涡流管,也称为Ranque Vortex Tube,Hilsch Vortex管和Ranque E Hilsch Vortex管,是一种设备,可以通过Intlet Ougzzles向涡流室分隔地进入涡流室,使其可将热和冷空气分开。涡流管是由冶金学家和物理学家Ranque于1933年发现的,而德国物理学家Rudolf Hilsch则改进了设计。一个兰斯式涡流管由一个或多个入口喷嘴,一个涡流室,冷端孔,热端控制阀和管组成。设计的涡流室的特殊内部配置结合了压力和加速空气的效果,达到了高旋转速率(超过百万rpm)(Pinar等,2009)。涡流管根据其流量特征分为两组:反流(图1)和平行流(图2)RHVT。在这项研究中,已经使用了反流RHVT。反流的工作原理Ranque E Hilsch
上下文。涡流流。有人提出,涡旋对于将能量和等离子体引导到电晕起起着重要作用,但是在现实的设置中尚未直接研究涡流流对电晕的影响。目标。我们使用冠状环的高分辨率模拟来研究涡流加热的作用。涡流不是人工驱动的,而是由磁反看自s谐的。方法。我们使用Muram代码执行3D电阻MHD模拟。在笛卡尔几何形状中研究一个孤立的冠状环使我们能够解决环内部的结构。我们进行了统计分析,以确定从色球到电晕的高度的涡度性能。结果。我们发现,注入回路的能量是由强磁元素内的内部相干运动产生的。在涡流管中通过涡旋管中的涡流引导,产生的po弹孔的显着部分被引导,形成光球和电晕之间的磁连接。涡旋可以形成连续的结构,达到冠状高度,但是在电晕本身中,涡流管变形,并最终随着高度增加而失去身份。涡流显示出向上向上的po弹孔和色球和电晕中的加热速率,但随着高度的增加,它们的效应变得不太明显。结论。虽然涡旋在色球环和低电晕中的能量传输和结构中起着重要作用,但它们在大气中的重要性较高,因为漩涡与环境的区别不太区分。到达电晕的涡流管与冠状发射显示复杂的关系。
背景。在观测和模拟中,人们在光球层、色球层和低日冕中发现了涡流。有人认为涡流在将能量和等离子体引入日冕方面发挥着重要作用。然而,涡流对日冕的影响尚未在现实环境中直接研究过。目的。我们使用高分辨率日冕环模拟研究涡流对日冕加热的作用。涡流不是人为驱动的,而是由磁对流自洽产生的。方法。我们使用 MURaM 代码执行了 3D 电阻(磁流体动力学)MHD 模拟。在笛卡尔几何中研究孤立的日冕环使我们能够解析环内部的结构。我们进行了统计分析,以确定涡流特性与色球层到日冕高度的关系。结果。我们发现,注入环路的能量是由强磁性元素内部相干运动产生的。由此产生的坡印廷通量的很大一部分通过涡流管穿过色球层,从而在光球层和日冕之间形成磁连接。涡流可以形成连续的结构,达到日冕的高度,但在日冕本身中,涡流管会变形,并最终随着高度的增加而失去其特性。涡流在色球层和日冕中都显示出向上指向的坡印廷通量和加热速率增加,但随着高度的增加,其影响变得不那么明显。结论。虽然涡流在色球层和低日冕中的能量传输和结构中起着重要作用,但它们在更高大气层中的重要性尚不清楚,因为漩涡与周围环境的区分度较差。到达日冕的涡流管揭示了与日冕发射的复杂关系。
DSC 500PEGASUS®系统可以配备各种不同的熔炉,可容纳不同温度和施用范围-150°C和2000°C之间。银和钢炉可用于亚凸式温度范围。通过液氮冷却装置或涡流管实现了控制冷却。对于更高温度范围,SIC,PT,RH和石墨炉提供。与专用DSC传感器结合使用的铂和犀牛炉非常适合确定较高温度范围内的特定热容量。其用户友好的设计允许操作员轻松替换管子,从而最大程度地减少停机时间。
d。添加DNA模板e。混合和涡流管或PCR板f。可选:在将酶添加到模板碎片g的情况下孵化10分钟。小心地处理纳米板(切勿接触底部),然后将其放在干净的纳米板托盘上。h。将每个孔的含量转移到纳米板i的相应孔中。确保在移液器期间不会将气泡引入DPCR板的孔中(顶部的气泡不太有问题)。j。使用Qiacity纳米板密封k密封纳米板。垂直和水平使用3-4次使用纳米板辊。卸下透明的箔m。垂直和水平使用3-4次纳米板辊,然后滚动板框架
