氮化硅陶瓷底物在活性金属悬挂(AMB)底物中起着关键作用,用于电动模块,其应用包括电动汽车(EV)和混合电动汽车(HEV)电动机控制的逆变器。这些基材在功率半导体模块操作过程中具有散热的函数。同时,底物越细,其热扩散率越高,功率半导体模块的操作效率越大。增加的电动汽车和HEV的采用量正在推动针对高功率设计的功率半导体模块的更多使用,从而最终导致对较薄的底物的需求不断增长,这些底物具有很大的热耗散性能。然而,缺乏评估比0.5毫米的底物热扩散性的确定方法,这在确保测量结果的一致性方面引起了挑战。这项联合研究邀请AIST及其对评估方法的广泛了解以及NGK及其先进的陶瓷底物技术,以收集数据以量化初步过程,这会影响底物热扩散率的测量。这将使我们能够验证评估高性能薄底物的方法,这些底物甚至比0.5毫米薄,例如尚未根据现有日本工业标准(JIS)定义的方法,从而有助于高度准确的测量数据和评估方法的未来标准化。
“越小越软”是强度的逆尺寸依赖性,违背了“越小越强”的原则。它通常由表面介导的位移或扩散变形引起,主要存在于一些超小尺度(几十纳米以下)的金属材料中。在这里,利用离子束辐照的表面改性,我们在更大尺寸范围(< ∼ 500 纳米)的共价键、硬而脆的材料非晶硅(a-Si)中实现了“越小越软”。它表现为从准脆性破坏到均匀塑性变形的转变,以及在亚微米级范围内随着样品体积的减小而屈服应力的降低。提出了一个硬核/超塑性壳的分析模型来解释人为可控的尺寸相关软化。这种通过离子辐照的表面工程途径不仅对于调整小尺寸非晶硅或其他共价结合非晶态固体的强度和变形行为特别有用,而且对于非晶硅在微电子和微机电系统中的实用性也具有实际意义。© 2023 由 Elsevier Ltd 代表《材料科学与技术杂志》编辑部出版。
使用各种悬臂探针针尖多次探测具有薄焊盘铝 (Al)(厚度小于 0.7µ)的 IC 键合焊盘。探针标记由具有各种针尖直径的实验性高强度探针卡创建。将探针针尖的有限元模型与探针标记擦洗长度相匹配,以更学术地了解随着探针参数的变化会发生什么。使用此模型进行模拟将有助于未来进行物理实验困难或成本高昂的情况。实验中的键合焊盘包括各种安森美半导体电路焊盘下 (CUP) 结构,该结构具有 Al 金属化和二氧化硅 (SiO 2 ) 互连,先前已证明与传统 IC 键合焊盘相比具有更强的抗开裂能力。随着未来产品的焊盘缩小,更小的球尺寸和键合接触面积是可取的,但这会加剧探针标记的任何不利影响,因为键合下方的相对面积百分比会增加。实验评估包括对各种探针标记范围内不同球直径的金 (Au) 球键合的键合拉力强度 (BPS) 和键合剪切力 (BS),以开始检查引线键合中惯常的“探针标记面积”最大限制的有效性。数据表明,大而深的探针标记确实会导致键合球提升失败,尤其是对于未优化的键合配方。看来探针标记深度,而不是面积,是键合可靠性中最不利的因素。在更受控制和“温和”的制造情况下,预计不会出现与探针标记键合相关的问题。
1992 年在砂拉越的实地考察是在重要个人和组织的帮助下完成的。首先,我要衷心感谢砂拉越博物馆对我的实地研究的监督,特别是现任馆长 Peter Kedit 博士提供的实用建议和当地知识。我还要感谢其他乐于助人的博物馆工作人员,即 Tazudin Mohtar、Clement Sabang、Tuton Kaboy、Magdaline Kuih 和图书馆工作人员。砂拉越旅游协会(特别是 Rose Tan)和环境与旅游部旅游协调员 Denis Hon 提供了有关旅游的宝贵信息。我要感谢古晋的许多商业旅行社和导游,他们允许我参加 Than 长屋之旅,邀请我分享旅游餐,并分发游客调查表。我特别感谢亚洲陆上服务公司的 Ngu Ka Sen 的支持,这对我在 Nanga Stamang 的实地研究有很大帮助。
nipa sap是一种甜美的半透明饮料,起源于NIPA Palm(NYPA Fruticans)树。在砂拉越,NIPA SAP成为NIPA糖或本地称为古拉Apong的原材料。但是,NIPA SAP经历了自然发酵,从而改变了NIPA SAP的特性,包括味道,香气和质量。发酵的NIPA SAP是白色的,具有不愉快的香气和味道,这使其无法接受。因此,它不再适合制作NIPA糖。这项研究旨在确定NIPA PALM SAP从新鲜到发酵的物理化学和微生物变化。允许NIPA SAP在室温下进行自然发酵56天。在第一个星期每24小时收集样本,在随后的一周中每周一次。使用高性能液相色谱(HPLC)分析了所选的生理化学品质,而使用扩散板分析了微生物含量。新鲜的NIPA SAP显示出最高的糖(334.2±12 g/l),蔗糖作为主要糖(231.5±4.3 g/l),其次是果糖(42.1±1.2 g/L)和葡萄糖(29.7±3.2 g/L)。新鲜的NIPA SAP还具有最低的乙醇(0.08±0.03 g/L),乳酸(1.09±0.06 g/L)和乙酸(0.05±0.01 g/L)以及微生物和酵母菌浓度。后来,乙醇在第4天(9.80±0.1 g/l)开始积聚,最高峰为第21天(19.1±2.01 g/l)。微生物浓度也会改变,影响NIPA SAP的质量。由于NIPA SAP在砂拉越人民的生活方式中起着如此重要的作用,因此这项研究可以更好地了解其发酵过程的微生物学和生物化学。因此,应考虑正确处理新鲜NIPA SAP的适当计划,以确保增值产品生产的质量。
