是细胞支架。可能更合适的可见光响应光不稳定部分在紫外线下会迅速降解,因此无法在写入过程中存活,而写入过程大多采用这种紫外线波长。 [16] 到目前为止,我们团队只有一份关于从 DLW 中获得光降解网络的报告,其中书写和