1 Cryogenic devices, instruments, coolers (working on various cycles such as: Stirling, IR detector coolers, PTC, JT, Brayton, its combinations for staging, GM, vortex, magnetic, anti-Stokes optical, TEC) for space, defence and atomic energy programmes, Non CFC Stirling cycle operated coolers, deep freezers, free piston engines and CHP for environment friendly applications,磁性冰箱,反stokes光冷却器和吸附,用于关键应用的稀释技术。冷却的传感器和检测/成像,低温,半低温和三型火箭系统建模和亚尺度原型制作。冷冻材料表征和测试。分离过程,天然气加工,二氧化碳捕获和隔离。紧凑的低温存储和转移系统。涡流管式空气分离技术用于战斗机飞机。超级绝缘和紧凑的露水,用于空间,紧凑的空间模拟室。
6.6将100 µL的预混合血浆样品加入标记的管中。请勿将样品添加到“ C-”和“ C+”管中。6.7将100 µL的“ C-”和“ C+”加入相应的管中。6.8涡流,最大强度为3-5秒,两次,在1000-3000 rpm的下降3-5秒,向下旋转3-5秒。6.9在65°μ下孵育15分钟,在室温下以13000 rpm的速度向下旋转30秒。6.10将400 µL沉淀缓冲液加入每个管中。 涡流两次涡流最大值3-5秒。 6.11在室温下以13000 rpm的速度将管子旋转15分钟。 6.12删除上清液,以避免与沉淀物接触移液器尖端。 为每个样本使用新提示。 6.13将500 µL的洗涤液№1加入沉淀物。 涡流管3-5秒。 将管子上下扭转管的盖。 有必要单独使用每个管进行此过程。 6.14在室温下以13000 rpm旋转管子5分钟。 6.15删除上清液,以避免与沉淀物接触移液器尖端。 为每个样本使用新提示。 6.16将300 µL的洗涤液№2加入沉淀物,并在墙壁上的洗涤和管子上轻轻地倒入管子。 有必要单独使用每个管进行此过程。 6.17在室温下以13000 rpm的速度旋转管子5分钟。 6.18拆下上清液,避免与沉淀物接触移液器尖端。 为每个样本使用新提示。6.10将400 µL沉淀缓冲液加入每个管中。涡流两次涡流最大值3-5秒。6.11在室温下以13000 rpm的速度将管子旋转15分钟。6.12删除上清液,以避免与沉淀物接触移液器尖端。为每个样本使用新提示。6.13将500 µL的洗涤液№1加入沉淀物。 涡流管3-5秒。 将管子上下扭转管的盖。 有必要单独使用每个管进行此过程。 6.14在室温下以13000 rpm旋转管子5分钟。 6.15删除上清液,以避免与沉淀物接触移液器尖端。 为每个样本使用新提示。 6.16将300 µL的洗涤液№2加入沉淀物,并在墙壁上的洗涤和管子上轻轻地倒入管子。 有必要单独使用每个管进行此过程。 6.17在室温下以13000 rpm的速度旋转管子5分钟。 6.18拆下上清液,避免与沉淀物接触移液器尖端。 为每个样本使用新提示。6.13将500 µL的洗涤液№1加入沉淀物。涡流管3-5秒。将管子上下扭转管的盖。有必要单独使用每个管进行此过程。6.14在室温下以13000 rpm旋转管子5分钟。6.15删除上清液,以避免与沉淀物接触移液器尖端。为每个样本使用新提示。6.16将300 µL的洗涤液№2加入沉淀物,并在墙壁上的洗涤和管子上轻轻地倒入管子。 有必要单独使用每个管进行此过程。 6.17在室温下以13000 rpm的速度旋转管子5分钟。 6.18拆下上清液,避免与沉淀物接触移液器尖端。 为每个样本使用新提示。6.16将300 µL的洗涤液№2加入沉淀物,并在墙壁上的洗涤和管子上轻轻地倒入管子。有必要单独使用每个管进行此过程。6.17在室温下以13000 rpm的速度旋转管子5分钟。6.18拆下上清液,避免与沉淀物接触移液器尖端。为每个样本使用新提示。6.19打开管子,严格严格在65°的沉淀物处干燥5分钟。