光学干扰过滤器用于现代光学元件的大多数区域,因为它们允许修改高精度光学系统中光传播和运输的参数:反射,传输,吸收,吸收,相位和极化,脉冲持续时间,脉冲持续时间等[1-4]。因此,这些光学特性是由波长,入射角和极化的函数控制的。例如,今天,我们合成和制造了许多光学功能,例如抗反射器,极化器和束分式拆分器,二分色过滤器,镜像和窄带过滤器,多PIC过滤器,高和低通滤波器,高通滤波器,逆滤波器,逆滤波器,chir滤波器和其他滤镜。合成(或设计或反问题)技术从数学和算法的角度取得了很大发展,到现在可以将任何任意光学(强度)函数与多层合构成的点。同时,制造技术已经发生了很大的发展,因此现在可以生产几百个薄层不同材料的过滤器,每一层的厚度从几nm到几百nm不等。某些问题自然保持开放,例如(除其他)相位和宽带特性,大块和微材料以及非光学特性。用于旗舰应用,例如引力波[5,6]或陀螺仪的镜子,而空间光学器件,当前的挑战是打破PPM屏障,即确保通过吸收和散射造成的总损失少于入射通量的100万。尽管假想索引(几个10-6)和多层组件中的低粗糙度(nm的一部分),但尚未达到这种艺术状态。应注意,这些损失也与组件的激光通量抗性直接相关,具体取决于照明状态[7]。在最低的光学损失的最后背景下,这项工作已经进行了。在所需的精度水平上,我们需要分析吸收机制的细节,考虑到这种吸收被转移到热传导,对流和辐射的过程中。对这种光诱导的热辐射的分析[8-10]至关重要:首先,它使我们能够追踪非常低的吸收水平(目前难以测量10-6以下),这可以允许确定