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受控液体离子氮碳共渗工艺 (TENIFER
可控液体离子氮碳共渗工艺（TENIFER ® 和 ARCOR ® ）可替代电镀涂层 Dr. Joachim Boßlet Durferrit GmbH，德国曼海姆 Danilo Assad Ludewigs Durferrit do Brasil，巴西迪亚德马 众所周知，由于其工艺特性，如高质量水平的最佳再现性，离子液体中的氮碳共渗可为处理后的部件提供出色的耐磨性、点蚀、咬合、卡死和表面疲劳抗性。但是，防腐效果仍然中等。可以通过在氧化盐熔体中进行后热处理来解决此问题，在氮化层表面产生非常薄但致密的氧化层。结合抛光和浸渍，氧化部件可以具有光滑、美观的黑色表面，从而显著提高盐雾试验中长达 1000 小时的耐腐蚀性，而不会失去上述优点。本文讨论了应用受控液体离子氮碳共渗 (CLIN) 工艺（如 TENIFER ® 和 ARCOR ®）来取代镀铬、镀镍和镀锌等电镀层，因为它们具有出色的耐腐蚀性和耐磨性，并强调了使用它们的经济和环境优势。由于易于操作，不需要复杂的工厂设备。工艺时间相当短，允许灵活工作，而无需为工作负载建立更大的缓冲容量。1.简介 CLIN 是用于钢和铸铁氮碳共渗和氧化的现代环保工艺的家族名称。氮和碳的扩散会产生所谓的化合物层，该层具有非金属特性。与其他涂层相比，该边缘区域的突出优势在于，牢固的化合物扩散在基材上，而不是涂在表面上。因此，它们表现出非常好的附着力，裂纹敏感性明显降低。根据所用材料，这些层的硬度为 800 至 1500 维氏硬度。化合物层由下面的扩散层支撑。CLIN 处理的部件可提供卓越的防磨损、防卡死、防擦伤、防点蚀和防疲劳保护。2.工艺特点 基本上所有类型的铁材料都可以在盐熔体中进行氮碳共渗，无需任何特殊的初步预处理，例如工具钢、低碳钢、阀门钢、奥氏体钢、铸铁或烧结材料。工艺顺序并不复杂。处理温度通常为 570 - 590 °C。经过短暂的预清洁和在空气中预热至 350 - 400 °C 后，将部件在盐熔体中进行氮碳共渗，通常持续 60 - 120 分钟。在特殊情况下，可以使用较低 (480 °C) 或较高 (630 °C) 的温度。对于淬火，使用水、空气、氮气、真空或氧化冷却浴。随后，用热水级联清洁炉料。对于氮碳共渗熔体，仅需控制以下几个参数： • 熔体的化学成分 • 处理温度 • 处理时间 与其他处理介质相比，盐熔体具有极高的氮含量。浸入液体盐浴后，氮碳共渗过程立即开始。几分钟后，已经形成了一个紧凑的
博士学位论文 奥氏体不锈钢的低温渗碳/渗氮——合金成分的影响
奥氏体不锈钢的低温渗碳/氮化 – 合金成分对微观结构和性能的影响 Giulio Maistro 工业与材料科学系 查尔姆斯理工大学 摘要 奥氏体不锈钢是食品、制药、化学、石油和天然气工业等重视耐腐蚀性的应用中最常用的材料之一。然而，低硬度和差的摩擦学性能往往是其应用的障碍。传统表面硬化技术，如高温渗碳（T > 850°C）和氮化（T > 550°C）不适用于这些合金。在这种情况下，富铬碳化物/氮化物在晶界处的快速沉淀会导致合金中的铬消耗并损害耐腐蚀性。自 80 年代中期以来，已经开发出用于奥氏体不锈钢表面硬化的低温热化学处理，包括气体渗碳和等离子氮化。这些过程可以诱导形成无沉淀间隙过饱和亚稳态扩展奥氏体（也称为 S 相），具有优异的硬度和改善的耐磨性，同时保持耐腐蚀性。
BPS4000 附录 - Parker Hannifin
AMS 2759/8 EE B 180601 参见特别说明 SAE 离子渗氮 1.可以使用红外高温计测量温度。2.渗氮温度可以低于回火或时效温度 50 度，前提是芯部硬度不会降低。3. 对于小负载，可以使用至少两个验收测试样本代替四个，前提是每层至少放置一个样本。
BPS4000-附录 A - Parker Hannifin
AMS 2759/8 EE B 180601 参见特别说明 SAE 离子渗氮 1.可以使用红外高温计测量温度。2.渗氮温度可以低于回火或时效温度 50 度，前提是芯部硬度不会降低。3. 对于小负载，可以使用至少两个验收测试样本代替四个，前提是每层至少放置一个样本。
使用earth渗滤液使用微藻（...
