X射线Ptychography的未来(一种连贯的衍射成像方法)有望实现的分辨率和实验效率,同时探测了越来越复杂的样品的特征。这是通过复杂的成像方法启用的,结合了高度优化的硬件,软件和过程。在本文中,解决了X射线ptychography实验的几个方面,强调了通过使用多个光束实现的增强的多功能性和有效性。从对纳米化的全面理解开始,讨论了聚焦X射线光学的生产。具体而言,开发了直接作品的岩性过程,并描述了其细节,特别强调了在50 kV加速度电压下在化学上半弹性抗性的情况下进行电子束光刻。此过程既多功能又精确,最终促进了菲涅尔区板(FZP)的制造。因此,论文报告了几个并联的几个FZP的应用,用于生成多个X射线梁以执行Ptychography。特别是研究了对标准Ptychographic方法的新型扩展。对多光束X射线PTYChography的研究始于紧密间隔的FZP,以线性阵列排列在同一芯片上,模拟和推进了先前关于该主题的研究,并证明了自制硬件的准备就绪,以实现更复杂的实现。最值得注意的是,FZP彼此之间的接近48 µm,并且最多可以使用三个梁,从而将视场(FOV)扩展了三倍。接下来,引入了一种新颖的设置,在多光束X射线ptychography的背景下促进了适应性的概念,这要归功于堆叠和机动的FZP。在测量之间将焦点光学元件移动的可能性赋予上述设置前所未有的多功能性。对于实验,样本更改或检测条件的每个新迭代,光学元件不必重新设计。足以使用各自的电机并将设置适应新的测量值。金纳米晶簇用各种梁的间距成像,从而在样品上同样间隔区域进行成像,并将FOV扩展到两个倍。这种设置的成功导致其在更复杂的测量中实现,最终导致表现出同时的多光束和多块Ptychography,这两个从未被放在一起。两层样品,与单光束Ptychographichographic测量值相比,层到层的分离范围从1400 µm降至100 µm,分辨率没有损害。最后,FZP的聚焦作用与策划
使用叠层扫描技术,样品被聚焦在微芯片上小点上的相干同步加速器 X 射线束照射,衍射光束由像素检测器在远场检测。样品逐步穿过光束,直到扫描到整个感兴趣的区域。扫描期间照亮的区域需要重叠,导致步长小于光束直径。叠层扫描技术需要过采样,因为检测器只测量强度。使用迭代算法,仍然可以检索衍射同步辐射的相位信息。根据衍射图案、光束形状以及样品与检测器之间的距离,该算法可以将收集的数据重建为高分辨率图像,无论是 2D 还是 3D。简而言之,该算法计算样品后面的波场到达探测器的路径,其中波场的振幅被像素探测器记录的强度数据替换。之后,更新波场并进行另一次迭代。当感兴趣的区域深埋在结构内部时,可能需要事先准备样品。因此,在某些情况下,必须通过聚焦离子束铣削使感兴趣的区域可用于叠层成像。
地点:主楼,TOHOKU大学环境研究研究生院[主题演讲] 13:00 ~13:45“ X射线Ptychography对半导体设备的纳米结构成像”
具有轨道角动量(OAM)的电磁波是用于光学通信,量子技术和光学镊子应用的强大工具。最近,它们引起了人们日益增长的兴趣,因为可以利用它们在手性分子培养基和磁性纳米结构中检测特殊的螺旋二分性效应。在这项工作中,我们使用螺旋区域板上产生的不同拓扑充值订单的极端紫外线OAM光束在种子自由电子激光器的纳米结构对象上进行单次射击。通过控制ℓ,我们演示了如何改善约30%的inimageresolutionWitheStocontocontocontocontoContocontoContoconalGaussianBeamiltion.lissultExtendSendSthecabababapabableftersiqualsthecapablextendSthecapibilitys of ThisextendSthecapibilitys of Cooherent decraction diffraction Techniques of Cooherent diffraction Techniques,并逐步实现较大的级别范围(以下较高的时间范围)(下面是更高的范围)。©2024 Optica Publishing Group根据Optica Open Access Publishing的条款
抽象的量子纠缠和挤压具有显着改进的相位估计和成像,在经典限制之外的干涉测定设置中。然而,对于在经典域中广泛使用的一类广泛的非接化相成像/检索方法,例如Ptychography和Ptychagraphy和Diffractive Imaging,仍然缺少量子优势的证明。在这里,我们通过利用纠缠以增强非干涉量学设置的纯相对象的成像来填补这一差距,仅测量对自由传播场的相位效应。此方法基于所谓的“强度方程式运输”,是定量的,因为它提供了相位的绝对值而没有对象的先验知识并以宽字节模式运行,因此它不需要耗时的光栅扫描。此外,它不需要入射光的空间和时间连贯性。除了通过对象辐照的固定数量的光子的一般改进,从而更好地歧视小细节外,我们还证明了定量阶段估计中不确定性的明显降低。尽管我们提供了可见频谱中特定方案的实验证明,但这项研究也为在不同波长的应用(例如X射线成像)中的应用铺平了道路,其中减少光子剂量至关重要。
在本文中,我们在超薄的磁合金和多层上,在不透明的SI底物上应用桌面,超快,高谐波生成(HHG)来测量元素特异性铁磁共振(FMR)。我们证明了连续的波带宽高达62 GHz,并承诺将其扩展到100 GHz或更高。该实验室规模的仪器使用超快,极端粉状物(EUV)的光检测FMR,光子能量跨越了最相关的杂志元素的M-边缘。射频频率梳子发生器用于产生微波激发,该微波激发本质上同步与EUV脉冲,其正时抖动为1.1 ps或更高。我们应用该系统来测量多层系统以及Ni-FE和Co-FE合金中的动力学。由于该仪器以反射模式运行,因此它是测量和成像磁态动力学和主动设备在桌面上任意基板上的自旋传输的里程碑。较高的带宽还可以测量具有高磁各向异性的材料,以及纳米结构或纳米电视中的铁磁体,抗铁磁铁和短波长(高波形)自旋波。此外,EUV的相干性和短波长将能够使用动态纳米级无透镜成像技术(例如相干差异成像,Ptychography和全息图)扩展这些研究。
首先引入时,单光子计数检测器在同步基因上重塑晶体学。他们的快速读数速度启用了,例如,旋转角度的无快速数据收集和切片,并增强了新实验技术(如Ptychography)的开发。在最佳条件下,单光子计数检测器提供无限的动态范围,图像噪声仅受传入光子的泊松统计限制。从单个光子中计算脉冲,从本质上讲是使探测器如此成功的原因,也会引起主要缺点,这是由于模拟前端脉冲堆积而导致的高光子弹药效率的丧失。要充分利用衍射限制的光源,下一代单光子计数器需要以与增加的伏特量相同的数量级来提高其计数率能力。此外,由于较高的频道,需要快速帧速率(几个kHz)才能应对较短的停留时间。带有多个比较器和计数器的检测器架构可以为能量分辨成像打开新的可能性,而像素间交流可以克服收费共享和降低像素角效率损失引起的问题。将单光子计数检测器耦合到高Z传感器,以进行硬X射线检测(> 20 keV)和低增益的雪崩二极管(LGADS)以进行软X射线,以利用全部辐射光谱的新光源的增加。在本文中,我们提出了提高第四代同步源的单光子计数检测器性能的可能策略,并将它们比较它们以对集成检测器充电。