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World File Search System压印
压印印刷
本文介绍了冲击打印的概念，这是一种新的增材制造 (AM) 方法，通过机器人注射过程聚集可塑性离散元素（或软颗粒）。软颗粒之间的结合源于加速阶段获得的动能转化为冲击时的塑性变形。因此，软颗粒之间不需要额外的粘合材料；材料本身的内聚力和自锁能力充当主要粘合剂。可以调节注射力和随之而来的冲击力，并产生不同的压实率。通过线性注射材料，我们将沉积设备与生产的部件分离，并为沉积过程提供灵活性，使其有可能在任何方向或不受控制的表面上构建。冲击打印生产的部件具有介于砌砖（离散构建块的组装）和 3D 打印（计算机控制的材料沉积或固化）之间的形式特征。它提出了一种新颖的数字制造方法和传统连续 AM 工艺的替代方案。本文通过一系列原型实验验证了冲击打印方法，这些实验采用机器人制造装置进行，该装置由一个六轴机械臂组成，该机械臂上安装有材料发射装置，可以形成、定向和投射软颗粒。我们将解释和演示其原理，并定义制造参数，例如发射力、发射距离和由此产生的聚集体的特征。
纳米压印光刻用光刻胶
micro resist technology GmbH 自 1999 年以来一直为纳米压印光刻 (NIL) 提供量身定制的光刻胶配方。我们产品的独特关键特性是出色的成膜和压印性能以及出色的图案保真度和等离子蚀刻稳定性。我们的纳米压印光刻胶主要用作干蚀刻掩模，用于将图案转移到各种基板上，例如 Si、SiO 2、Al 或蓝宝石。
可溶解模板纳米压印光刻
图 1. (a) DT-NIL 制造工艺示意图，显示 1) 在模板表面沉积 0.1 mL/cm 2 的丙烯酸树脂，2) 以 500 rpm 的速度旋涂丙烯酸树脂 60 秒（可选，参见支持信息 S.2），3) 在室温下干燥丙烯酸树脂，4) 从母版表面脱模模板，5) 得到可溶解的丙烯酸树脂模板。 (b) 原始（母版）Neotibicen pruinosus 蝉翅膀的照片，(c) 原始翅膀上纳米柱特征的相应扫描电子显微照片 (SEM)，使用原子力显微镜 (AFM) 测量，平均柱高 (hav g) = 332 ± 28 nm 和平均直径 (dav g) = 148 ± 8 nm。 20 (d) 从 (b) 中所示的原始翼母版压印的可溶解模板的照片，对应的 (e) SEM 显示用 AFM 测量的 h avg = 337 ± 32 nm 和 d avg = 146 ± 8 nm。 (f) 用 AFM 获得的原始翼上的纳米柱和在模板上创建的纳米孔的高度和 (g) 直径分布。
纳米压印光刻引导的自组装...
[a] 孟志强博士、姚思聪博士、朱宁博士、黄伟英教授 香港浸会大学化学系 中国香港九龙塘窝打老道 电子邮箱： wai-yeung.wong@polyu.edu.hk [b] 孟志强博士、俞志强教授 深圳大学化学与环境工程学院低维材料基因组计划 中国广东省深圳市学院路 电子邮箱： zqyu@szu.edu.cn [c] 黄伟英教授黄伟雄 香港理工大学 应用生物及化学科技学系 中国香港特别行政区 红磡 香港理工大学深圳研究院 中国深圳 518057 电子邮箱： wai-yeung.wong@polyu.edu.hk [d] I. Manners 教授 维多利亚大学 化学系 加拿大不列颠哥伦比亚省维多利亚市 V8P 5C2 [e] 李国刚博士 超精密加工技术国家重点实验室及工业及系统工程学系 中国香港特别行政区 红磡 [f] 梁智伟博士 应用物理学系 中国香港特别行政区 红磡 香港理工大学
卷对卷纳米压印的综合方法......
