哺乳动物基因组中DNA甲基化的主要功能是抑制转座元素(TES)。在癌细胞中通常观察到的广泛的甲基化损失导致TE的表观遗传抑制丧失。衰老过程的特征是甲基甲基的变化。然而,这些表观基因组改变对沉默的影响及其功能后果尚不清楚。为了评估衰老中TES的表观遗传调节,我们在人类乳腺腔上皮细胞(LEPS)中介绍了DNA甲基化(LEPS),这是一种与年龄较大的乳腺癌有关的关键细胞谱系 - 来自年龄较大的乳腺癌。我们在这里报告说,几个TE亚家族在正常LEP中充当调节元素,并且这些子集的一部分显示出随着年龄的增长而显示一致的甲基化变化。在这些TES处的甲基化变化发生在谱系特异性转录因子结合位点,与谱系特异性的丧失一致。主要显示甲基化损失,而CpG岛(CGI)是Polycomb抑制性复合物2(PRC2)的靶标,显示衰老细胞中甲基化的增加。在衰老的LEP中,许多具有甲基化损失的TE都有乳腺癌样品中调节活性的证据。我们还表明,TES的甲基化变化会影响与腔乳腺癌相关的基因的调节。这些结果表明,衰老会导致TES的DNA甲基化变化,从而弥补了维持谱系特异性,并可能增加对乳腺癌的敏感性。
近年来,基于热激活延迟荧光 (TADF) 发射器的高效有机发光二极管 (OLED) 已经实现,但器件寿命需要进一步提高才能用于实际显示或照明应用。在这项工作中,通过调节单层未掺杂器件的光学腔,提出了一种器件设计原理,以实现高效、长寿命的 TADF OLED。通过增加发射层厚度将腔长延长至二阶干涉最大值可拓宽复合区,同时光学输出耦合效率仍然接近较薄的一阶器件。此类器件设计可得到高效稳定的单层非掺杂 OLED,其最大外量子效率为 16%,LT 90 为 452 小时,初始亮度为 1000 cd m − 2 时 LT 50 为 3693 小时,是一阶 OLED 的两倍。进一步证明,OLED 寿命和光强度之间广泛使用的经验关系源自三线态极化子湮没,从而推算出 100 cd m − 2 时的 LT 50 接近 90 000 小时,接近实际背光应用的需求。
图1。(a)通过B型肽组装制备的人造肽纳米层的示意图,在纳米层面上显示HAAD细胞内递送肽,并使用亲和力TAG(即Ni -NTA)封装货物蛋白。n和c分别表示n-和c末端的边。(b)带有NTA和HAAD部分的B型肽的结构。
近年来,眼部成像、药物输送和眼科手术方面的进步使人们能够更好地观察和接触脉络膜上腔。尽管以前人们认为脉络膜上腔只是一个潜在空间,但它可以作为药物输送到后极的途径、青光眼引流装置的出口、临时扣带的位置和假体植入的位置。输送到脉络膜上腔的药物可以在视网膜中达到更高的浓度,同时最大限度地减少前段组织的暴露,从而可能降低青光眼或白内障的风险。最后,先进的多模态成像现在不仅可以更好地了解脉络膜上腔的生理学,还可以在体内监测病理和脉络膜上腔的药物输送。在这里,我们讨论了这个具有潜力的空间在医学和外科应用方面的最新发展。
摘要:对光与物质之间强耦合的研究是研究的重要领域。它的重点不仅源于出现众多引人入胜的化学和物理现象,而且通常是新颖和意外的,而且还源于其为新颖的化学,电子,电子和光子设备设计核心组件设计的重要工具集,例如量子,量子量,量子,量子,激光,放大器,模块化器,传感器,传感器,以及更多。已经证明了各种配置系统和光谱制度的强耦合,每个耦合均具有独特的功能和应用。从这个角度来看,我们将重点关注该研究领域的一个子区域,并讨论超材料和光子频率下的强烈耦合。超材料本身就是电磁谐振器,作为“人工原子”。我们概述了最新进步的概述,并概述了这一跨学科科学的重要和有影响力的领域中可能的研究指示。
加州《可持续地下水管理法》(SGMA)要求限制地下水抽取量,再加上气候变化的影响,正在迫使水资源管理者、农民和社区减少用水量,同时保持农作物产量并提高社会和环境复原力。多效土地再利用是一个有前途的解决方案,它涉及将灌溉农业用地转变为促进节水的用途,并使社区和生态系统受益。在某些情况下,农民可以获得补偿,以将他们的农田转变为其他有益用途,例如公园、栖息地走廊、新的社会经济机会、非灌溉牧场、清洁工业和可再生能源的空间以及野生动物友好的多效补给盆地(EDF 2021;Fernandez-Bou 等人 2023)。农光伏和生态光伏展示了如何通过安装太阳能电池板将清洁能源融入多效益土地再利用项目中,同时转向其他有益活动,例如过渡到耗水量较少的作物、覆盖作物、栖息地恢复和非灌溉牧场。农光伏和生态光伏有助于实现清洁能源生产、能源弹性和节水目标,同时为土地所有者和农民提供额外的收入来源。作为土地管理整体方法的一部分,农光伏和生态光伏代表了创新解决方案,支持农村社区的长期可持续性和弹性并保护其农业遗产(Adeh、Selker 和 Higgins 2018;Sturchio 和 Knapp 2023;Tölgyesi 等人 2023;Warmann、Jenerette 和 Barron-Gafford 2024)。
人们正在考虑在下一代光刻节点中使用 Ta 基吸收体的替代品,以减少 3D 掩模效应并通过相位干涉改善图像调制。低复折射率 (n-ik) 材料可以在比传统吸收体所需厚度更薄的情况下提供相移行为,本质上充当衰减相移掩模 (attPSM) 膜。确定 attPSM 吸收体厚度和随之而来的相位需要确定最佳相移掩模反射率。使用高反射率吸收体进行成像可显示出更好的成像性能。吸收体厚度是在干涉效应导致高吸收体反射率的地方确定的。因此,低折射率 (n) 材料是理想的 attPSM 吸收体候选材料。使用维纳边界和有效介质近似 (EMA) 建模确定的低 - n 材料组合使用吸收体反射率在线空间和接触孔图案针对 NILS 和 MEEF 进行优化。使用反射近场强度成像将接触孔最佳厚度的吸收体候选物与传统的 Ta 基吸收体进行了比较。