图片列表 图 1.1:层流分离泡(Gad-El-Hak 提供)....................................................... 4 图 1.2:层流分离泡压力分布(Gad-El-Hak 提供)....................................... 7 图 1.3:表面油流 – 示例(Lyon 提供)................................................................. 9 图 1.4:表面粗糙度的影响(Gad-El Hak 提供)....................................................... 13 图 1.5:翻折翼型和未翻折翼型的阻力比较(Lyon 提供).................................... 14 图 2.1:改进的 S5010 顶部 MCL(Shkarayev 提供)......................................................... 21 图 2.2:n 阶多项式 MCL 的示例............................................................................. 22 图 2.3:翼型形状参数的描述............................................................................. 23 图 2.4:n 阶 MCL 比较...................................................................................................... 24 图 2.5:带定义多边形和控制点的贝塞尔曲线............................................................... 26 图 2.6:带定义多边形和控制点的贝塞尔 MCL ............................................................ 28 图 2.7:贝塞尔 MCL 比较......................................................................................................... 28 图 2.8:贝塞尔翼型前缘形状细节......................................................................................... 30 图 2.9:贝塞尔翼型后缘形状细节.........................................................................................
摘要:二维材料有望在下一代电子和光电设备中发挥重要作用。最近,由于其独特的物理特性和潜在的应用,扭曲的双层石墨烯和过渡金属二核苷引起了极大的关注。在这项研究中,我们描述了光学显微镜的使用来收集二硫化钼(MOS 2)的化学蒸气沉积(CVD)的色彩空间,并应用了语义分割卷积神经网络(CNN)的应用,以准确且快速地识别MOS 2 Flakes的厚度。第二个CNN模型经过训练,以在CVD生长的双层薄片的扭曲角度提供精确的预测。该模型利用了一个数据集,该数据集包含10,000多个合成图像,其中包括从六角形到三角形形状的几何形状。通过第二次谐波产生和拉曼光谱执行了对扭曲角度深度学习预测的后续验证。我们的结果引入了一种可扩展的方法,用于自动检查扭曲的原子薄的CVD生长双层。关键字:扭曲角度,过渡金属二核苷(TMD),深度学习,OpenCV,拉曼
将光限制到原子尺度的能力对于光电子学和光学传感应用的开发以及纳米级量子现象的探索至关重要。厚度仅为几个原子层的金属纳米结构中的等离子体可以实现这种限制,尽管亚纳米级的制造缺陷阻碍了实际发展。在这里,通过预图案化硅基板并外延沉积厚度仅为几个原子层的银膜制造的原子级薄结晶银纳米结构中展示了窄等离子体。具体而言,对硅晶片进行光刻图案化以引入按需横向形状,对样品进行化学处理以获得原子级平坦的硅表面,并外延沉积银以获得具有指定形态的超薄结晶金属膜。按照此程序制造的结构可以对近红外光谱区域的光场约束进行前所未有的控制,这里通过观察具有极端空间约束和高品质因子的基阶和高阶等离子体来说明这一点,这些因子反映了金属的晶体性。本研究在空间约束程度和品质因数方面取得了实质性的改进,这将有助于设计和利用原子级纳米等离子体器件用于光电子、传感和量子物理应用。
