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World File Search System烧蚀
维克拉姆-1 火箭第二级试射成功
第 2 级在将运载火箭从大气阶段过渡到外层空间的深真空阶段起着至关重要的作用，可以精确高效地将其推向目的地。Kalam-250 采用高强度碳复合火箭发动机，配有固体燃料和高性能乙烯-丙烯-二烯三元共聚物 (EPDM) 热保护系统 (TPS)。它还具有碳烧蚀柔性喷嘴，可实现精确的推力矢量控制。Vikram-1 标志着印度首次私人轨道火箭发射，此前 Vikram-S 于 2022 年 11 月进行了亚轨道太空发射。它展示了印度在太空技术和探索方面不断进步的能力。
控制低温共烧陶瓷收缩以实现无约束烧结
摘要——低温共烧陶瓷 (LTCC) 在烧制过程中的收缩是 LTCC 制造中最难控制的特征之一，因为许多因素都会影响结果。胶带制造商给出的收缩率不能完全转移到准备、使用和设备不完全一致的生产环境中。因此，可预测的收缩模型对于按照规格制造 LTCC 设备至关重要。这项工作的目的是使用强大的实验设计 (DOE) 技术为 Ferro L8 胶带开发此类模型。有四个因素不同：堆叠厚度、设备表面、施加的压力和层压过程中的温度。在这些实验中，其他因素（例如操作员、层压时间或烧制曲线）保持为固定值。结果变量是层压质量和 x、y 和 z 方向的收缩。发现叠层质量主要受叠层厚度和叠层表面积相互作用的影响，而对于 z 方向收缩，这种相互作用以及叠层温度是重要因素，最后对于横向收缩，叠层厚度、表面积和温度是主要影响因素。建立了 z 方向和横向收缩的数值模型。这项工作加强了对 LTCC 收缩的理解，并允许 Ferro L8 用户正确补偿收缩布局。
从各种植物提取物中绿色合成银纳米粒子及其应用：简要回顾
在这种方法中，他们将基础材料限制在舟皿内，并在炉子的中心点蒸发成载气。以前，使用蒸发或冷凝方法可以制备 Ag、Au、PbSO 4、CdS 和富勒烯纳米颗粒。使用管式炉合成 AgNPs 有几个缺点 [13]。为了达到一致的工作温度，传统管式炉需要消耗数百千瓦的能量，并需要数十分钟的预热时间。银纳米颗粒确实是用较少的金属块体溶液烧蚀制备的 [14]。因此，与其他常规方法相比，激光烧蚀在溶液中不发生化学反应的情况下生成金属胶体具有优势。因此，可以通过这种方法生产天然胶体，以期对类似的包装有益 [15]。
优化绝缘体薄膜的双层剥离抗蚀剂工艺
利用 5G 延迟优势实现的 VCSEL 应用部署可以通过使用商业化技术来遵循行业发展时钟速度而受益。[1] 根据功率输出，VCSEL 器件可以根据沉积材料厚度和结构进行大致分类。[2] 本研究量化了与参考金属化膜铝最相关的双层结构特征，以便有效使用。它基于这些发现探索了成功使用常见金属氧化物绝缘体 (SiO 2 / Al 2 O 3 ) 双层处理所需的多元优化，各向同性溅射沉积厚度为 100nm 至 250nm。提出了一个表征关键变量的模型。此外，它还介绍了一种新的高温双层工艺，使用负像抗蚀剂，能够在高温绝缘体沉积期间保持稳定性。本研究确定了制造成功双层的尺寸目标，用于溅射绝缘体，适用于工艺优化，以促进不断发展的 III-V 应用。介绍
光子空间推进的前景和物理机制
电磁辐射是太空中丰富的能源，可为行星际和恒星际任务提供温和而持久的推力。微型激光和太阳能推进平台的早期成功证实了它们在近地和深空探索中的潜力，尽管实际实现可靠的光子设备并非易事。出于对太空探索的兴趣，本简短报告概述了这一新兴领域的最新成就。我们重点介绍了几种通过光子-物质相互作用产生推力的光致机制，例如光子压力和烧蚀、光梯度力、光诱导电子发射等，这些机制可能会对太空推进产生技术影响。最后，我们概述了这些机制在实际应用中面临的一些关键挑战和可能的解决方案，并提出了光子推进领域未来发展的分类和指导原则。
SRM喷嘴绝缘子的航空航天裤可用性，
