XiaoMi-AI文件搜索系统
World File Search System穆瓦
穆拉卡木，库佐伊瓦穆拉和雷蒙德·J·科尔
建筑构造是一个极具能源的过程，对环境造成了巨大的损失。因此，促进对环境友好的可持续建筑的责任。在1990年代，为了有效地实现这一目标，发达国家朝着开发评估工具（例如BREEAM（BRE*环境评估方法））的发展越来越多。今天，世界各地开发的各种环境评估工具已成为可持续建筑发展的社会运动的关键组成部分。Casbee的开发（建筑环境效率的全面评估系统）始于2000年。十年后，被称为Casbee家族的评估系统现在包括二十多个工具，特定于建筑物到城市地区。因其清晰的概念而认可，Casbee在政府机构，行业和学者中产生了强烈的兴趣。这促使工具进一步多样化，这些工具允许评估各种建筑物类型，端点和目标。从行政支持到设计支持，物业评估和建筑品牌，系统化的Casbee工具可实现广泛的应用程序。Casbee最重要的特征是所有工具都是通过统一概念始终如一地开发和组织的。很明显，如果没有这样的概念，就很难实现系统化的一组工具。在促进可持续建筑物时，卡斯比已成为具有社会意义的行业标准工具。但是，其用户群中的相应增长导致一些初次用户发现Casbee系统及其众多工具有些复杂且难以理解。同时，卡斯比（Casbee）获得了广泛的全球兴趣，并积极地在海外积极进展。为了解决此类问题，以及为全球用户的利益，本文档旨在为Casbee系统结构提供易于理解的介绍。建筑评估工具在各种应用中使用了不同的利益相关者 -
即时发表经办代理: David Moreno (大卫穆锐农) Open Sky ...
业界精英调查其它要点（ 2024 年 7 月进行） - 74% 的受访者认为，曲线形状的 逆向 光刻技术（ curvilinear ILT ）对非 EUV 的 193i 前沿节点有 用 —— 其中 29% 的人强烈同意这一说法，而去年这一比例为 24% 。 - 55% 的受访者表示，前沿节点的一些关键层已经在使用 逆向 光刻技术（ ILT ），这一比例较去 年的 46% 和两年前的 35% 有所上升。 - 光罩制造中的软件基础设施仍然是生产曲线形状光罩的最大挑战。 - 对深度学习应用的预测有所延迟，今年有 54% 的受访者预测深度学习将在 2025 年之前成为 光罩制造过程中任何环节的竞争优势，而去年这一预测为 2024 年。 “ 我们期待在 SPIE 光罩技术会议期间度过激动人心的一周，届时 eBeam Initiative 将举办第 15 届年度光罩会议，展示半导体生态系统对这一合作论坛的持续支持， ”eBeam Initiative 的 的主办 管理公司 D2S 的首席执行官 藤村 (Aki Fujimura) 表示。 “ 现在是加入光罩行业的绝佳时机，近年 来该行业取得了强劲增长 —— 这证明了光罩社区内杰出人才的贡献，也彰显了该行业在推动半 导体创新方面的重要性。今年 eBeam Initiative 业界精英 调查的绝大多数参与者 —— 他们代表了 行业内顶尖的商业和技术专家 —— 都认为这一增长趋势将在 2024 年继续，这无疑是个好消息。 ” About The eBeam Initiative 关于 eBeam Initiative （电子束倡议团） eBeam Initiative 是一个致力于推广和倡导电子束技术在半导体制造全新应用的团体；为有关 电 子束技术的教育和促进活动 提供相应的论坛。 eBeam Initiative 的目标是增加电子束技术应用在 半导体制造各领域中的投资；降低电子束技术应用的障碍，能够使更多集成电路设计完成，并 且更快投进市场成为可能。会员公司 , 涵盖整个半导体生态系统，包括 : aBeam Technologies; Advantest; Alchip Technologies; AMD; AMTC; Applied Materials; Artwork Conversion; ASML; Averroes.ai; Cadence Design Systems; Canon; CEA-Leti; D 2 S; Dai Nippon Printing; EQUIcon Software GmbH Jena; ESOL; EUV Tech; Fractilia; Fraunhofer IPMS; FUJIFILM Corporation; Fujitsu Semiconductor Limited; GenISys GmbH; GlobalFoundries (GF); Grenon Consulting; Hitachi High-Tech Corporation; HJL Lithography; HOLON CO., LTD; HOYA Corporation; IBM; imec; IMS CHIPS; IMS Nanofabrication AG; JEOL; KIOXIA; KLA; Micron Technology; Multibeam Corporation; NCS; NuFlare Technology; Petersen Advanced Lithography; Photronics; QY Mask; Samsung Electronics; Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation (SMIC); Siemens EDA; STMicroelectronics; Synopsys; TASMIT; Tokyo Electron Ltd. (TEL); TOOL Corporation; Toppan Photomask Corporation; UBC Microelectronics; Vistec Electron Beam GmbH and ZEISS. eBeam Initiative 面向和欢迎所有电子工业的公司和协会加盟。细节请查看 www.ebeam.org .
80.444 瓦伦施塔特 - 下特尔岑 - 穆尔格
Murg，火车站 11 54 12 28 12 58 13 28 14 28 15 28 15 58 16 28 17 00 17 28 Unterterzen，火车站 11 59 12 33 13 03 13 33 14 33 15 33 16 03 16 33 17 03 17 05 17 33 18 03 Mols，火车站 12 01 12 35 13 05 13 35 14 05 14 35 15 05 15 35 16 05 16 35 17 05 17 35 18 05 Walenstadt，火车站 12 06 12 40 13 10 13 40 14 10 14 40 15 10 15 40 16 10 16 40 17 10 17 40 18 10
评估尼日利亚阿达马瓦州穆比的网格连接的PV发电厂的生存能力
本文基于技术经济分析以及尼日利亚东北部联邦理工学院穆比（FPM）主校园的1 MW太阳能光伏（PV）发电厂的环境影响。光伏电厂将太阳辐射转换为电力，可以用作满足房屋，设备和所有第三级机构的日常能源需求的来源。RetScreen专家软件用于评估安装网格连接的PV发电厂的技术经济和环境可持续性。研究结果表明，每年的太阳辐射为5.74 kWh /m 2 /天，估计最大的年能量产量为1,550.98 MWH。发现3月的最大能源产量为146.89 MWh。该项目的利用能力和经济可持续性由良好的内部收益率（IRR）为11.9％，正净现有价值（NPV）为681,164美元。拟议的PV发电厂的投资回收期为11。4年。最大温室气体（GHG）的排放减少为670.9 TCO 2，相当于61.7公顷的森林吸收碳排放。
安东尼奥·穆内拉少将
2022 年 9 月 20 日——最近，MG Munera 担任第 20 化学、生物、放射、核、爆炸物 (CBRNE) 司令部的第八任指挥官。MG Munera 部署了...