莱布尼茨 IHP 莱布尼茨高性能微电子研究所 Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik 地址 Im Technologiepark 25 15236 Frankfurt (Oder) 网站:www.ihp-microelectronics.com 联系人 Dr. René Scholz(MPW 和服务)电子邮件:scholz@ihp-microelectronics.com 电话:+49 335 5625 647 传真:+49 335 5625 327
2 2401 Brewer Driver,Rolla,MO 65401,美国 * 通讯作者的电子邮件:vikram.turkani@novacentrix.com 摘要 临时键合和脱键合 (TB/DB) 工艺已成为晶圆级封装技术中很有前途的解决方案。这些工艺为晶圆减薄和随后的背面处理提供了途径,这对于使用 3D 硅通孔 (TSV) 和扇出晶圆级封装等技术实现异质集成至关重要。这些对于整体设备小型化和提高性能至关重要。在本文中,介绍了一种新颖的光子脱键合 (PDB) 方法和相应的键合材料。PDB 通过克服与传统脱键合方法相关的许多缺点来增强 TB/DB 工艺。PDB 使用来自闪光灯的脉冲宽带光 (200 nm – 1100 nm) 来脱键合临时键合的晶圆对与玻璃作为载体晶圆。这些闪光灯在短时间间隔(~100 µs)内产生高强度光脉冲(高达 45 kW/cm 2 )以促进脱粘。通过成功将减薄(<70 μm)硅晶圆从玻璃载体上脱粘,证明了 PDB 在 TB/DB 工艺中的可行性。对减薄晶圆和载体的脱粘后清洁进行了评估。通过每个闪光灯提供均匀、大面积照明(75 mm x 150 mm),并且能够串联灯以增加 PDB 工具的照明面积,PDB 方法为晶圆级和面板级封装技术提供了一种高通量、低成本的脱粘解决方案。关键词光子剥离、闪光灯、临时键合和脱粘、临时键合材料、晶圆级封装。
在大多数湿法蚀刻、CMP、电镀和其他晶圆清洗操作中,晶圆上暴露于湿法化学处理步骤的区域是由光刻掩模操作定义的非常特殊的区域。因此,在评估湿法化学工艺的复杂性和挑战性时,必须考虑所制造集成电路特征的尺寸和几何复杂性。虽然半导体通常由直径一般为 200 毫米或 300 毫米、厚度约为 800 微米的晶体硅晶圆制成,但单个集成电路器件结构通常具有以纳米为单位的关键尺寸,因此属于分子尺度。器件特征(而非整个晶圆)的尺寸和材料复杂性对湿法化学处理提出了挑战。
胶体硅二氧化硅NF 9.50流动剂/崩解链梭酮NF 42.00解体微晶纤维素NF 6.00裂解镁固醇nf 12.50润滑
1计算机科学与工程,1海得拉巴技术与管理学院,印度海得拉巴。 摘要:晶圆,薄的半导体切片对于微电子设备至关重要,尤其是在综合电路(ICS)中,在各种行业(例如计算,太阳能电池和光学)中起着基本作用。 我们创建了一种使用Python,Flask和Pycharm的机器学习模型,以及随机的森林和XG增强分类器,以预测需要基于传感器输入来替换Wafers。 晶圆故障检测对于半导体产生至关重要,通过识别非功能晶圆来提高制造产量。 数据集包括晶圆名称和590个传感器值列,最后一列指示“好/坏”状态,以批量进行分析。 两个类别+1和-1分别表示工作条件和更换的需求,从而确保有效识别和预测有故障的晶圆,而不会影响其他资源。 索引项 - 晶圆,集成电路,计算,机器学习模型,故障检测,传感器输入,分类,替换。1计算机科学与工程,1海得拉巴技术与管理学院,印度海得拉巴。摘要:晶圆,薄的半导体切片对于微电子设备至关重要,尤其是在综合电路(ICS)中,在各种行业(例如计算,太阳能电池和光学)中起着基本作用。我们创建了一种使用Python,Flask和Pycharm的机器学习模型,以及随机的森林和XG增强分类器,以预测需要基于传感器输入来替换Wafers。晶圆故障检测对于半导体产生至关重要,通过识别非功能晶圆来提高制造产量。数据集包括晶圆名称和590个传感器值列,最后一列指示“好/坏”状态,以批量进行分析。两个类别+1和-1分别表示工作条件和更换的需求,从而确保有效识别和预测有故障的晶圆,而不会影响其他资源。索引项 - 晶圆,集成电路,计算,机器学习模型,故障检测,传感器输入,分类,替换。
弗劳恩霍夫 ENAS 和开姆尼茨大学微技术中心,科技园区 3,09126 开姆尼茨,德国 弗劳恩霍夫 IZM-ASSID,Ringstrasse 12,01468 莫里茨堡,德国 ErzM-Technologies UG,科技园区 1,09126 开姆尼茨,德国
1 乌法国立航空技术大学先进材料物理研究所,450008 乌法,俄罗斯 2 圣彼得堡国立大学创新工程应用先进块体纳米材料力学实验室,198504 彼得霍夫,圣彼得堡,俄罗斯 3 阿尔托大学应用物理系,00076 阿尔托,埃斯波,芬兰 4 NRC 库尔恰托夫研究所理论与实验物理研究所,117218 莫斯科,俄罗斯 5 诺曼底大学,UNIROUEN,鲁昂 INSA,CNRS,材料物理组,76000 鲁昂,法国