在大约30年的时间里，固体火箭电动机（SRM）的喷嘴将人造丝的航空航天级用作碳织物加固的前体，用于用作烧蚀性绝缘体的酚类复合材料。人造丝一直是行业的中流型，现代喷嘴设计一直取决于Car-bon，织物/酚类或石墨织物/酚类组合的特性。多年来，工业一直取决于唯一的源供应商。现有的供应商北美人造丝公司是该国最后尚存的人造丝制造商。像许多航空航天供应商一样，它受到国防采购中的削减的影响，并计划删除航空航天级人造丝的生产。目前，生产正在继续进行生命类型购买的订单。这些命令将在1996年底之前完成，届时，持续灯丝rayon的国内来源将消失。
杂环有机化合物缓蚀作用的量子化学研究
腐蚀会损坏所有材料，因此必须更换和检查相关费用。因此，对新型腐蚀抑制剂材料的需求增加。不同材料的腐蚀抑制率不同，但有机化合物对各种合金和金属的水腐蚀抑制效率很高。在 O、N 和 S 存在的情况下，这种效率会提高。当同一化合物中同时存在 S 和 N 原子时，分子会产生很强的抑制作用。本文研究了 1,3,4-噻二唑分子和几种由不同取代基组成的有机化合物（如 R 1 和 R 2 ）的电子结构。它们与 1,3,4-噻二唑环结合在一起，得到九种不同的衍生物。使用高斯程序在 6-311G++（d，p）基组和 Becke 三参数混合（B3LYP）水平上进行量子计算（密度泛函理论，DFT）。本研究的目的是确定几种杂环有机化合物的化学行为并了解腐蚀抑制过程。
多尺度混合制造：体积打印与两种技术的结合
最近，一种名为体积打印 (VP) 的新型基于光的制造方法已成为此类应用的一种有前途的技术，它能够在几秒钟内打印复杂的厘米大小的模型。[26,27] 最近的研究表明，使用从玻璃到生物聚合物等材料，可以创建中空、可灌注结构，并可能针对中尺度血管系统。[28–31] 然而，与上述所有方法一样，VP 也无法覆盖从 µ m/亚 µ m 到 cm 的分辨率范围，因此目前将其应用限制在特征 > 100–200 µ m 的微流体结构上。另一种基于光的方法双光子烧蚀 (2PA) 则提供了互补功能，虽然打印时间和构造尺寸有限，但达到了所有生物制造方法中最高的分辨率（≤ 1 µ m）。 [8] 2PA 是基于高强度脉冲激光诱导的多光子电离，[32,33,34] 并且已被探索用于各种应用，从“纳米手术”到形成细胞指导微通道。[35–41]
采用湿法钪蚀刻在硅基板上形成硬掩模
如今，微电子技术需要寻找新材料，包括用于创建结构的掩模。中间硬掩模策略是实现微电子制造中光刻和蚀刻之间良好平衡的关键问题之一。微电子和光伏技术中一个有趣的挑战是在 Si 衬底上创建间距垂直取向的硅阵列，用于多功能半导体器件。制造这种结构仍然是一个严重的技术问题，需要寻找新的方法和材料。在这项工作中，我们建议使用钪作为硅上的新硬掩模材料，因为它具有高抗等离子化学蚀刻性和低溅射系数。我们已经证明，对厚度为几纳米的钪层进行湿法蚀刻可用于在硅上获得分辨率高达 4 微米的图案结构，这对于湿法蚀刻方法来说是一个很好的结果。在选定的等离子蚀刻条件下，与其他金属掩模相比，钪是一种具有极佳抗性的硅掩模，蚀刻速率最低。因此，钪硬掩模可以为形成不同的微尺度地形图案开辟新的可能性。
koh湿蚀刻下的gan纳米氏菌的刻度机制
alpes，ltm，Grenoble F-38054，法国 * erwine.pargon@cea.fr，Univ。Grenoble Alpes，CNRS，LTM，17 Rue des Mardyrs，38054 Cedex 09法国Grenoble，法国摘要摘要本研究提出了通过在上衣的室内饮用量的策略，该策略通过与上衣相结合的室友eTch fat Chip Chore to Chore Choh toper fore the toper the toper fore the notch facking Koh weats face face face the the gan支柱。的确，KOH溶液中的gan蚀刻是一个各向异性过程，这意味着它允许在宏观尺度上出现稳定的面，而原子过程（例如踩踏）驱动湿蚀刻的基本机制在微观尺度上驱动湿蚀刻的基本机制。我们的研究强调了形状（圆形或六角形，与M平板或A平板对齐）的关键作用，以及硬面膜在确定所得的结晶刻面形成及其相关的粗糙度方面的粗糙度。此外，它强调了等离子体图案后的GAN支柱剖面（重入，直，锥形）的重要性，因为它们会强烈影响随后的湿蚀刻机制。最终，该文章证明，可以通过在等离子蚀刻后在略微倾斜的GAN曲线上使用室温湿KOH（44 wt％）来实现平滑的M型面，并结合使用六边形M的Masks。