XiaoMi-AI文件搜索系统
World File Search System升高温度
在升高温度下
图S2显示了一个简化的MIC阶段的通用模型，用于n = 1.75的FSI插入。如主文本中指定的，可以看到在石墨烯层之间有或没有intercalant的画廊的交替。多个插入阶段的共存将导致使用公式1.如果占用石墨烯层之间的每个空间，则N等于1，并且X射线衍射图上的反射00n+1应该消失。这是对PF 6-阴离子的观察到的，但是，该过程的性质仍然可以讨论，并计划对此进行详细研究。我们介绍了两种情况的MIC期限。观察到的现象的另一个原因可能是主要文本中指定的两种机制的混合物：层间空间的顺序和随机统计填充。随着温度升高，可能会预期客人物种的随机分布，因为熵因子对系统的吉布斯自由能的贡献应相应增加。此外，还必须注意以下事实：根据其初始层间间距，由温度引起的互化机制的变化可能有所不同，这将代表一个有趣且广泛的方向探索。阴离子扩散
升高温度石墨机械测试
免责声明这一信息是作为由美国政府机构赞助的工作的帐户准备的。美国政府或其任何机构，或其任何雇员均未对任何信息，设备，产品或过程披露或代表其使用将不会侵犯私人拥有的私有权利。参考文献以商品名称，商标，制造商或其他方式指向任何特定的商业产品，流程或服务，并不一定构成或暗示其认可，建议或受到美国政府或其任何机构的支持。本文所表达的作者的观点和观点不一定陈述或反映美国政府或其任何机构的观点和意见。