摘要 在本文中，我们提出了一种新颖的数学模型，该模型在一定程度上复制了一般卷对卷纳米压印光刻 (R2RNIL) 制造工艺的工作方式。我们首先确定制造商在提高生产率和控制制造过程方面面临的一些当前挑战和问题。接下来，我们描述和分析构成典型 R2RNIL 工艺的主要物理现象以及用作涂层的聚合物的典型材料特性，并制定符合物理定律的数学模型。然后，我们提出一些数值模拟，这些模拟定性地再现了实验中发现的几个特征，这些特征是在使模型适合数值计算的线性化假设下发现的。此外，我们确定了影响 R2RNIL 的一些关键工艺参数和材料特性，以及它们如何用于材料设计和工艺控制。最后，我们将讨论未来的工作和一些可以在一般框架范围内研究的应用。 关键词：多相多尺度建模、粘弹性材料、光化学键合、混合物力学
纳米压印激子极化子超表面
摘要：激子极化子代表了一种有前途的平台，它结合了光子和电子系统的优势，可用于未来的光电设备。然而，由于制造方法成本高、复杂，与为微电子开发的成熟 CMOS 技术不兼容，因此它们的应用目前仅限于实验室研究。在这项工作中，我们开发了一种创新、低成本且与 CMOS 兼容的方法来制造大表面极化子设备。这是通过热纳米压印直接图案化卤化物钙钛矿薄膜来实现的。结果，我们在室温下观察到厘米级上质量因子 Q ≈ 300 的高度均匀的极化子模式。令人印象深刻的是，该工艺提供了高可重复性和保真度，因为同一个模具可以重复使用 10 次以上，以将钙钛矿层压印在不同类型的基板上。我们的研究结果可以为生产在室温下运行的低成本集成极化子设备铺平道路。
利用非透明模具通过紫外辅助热压印对 SU-8 光刻胶进行微结构化
在本研究中，我们探索了一种通过使用不透明模具（如镍模具）进行热压印在 SU-8 光刻胶中形成图案的快速低成本工艺。该工艺的主要障碍之一是，未固化的 SU-8 即使在接近室温下也具有极好的可成形性，但由于模具不透明，样品在压印过程中无法暴露在紫外线下，因此会导致压印图案在脱模期间和脱模后坍塌。为了解决这个问题，用紫外线、热量和 O 2 等离子体对未固化的 SU-8 光刻胶进行预处理以控制其可成形性，并应用于热压印测试，以在复制保真度方面相互比较。结果，在给定的压印条件和模具尺寸下，用紫外线预处理 8 秒的 SU-8 样品产生最佳复制质量，并且我们可以在没有石英模具的情况下成功复制 SU-8 光刻胶中的微图案。与传统的 UV 压印工艺相比，该工艺具有模具成本更低、脱模更容易、气泡更少等潜在优点。2008 Elsevier BV 保留所有权利。
美国半导体自主控制产品清单
曝光 f.2。套刻精度大于1.5纳米且小于（优于）等于或小于4.0纳米的压印光刻设备。 f.2.压印光刻设备 3B993.f.2 具有 1.5 纳米或以上、4 纳米或以下（或更好）的重叠精度。导出至实体列表脚注5时
软辊压印工艺快速制作紫外固化聚合物微透镜阵列
本文报道了一种基于软辊冲压工艺的紫外固化聚合物微透镜阵列快速制造创新技术。在该方法中，通过在微透镜阵列的塑料母版中浇铸聚二甲基硅氧烷 (PDMS) 预聚物来制造具有微透镜阵列腔体的软辊。塑料母版采用气体辅助热压法在带有微孔阵列的硅模具上对聚碳酸酯 (PC) 薄膜进行聚碳酸酯 (PC) 薄膜压印来制备。软辊上的微透镜阵列腔首先用液态紫外固化聚合物填充。辊在移动的透明基板上滚动和冲压。形成微透镜阵列图案。同时，基板上的图案在穿过滚动区时被紫外光辐射固化。在本研究中，设计、建造和测试了具有紫外曝光能力的辊压设备。测量、分析了复制的微透镜阵列的复制质量、表面粗糙度和光学特性，结果令人满意。这项研究展示了软辊冲压在连续快速批量生产中的潜力。 2006 Elsevier BV 保留所有权利。
Amva Denk 5/80 毫克
1. 药品名称 Amva Denk 5/80 mg Amva Denk 5/160 mg Amva Denk 10/160 mg 2. 定性和定量组成 活性物质：氨氯地平和缬沙坦 Amva Denk 5/80 mg：每片薄膜包衣片含 5 mg 氨氯地平（苯磺酸氨氯地平）和 80 mg 缬沙坦。 Amva Denk 5/160 mg：每片薄膜包衣片含 5 mg 氨氯地平（苯磺酸氨氯地平）和 160 mg 缬沙坦。 Amva Denk 10/160 mg：每片薄膜包衣片含 10 mg 氨氯地平（苯磺酸氨氯地平）和 160 mg 缬沙坦。有关完整的辅料列表，请参阅第 6.1 节。 3. 药物形式 薄膜包衣片 Amva Denk 5/80 mg：圆形、双凸面、黄色薄膜包衣片，一面压印“I”，另一面压印“LD”。 Amva Denk 5/160 mg：椭圆形、双凸面、黄色薄膜包衣片，一面压印“2”，另一面压印“LD”。 Amva Denk 10/160 mg：椭圆形、双凸面、白色薄膜包衣片，一面压印“3”，另一面压印“LD”。 4. 临床特点 4.1 治疗指征 治疗原发性高血压。Amva Denk 适用于单药治疗氨氯地平或缬沙坦后血压控制不佳的成年人。