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World File Search System杂质
药物分析的综合解决方案
•被归类为遗传毒性杂质，被证明是可能的人类致癌物质•几种药物中的NDMA和其他杂质的水平升高，宣布了几次召回•美国食品和药物管理局（US FDA）已验证了验证的GC/LCMS/MS和GC/LC/LC-HRAM方法的GC/LCMS/MS和GC/LC-HRAM方法的限制，以评估US的行为•US fd AS INDARD•US fd AS INDARD INSTRADY•US fd AS•US fda•US fdA•US fda•批准或销售的药物和待处理的应用，2）实施控制策略，以减少和防止在所有API和药物中形成NAS
退火对铁、钴离子掺杂硅表面晶体结构的影响
摘要：本文报告了应用卢瑟福背散射光谱 (RBS) 研究硅中植入的铁和钴原子的分布曲线随辐射剂量和退火温度变化的结果。研究了热退火对铁、钴，特别是氧的分布的影响。作者强烈建议，在某些热处理条件下，通过施加特定的辐射剂量，所谓的外延硅化物将在单晶表面形成，这些硅化物可以起到导电层或金属层的作用。可以考虑使用 RBS 方法来分析掺杂剂的拓扑分布和杂质的相互作用。关键词：杂质、分布、影响、热退火、植入原子、薄层、深度、辐射剂量、结构、薄膜 ________________________________________________________________________________________ 1. 简介
调查一种良好的过程方法和将石墨纯度提高到99％等级
该项目的主要目的是提出一种有效的方法，将石墨至少净化至至少99％。对高级石墨产品的需求不断增长，碳的需求不断增加，这导致了各种方法的开发，即使是每百万范围的零件，也可以消除杂质。从94％石墨中去除杂质对于获得高纯度石墨产物很重要。微波辐射用于从94％石墨浓缩物中制备高纯度石墨。结果表明，微波辐照可以将薄片石墨的固定碳提高到更高的水平。在选择4个Minutes的反应时间和100％微波输出（800 W）的最佳条件下，从Flake石墨浓缩物中获得了固定碳含量为98.845％的石墨产物。根据XRD，FTIR和手持XRF分析，杂质主要由Fe，Co，Sr和Zr组成，在治疗前存在。在最佳条件下处理后，样品中的主要杂质从3.566％降低到1.031％。最佳条件下石墨的灰分含量为1.55％。薄片石墨的晶体结构没有变化。可以从这项研究中得出结论，使用微波辐照的石墨净化会增加石墨的碳含量。
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我们概括了天然NB 2 O 5溶解模型[G. Ciovati，应用。物理。Lett。 89，022507（2006）]到顺序叠加剂溶解，多层溶解和现实温度曲线，可能适用于其他材料。 该模型应用于不同温度曲线和NB中的两步氧化物溶解的次级离子质谱深度测量值，并发现良好。 在伦敦穿透深度长度上的杂质剖面引起的Meissner筛选响应的背景下，O杂质的浅扩散导致表面附近的峰值超电流密度大大降低。 在此框架中，氧化物溶解和氧扩散可以说明SRF腔中峰值磁场的上升，并在达到最佳烘焙时间后进行烘烤时间和次要压力，与峰值场烘烤温度和峰值烘焙温度和时间以及最近的淬火场测量均吻合。Lett。89，022507（2006）]到顺序叠加剂溶解，多层溶解和现实温度曲线，可能适用于其他材料。该模型应用于不同温度曲线和NB中的两步氧化物溶解的次级离子质谱深度测量值，并发现良好。在伦敦穿透深度长度上的杂质剖面引起的Meissner筛选响应的背景下，O杂质的浅扩散导致表面附近的峰值超电流密度大大降低。在此框架中，氧化物溶解和氧扩散可以说明SRF腔中峰值磁场的上升，并在达到最佳烘焙时间后进行烘烤时间和次要压力，与峰值场烘烤温度和峰值烘焙温度和时间以及最近的淬火场测量均吻合。
用于 CRISPR 应用的 gRNA 和核糖核蛋白的表征
‒ 例如，(0.99) 99 = 37% 粗产量 ‒ 杂质更多，色谱分离更困难 ‒ pegRNA（基于 Cas9 sgRNA 进行主要编辑）甚至更长（~140 聚体）
核酸分析CGE 微生物挑战范围内研究 细胞和基因治疗产品2024 建立细胞治疗产品可比性的方法
○除了上述：pH，浓度和效力，以及诸如残留蛋白质，基因组/模板DNA，NTPS和DSRNA等过程中的杂质○可以通过IPRP-UV和/或CGE-LIF的CGE-LIF评估最重要的CQA：最重要的CQA之一：
将含能材料化学转化为更高价值...
15 年来，美国一直没有生产 TATB。TATB 以前采用 Benziger 开发的合成方法生产（图 5）19), 20）。相对昂贵且国内无法获得的 1,3,5-三氯苯 (TCB) 经硝化得到 2,4,6-三氯-1,3,5-三硝基苯 (TCTNB)，然后将其胺化得到 TATB。这两个反应都需要高温（150 o C）。该过程中遇到的主要杂质是氯化铵。在胺化步骤中加入 2.5% 的水会显著降低 TATB 中的氯化铵含量。还发现了低水平的氯化有机杂质。这些杂质包括 2,4,6-三氯-1,3,5-三硝基苯 (TCTNB)、1,3-二硝基-2,4,5,6-四氯苯、1,3-二硝基-2,4,6-三氯苯及其部分胺化产物 21)。值得注意的是，与其他高爆炸药 (RDX、HMX、TNT、HNS) 不同，TATB 不能使用常规技术纯化。TATB 的溶解度和挥发性极低，无法在大规模生产中使用重结晶和升华工艺。超过氯化铵和/或其他杂质允许限度的 TATB 生产批次必须丢弃。这显然在经济和环境方面都是不可取的。
突破性寿命终止指标 (BTI)
Entegris 的突破指示器 (BTI) 提供了一种准确的方法来确定您的 GateKeeper ® GPU 气体净化器何时不再去除水分杂质。此水分传感器安装在气体净化器后，当水分杂质接触传感器时，它会通知您。当发生突破时，就该联系 Entegris 并将净化器送回进行再生。气体净化器的再生可让您最大限度地提高净化器投资回报。结果是以最低的拥有成本进行净化。BTI 可有效测量气流中的水分。水分是几乎所有应用中的问题污染物，使其成为理想的测量污染物。水分也是最先饱和净化器的污染物之一，因为它通常含量最高。