微藻是微观群体的一部分，是光合和多方面的分类单元，被称为微藻。它们具有独特的特性，使它们能够在非常规的空间中繁荣发展，并使其适合通常不适合文化增长的领域。这是由于它们能够快速繁殖的能力，很少努力地适应不同的环境（Odjadjare等，2017； Wang等，2014）。除了吸收阳光和二氧化碳外，微藻还消耗了土壤或水生栖息地的营养，它们也是Mosphere中氧气的重要来源（Rizwan等，2018）。微藻不仅有助于通过将二氧化碳转化为生物量来减少温室气体的排放，而且还具有巨大的生物技术潜力。碳水化合物，蛋白质
氮级的纳米级轻萃取器用于氮 -
dia-diamond中的负电荷氮态（NV）中心是光学发射器，其水平结构对外部扰动高度敏感，这使它们成为高度局部的电场和磁场，温度和应变的出色传感器[1-5]。NV中心对于量子计算和通信[6-10]以及量子现象（例如量子纠缠和叠加）的研究非常重要[11，12]。但是，由于钻石中的高折射率（〜2.4），有效地提取NV荧光通常会引起人们的注意，这会导致钻石 - 空气接口 - 空气界面和总内部反射的高反射，对于更大的发射角度而言。以前的尝试从散装钻石中提取更多光的尝试主要涉及钻石本身的蚀刻（一个复杂的制造过程，可能会对NV的特性产生不利影响，例如旋转相干性）[13-19]或仍需要高繁殖的机油免疫性易变到iS i iS i iS iS formimentimperife conformentimplients ISS的相互作用（添加了相应的系统）（添加了相应的系统）（添加了相应的系统）[ - 23]。此外，NV中心周围钻石的精确蚀刻可能是一个重大的挑战，可能会损坏钻石的表面，从而导致化学终止的粗糙度和修改[24]，从而可以降低NV中心的量子性能[25，26]。在这里，我们设计了一个基于硅的纳米级轻萃取器（NLE），它位于平坦的，未完美的钻石表面的顶部，可以增强近地表NV发射器的光输出超过35倍，与未图案相比，将光线引导到狭窄的圆锥
奥氮平
一般奥氮平是一种抗精神病药，在精神分裂症患者中尤其表明，在患有双相情感障碍患者的严重至严重的躁狂发作中。奥氮平是具有抗神经毒素的硫苯并二氮卓类神经肽（包括5-HT 2A/2C，5-HT 3和5HT 3和5HT 6），抗多巴胺（D 1-4），抗肌肉（M 1-5），抗刺激（M 1-5），抗刺激性（M 1-5）。奥氮平的毒性可能同时发生急性和慢性。急性毒性可能是通过服用过量和加速肌肉内（I.M.）管理（“注射后综合征”）（5）。的情况，其中戒烟后与奥氮平发生了醉酒，这可能是由于烟草烟与CYP1A2之间的相互作用（6）。奥氮平比经典的抗精神病药（如氟哌啶醇）具有温和的过量概况。指示口语：
centuro™氮稳定器
1基础数据由巴西联邦联邦圣玛丽亚大学提供，根据Koch Agronomic Services，LLC的研究试验财务支持协议。大学，机构或个人研究人员都没有提及，认可或推荐任何产品或服务。Centuro™未在所有司法管辖区注册或使用。所有其他品牌都是其各自公司的商标。Centuro和Centuro徽标是Koch Acronomic Services，LLC的商标。Koch和Koch是Koch Industries，Inc。的商标。©2024 Koch Agronomic Services，LLC。 保留所有权利。Koch和Koch是Koch Industries，Inc。的商标。©2024 Koch Agronomic Services，LLC。保留所有权利。